人工干擾部位對下頜側(cè)方運(yùn)動中切點(diǎn)運(yùn)動軌跡的影響

人工干擾部位對下頜側(cè)方運(yùn)動中切點(diǎn)運(yùn)動軌跡的影響

作為一個完整的功能整體，口腔系統(tǒng)的每個組成部分都將相互影響，干擾不僅協(xié)調(diào)，而且配套反應(yīng)。因此，對其宏觀功能的評估非常重要，具有臨床指導(dǎo)意義。關(guān)于口頜系統(tǒng)病理生理方面的研究,最早始于對咬合關(guān)系的研究,然后是對顳下頜關(guān)節(jié)的研究,再是對頜面部肌系統(tǒng)的研究。咬合關(guān)系是下頜運(yùn)動的前部控制因素,異常咬合關(guān)系可通過引發(fā)干擾和早接觸而導(dǎo)致下頜功能運(yùn)動受損。而矯正或改善上述咬合關(guān)系不良的治療手段均能不同程度地減輕早接觸和干擾,使顳下頜關(guān)節(jié)得到保護(hù)[1~7]。本實(shí)驗(yàn)通過人工預(yù)置方法,在受試者一側(cè)下頜牙咬合面上形成咬合高點(diǎn),通過ArcusDigMa三維下頜運(yùn)動軌跡描記儀,檢查受試者下頜側(cè)方運(yùn)動中切點(diǎn)的運(yùn)動軌跡隨!干擾部位變化而發(fā)生的改變。分析側(cè)方!干擾發(fā)生部位對下頜切點(diǎn)在X軸(矢狀軸)、Y軸(垂直軸)、Z軸(水平軸)上的運(yùn)動軌跡的具體影響,并根據(jù)得到的結(jié)果,分析下頜側(cè)方運(yùn)動中!干擾部位與下頜切點(diǎn)在X軸、Y軸和Z軸運(yùn)動軌跡的相關(guān)性,建立直線回歸方程。1材料和方法1.1入選和排除標(biāo)準(zhǔn)選擇志愿者50例,男22例,女28例,年齡22~34歲。入選標(biāo)準(zhǔn):有完整的自然牙列,中性關(guān)系,無錯,無明顯磨耗,前牙正常覆、覆蓋或者I度深覆、I度深覆蓋,無顳下頜關(guān)節(jié)區(qū)疼痛,各咀嚼肌區(qū)無壓痛,無單側(cè)咀嚼習(xí)慣,無下頜運(yùn)動障礙。1.2軌跡描記儀記錄下頜運(yùn)動軌跡:采用ArcusDigMa三維下頜運(yùn)動軌跡描記儀(KaVo公司)和電子計算機(jī)。下頜運(yùn)動軌跡分析:采用ArcusDigMa下頜運(yùn)動分析軟件(KaVoElektrotechnischesWerkGmbH)。1.3實(shí)驗(yàn)方法1.3.1實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｐ偷闹苽鋵γ恳晃粚?shí)驗(yàn)對象取上、下頜全牙列印模,然后以超硬石膏灌注,作為實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｐ汀?.3.2近中無砂混凝土的調(diào)整在下頜模型一側(cè)的中切牙和側(cè)切牙的切嵴上,尖牙和第一、第二前磨牙的頰尖上,第一、第二磨牙的近中頰尖上,分別用光固化樹脂制作獨(dú)立的、高度為1mm的咬合高點(diǎn)。為了確保咬合高點(diǎn)的高度為1mm,每個咬合高點(diǎn)均反復(fù)用卡尺測量和金剛砂低速調(diào)磨。在模型上用咬合紙檢查上、下頜牙的咬合關(guān)系,并在架上進(jìn)一步調(diào)整,使加高的點(diǎn)與上前牙舌窩或后牙中央窩原來的咬合印記接觸。1.3.3維下頜運(yùn)動軌跡(1)為了保證實(shí)驗(yàn)條件的統(tǒng)一,要求受試者采取端坐位,雙目平視,眶耳平面與水平面平行。(2)采用ArcusDigMa三維下頜運(yùn)動軌跡描記儀,采集受試者自然狀態(tài)下下頜切點(diǎn)在下頜前伸運(yùn)動中的運(yùn)動軌跡。(3)采用ArcusDigMa三維下頜運(yùn)動軌跡描記儀,采集人工前伸干擾粘固在受試者口內(nèi)時(人工!干擾點(diǎn)分別置于一側(cè)下頜的中切牙、側(cè)切牙的切嵴,尖牙、第一前磨牙、第二前磨牙的頰尖,第一磨牙、第二磨牙的近中頰尖)下頜切點(diǎn)在下頜前伸運(yùn)動中的運(yùn)動軌跡,每次記錄僅在受試者口內(nèi)放置一個干擾點(diǎn)。