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分析化學(xué)智慧樹知到課后章節(jié)答案2023年下廣東工業(yè)大學(xué)廣東工業(yè)大學(xué)
第一章測(cè)試
按照測(cè)定原理,分析化學(xué)常分為化學(xué)分析和儀器分析兩大類。()
A:錯(cuò)B:對(duì)
答案:對(duì)
按被測(cè)組分含量來(lái)分,分析方法中常量組分分析指含量()。
A:<0.1%B:>1%C:<1%D:>0.1%
答案:>1%
第二章測(cè)試
下列表述中,最能說(shuō)明隨機(jī)誤差小的是()。
A:標(biāo)準(zhǔn)差大B:仔細(xì)校正所用砝碼和容量?jī)x器等C:與已知的質(zhì)量分?jǐn)?shù)的試樣多次分析結(jié)果的平均值一致D:高精密度
答案:高精密度
以下情況產(chǎn)生的誤差屬于系統(tǒng)誤差的是()。
A:滴定管讀數(shù)最后一位估測(cè)不準(zhǔn)B:稱樣時(shí)砝碼數(shù)值記錯(cuò)C:稱量過(guò)程中天平零點(diǎn)稍有變動(dòng)D:指示劑變色點(diǎn)與化學(xué)計(jì)量點(diǎn)不一致
答案:指示劑變色點(diǎn)與化學(xué)計(jì)量點(diǎn)不一致
下列表述中,最能說(shuō)明系統(tǒng)誤差小的是()。
A:仔細(xì)校正所用砝碼和容量?jī)x器等指示劑變色點(diǎn)與化學(xué)計(jì)量點(diǎn)不一致B:標(biāo)準(zhǔn)差大C:高精密度D:與已知的質(zhì)量分?jǐn)?shù)的試樣多次分析結(jié)果的平均值一致
答案:與已知的質(zhì)量分?jǐn)?shù)的試樣多次分析結(jié)果的平均值一致
下列各項(xiàng)定義中不正確的是()。
A:總體平均值就是真值B:相對(duì)誤差是絕對(duì)誤差在真值中所占的百分比C:絕對(duì)誤差是測(cè)定值與真值之差D:偏差是指測(cè)定值與平均值之差
答案:總體平均值就是真值
當(dāng)對(duì)某一試樣進(jìn)行平行測(cè)定時(shí),若分析結(jié)果的精密度很好,但準(zhǔn)確度不好,可能的原因是()。
A:試樣不均勻B:稱樣時(shí)某些記錄有錯(cuò)誤C:使用未校正過(guò)的容量?jī)x器D:操作過(guò)程中溶液嚴(yán)重濺失
答案:使用未校正過(guò)的容量?jī)x器
用指示劑法確定終點(diǎn)時(shí),由于指示劑選擇不當(dāng)所造成的誤差屬于偶然誤差。()
A:錯(cuò)B:對(duì)
答案:錯(cuò)
對(duì)偶然誤差來(lái)說(shuō),大小相等的正負(fù)誤差出現(xiàn)的機(jī)會(huì)均等。()
A:對(duì)B:錯(cuò)
答案:對(duì)
在分析數(shù)據(jù)中,所有的“0”均為有效數(shù)字。()
A:對(duì)B:錯(cuò)
答案:錯(cuò)
第三章測(cè)試
化學(xué)計(jì)量點(diǎn)是指()。
A:待測(cè)物質(zhì)與滴定液體積相等的那一點(diǎn)B:滴定液和被測(cè)物質(zhì)質(zhì)量完全相等的那一點(diǎn)C:滴入滴定液20.00ml時(shí)D:滴定液與被測(cè)組分按化學(xué)反應(yīng)式反應(yīng)完全時(shí)的那一點(diǎn)E:指示劑發(fā)生顏色變化的轉(zhuǎn)折點(diǎn)
答案:滴定液與被測(cè)組分按化學(xué)反應(yīng)式反應(yīng)完全時(shí)的那一點(diǎn)
在滴定管上讀取消耗滴定液的體積,下列記錄正確的是()。
A:20.10mlB:20.100mlC:20mlD:20.1ml
答案:20.10ml
滴定終點(diǎn)一定和計(jì)量點(diǎn)相吻合。()