1.3.4模型的標(biāo)志以下頜模型兩側(cè)第二磨牙遠(yuǎn)中面的連線為α軸,以通過2個中切牙近中接觸點(diǎn)并與α軸垂直的線為β軸(圖1)。1.3.5模型的測量用直尺測量每一個干擾形成部位到β軸的垂直距離,記錄為A值;干擾形成部位到α軸的垂直距離,記錄為B值(圖1)。1.4建立直線回歸方程使用SAS9.0軟件包分析下頜切點(diǎn)的運(yùn)動軌跡和干擾部位的相關(guān)性。以A值和B值為自變量x1和x2,下頜切點(diǎn)在X軸(矢狀軸)、Y軸(垂直軸)和Z軸(水平軸)的運(yùn)動距離為應(yīng)變量?,建立直線回歸方程。以A值(x1)和B值(x2)作為固定項,病例作為隨機(jī)項,擬合直線回歸的混合效應(yīng)模型:?i=α+β1x1i+β2x2i+δi+εi,δi為代表隨機(jī)效應(yīng)的隨機(jī)項,εi為個體(即每個病例)的殘差項。2結(jié)果2.1干擾部位與側(cè)方運(yùn)動的關(guān)系(1)干擾放入受試者口內(nèi)后,下頜向干擾側(cè)和非干擾側(cè)的側(cè)方運(yùn)動中下頜切點(diǎn)在X軸的運(yùn)動軌跡均無顯著規(guī)律,干擾部位無明顯相關(guān)性(圖2)。(2)干擾放入受試者口內(nèi)后,下頜向干擾側(cè)和非干擾側(cè)的側(cè)方運(yùn)動中下頜切點(diǎn)在Y軸的運(yùn)動軌跡均無顯著規(guī)律,與干擾部位無明顯相關(guān)性(圖3)。(3)干擾放入受試者口內(nèi)后,隨干擾部位后移,下頜向干擾側(cè)和非干擾側(cè)的側(cè)方運(yùn)動中下頜切點(diǎn)在Z軸的運(yùn)動距離均有逐漸增大的趨勢(圖4)。2.2直線回歸混合效應(yīng)模型(1)用DUNNETT法檢驗(yàn)各人工干擾組與無人工干擾組側(cè)方運(yùn)動中下頜切點(diǎn)在X軸的運(yùn)動距離,結(jié)果無顯著性差異,P>0.05。隨干擾部位后移,向干擾側(cè)運(yùn)動時,切點(diǎn)在X軸的運(yùn)動距離(即前伸距離)與A值和B值線性相關(guān)的P值分別為0.7205和0.2732;向非干擾側(cè)運(yùn)動時的P值分別為0.3039和0.1362。因此,側(cè)方運(yùn)動時,下頜切點(diǎn)在X軸的運(yùn)動距離不論向干擾側(cè)或非干擾側(cè)移動,均與A值或B值無顯著線性相關(guān)關(guān)系,無法得出直線回歸混合效應(yīng)模型。(2)用DUNNETT法檢驗(yàn)各人工干擾組與無人工干擾組側(cè)方運(yùn)動中下頜切點(diǎn)在Y軸的運(yùn)動距離,結(jié)果無顯著性差異,P>0.05。隨干擾部位后移,向干擾側(cè)運(yùn)動時,切點(diǎn)在Y軸的運(yùn)動距離(即垂直距離)與A值和B值線性相關(guān)的P值分別為0.2217和0.3934;向非干擾側(cè)運(yùn)動時的P值分別為0.4066和0.1405。因此,側(cè)方運(yùn)動時下頜切點(diǎn)在Y軸的運(yùn)動距離不論向干擾側(cè)或非干擾側(cè)移動,均與A值或B值無顯著線性相關(guān)關(guān)系,無法得出直線回歸混合效應(yīng)模型。(3)用DUNNETT法檢驗(yàn)各人工干擾組與無人工干擾組側(cè)方運(yùn)動中向干擾側(cè)運(yùn)動時頜切點(diǎn)在Z軸的運(yùn)動距離,結(jié)果有顯著性差異,P<0.05。隨干擾部位后移,向干擾側(cè)運(yùn)動時,切點(diǎn)在Z軸的運(yùn)動距離(即側(cè)移距離)與A值和B值線性相關(guān)的P值分別為0.0037和0.4532;向非干擾側(cè)運(yùn)動時的P值分別為<0.0001和0.0086。因此,向干擾側(cè)運(yùn)動時,下頜切點(diǎn)在Z軸的運(yùn)動距離與A值有顯著線性相關(guān)關(guān)系,而與B值無顯著線性相關(guān)關(guān)系。得出的直線回歸混合效應(yīng)模型:向非干擾側(cè)運(yùn)動時,下頜切點(diǎn)在Z軸的運(yùn)動距離與A值和B值均有顯著線性相關(guān)關(guān)系。得出的直線回歸混合效應(yīng)模型:應(yīng)用配對t檢驗(yàn)分析下頜切點(diǎn)向非干擾側(cè)和干擾側(cè)運(yùn)動時在Z軸的運(yùn)動距離,結(jié)果顯示,向干擾側(cè)運(yùn)動時,下頜切點(diǎn)在Z軸的運(yùn)動距離大于向非干擾側(cè)運(yùn)動時,差異有顯著意義(P<0.01)。3下頜運(yùn)動的血常規(guī)劃:向干擾側(cè)運(yùn)動時的直線回歸混合效應(yīng)模型下頜運(yùn)動是在、咀嚼肌及顳下頜關(guān)節(jié)共同參與下進(jìn)行的一種復(fù)雜的三維運(yùn)動。在口腔修復(fù)治療中,通常采用下頜運(yùn)動軌跡描記儀確定頜位關(guān)系、描記咀嚼運(yùn)動和下頜邊緣運(yùn)動以及研究下頜切點(diǎn)運(yùn)動軌跡與髁突運(yùn)動軌跡的關(guān)系等,因其能提供準(zhǔn)確的下頜運(yùn)動軌跡資料,并為臨床口腔修復(fù)技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展奠立重要的理論和實(shí)踐基礎(chǔ)。干擾是引發(fā)咬合紊亂的重要致病因素之一,干擾存在時,通過神經(jīng)肌系統(tǒng)的調(diào)節(jié)反饋?zhàn)饔?使下頜在運(yùn)動過程中發(fā)生微小的偏斜,本實(shí)驗(yàn)旨在討論下頜側(cè)方運(yùn)動時對!干擾的反應(yīng)情況。本實(shí)驗(yàn)采用的ArcusDigMa三維下頜運(yùn)動軌跡描記儀是近年推出的記錄下頜運(yùn)動軌跡的儀器,精確度高,適用于修復(fù)體咬合質(zhì)量的分析。實(shí)驗(yàn)結(jié)果提示,干擾對側(cè)方運(yùn)動中下頜切點(diǎn)的運(yùn)動軌跡有顯著影響,隨干擾部位后移,不論向干擾側(cè)或向非干擾側(cè)運(yùn)動,下頜切點(diǎn)在水平軸的運(yùn)動距離均有逐漸增大的趨勢,并呈現(xiàn)一定的線性規(guī)律,進(jìn)一步將干擾部位分解為到牙弓中線的距離A值和到牙弓末端的距離B值后,得到向干擾側(cè)運(yùn)動時的直線回歸混合效應(yīng)模型:y^=8.2262+0.1082x1,δ=0.1786(P<0.001);向非干擾側(cè)運(yùn)動的直線回歸混合效應(yīng)模型:y^=9.1098+0.07099x1-0.02650x2,δ=0.05989(P<0.001)。在得到的混合效應(yīng)模型中,均與A值(自變量x1)有明顯的相關(guān)性。這與在分析人工咬合高點(diǎn)對下頜開閉口與前伸運(yùn)動的影響時的結(jié)果類似,得到的混合效應(yīng)模型中均只與A值有明顯的相關(guān)性,且干擾對上述3種下頜運(yùn)動的顯著影響均發(fā)生在該運(yùn)動中移動幅度最大的軸上,即開閉口運(yùn)動的垂直軸、前伸運(yùn)動的矢狀軸和側(cè)方運(yùn)動的水平軸。推測干擾到牙弓中線的距離對下頜運(yùn)動的影響更為顯著,因此,干擾在牙列中的頰舌向關(guān)系在導(dǎo)致咬合病中的作用更應(yīng)引起重視。這也印證了Enosawa發(fā)現(xiàn)的研磨型后牙咀嚼習(xí)慣者的下頜息止頜位置比鉸鏈型者更容易受到咬合高點(diǎn)影響的結(jié)論。與現(xiàn)代學(xué)咬合治療的三分法則中將咬合高點(diǎn)在牙列中的頰舌向關(guān)系作為選擇采用調(diào)、固定修復(fù)或正畸治療中哪一種方案的依據(jù)相類似。本實(shí)驗(yàn)應(yīng)用配對t檢驗(yàn)比較下頜切點(diǎn)向非干擾側(cè)和干擾側(cè)運(yùn)動時在水平軸的運(yùn)動距離,發(fā)現(xiàn)向干擾側(cè)運(yùn)動時大于向非干擾側(cè)運(yùn)動時,差異在統(tǒng)計學(xué)上具有顯著意義(P<0.01)。下頜作側(cè)方運(yùn)動時,工作側(cè)下頜后牙頰尖的頰斜面沿著上頜后牙頰尖的舌斜面滑行,非工作側(cè)下頜后牙頰尖的舌斜面沿著上頜后牙舌尖的頰斜面滑行,這些斜面都是下頜側(cè)方運(yùn)動的引導(dǎo)斜面和制約因素。本實(shí)驗(yàn)結(jié)果可能是由于當(dāng)干擾側(cè)作為工作側(cè)時,人工干擾點(diǎn)的存在使得下頜后牙頰尖頰斜