A:對(duì)B:錯(cuò)
答案:錯(cuò)
溶解樣品時(shí),加入30mL蒸餾水,此時(shí)可用量筒取。()
A:對(duì)B:錯(cuò)
答案:對(duì)
第四章測(cè)試
下列各組組分中不屬于共軛酸堿對(duì)的是()。
A:HCl和Cl-B:NH3和NH2-C:H2CO3和CO32-D:HSO4-和SO42-
答案:H2CO3和CO32-
濃度相同的下列物質(zhì)水溶液的pH最高的是()。
A:NaClB:NH4ClC:Na2CO3D:NaHCO3
答案:Na2CO3
已知H3PO4的pKa1=2.12,pKa2=7.20,pKa3=12.36。今有一磷酸鹽溶液,測(cè)得其pH=7.0,則其主要存在形式是()。
A:H3PO4+H2PO4-B:H2PO4-+HPO42-C:HPO42-+PO43-D:H3PO4+HPO42-
答案:H2PO4-+HPO42-
第五章測(cè)試
配位滴定中,產(chǎn)生金屬指示劑封閉現(xiàn)象的原因是()。
A:指示劑不穩(wěn)定B:MIn配合物溶解度低C:KMIn>KMYD:KMIn<KMY
答案:KMIn>KMY
測(cè)定自來(lái)水的鈣硬度時(shí),應(yīng)將pH控制在什么范圍?Mg2+的干擾用什么方法消除?()。
A:10,配位掩蔽法B:12~13,配位掩蔽法C:12~13,沉淀掩蔽法D:10,沉淀掩蔽法
答案:12~13,沉淀掩蔽法
配位滴定中pH≥12時(shí)可不考慮酸效應(yīng),此時(shí)配合物的條件穩(wěn)定常數(shù)與等于理論穩(wěn)定常數(shù)。()
A:對(duì)B:錯(cuò)
答案:錯(cuò)
用EDTA滴定Cu2+和Fe2+時(shí),均可以用PAN作為指示劑。()
A:對(duì)B:錯(cuò)
答案:對(duì)
第六章測(cè)試
對(duì)Ox-Red電對(duì),25℃時(shí)條件電位()等于()。
A:+B:+C:+D:+
答案:+
以下電對(duì)中,條件電位隨離子強(qiáng)度增高而增高的是()。
A:Fe3+/Fe2+B:Fe(CN)63-/Fe(CN)64-C:Sn4+/Sn2+D:Ce4+/Ce3+
答案:Fe(CN)63-/Fe(CN)64-
在含有Fe3+和Fe2+的溶液中,加入下述何種溶液,Fe3+/Fe2+電對(duì)的電位將升高(不考慮離子強(qiáng)度的影響)()。
A:鄰二氮菲B:稀H2SO4C:HClD:NH4F
答案:鄰二氮菲
Fe3+與Sn2+反應(yīng)的平衡常數(shù)對(duì)數(shù)值(lgK)為()
((Fe3+/Fe2+)=0.77V,(Sn4+/Sn2+)=0.15V)
A:2×(0.77-0.15)/0.059B:2×(0.15-0.77)/0.059C:(0.77-0.15)/0.059D:3×(0.77-0.15)/0.059
答案:2×(0.77-0.15)/0.059
當(dāng)兩電對(duì)的電子轉(zhuǎn)移數(shù)均為2時(shí),為使反應(yīng)完全度達(dá)到99.9%,兩電對(duì)的條件電位差至少應(yīng)大于()。
A:0.18VB:0.09VC:0.27VD:0.36V
答案:0.18V
間接碘量法就是以碘作為標(biāo)準(zhǔn)溶液的滴定方法。()
A:錯(cuò)B:對(duì)
答案:錯(cuò)
任意兩電對(duì)都可以通過(guò)改變電對(duì)的濃度來(lái)改變反應(yīng)的方向。()
A:錯(cuò)B:對(duì)
答案:錯(cuò)
K2Cr2O7的標(biāo)準(zhǔn)電極電勢(shì)相對(duì)較低,因此在滴定中一般不受Cl-的影響。()
A:對(duì)B:錯(cuò)
答案:對(duì)
在誘導(dǎo)效應(yīng)中,雖然誘導(dǎo)體參與反應(yīng)變成其它物質(zhì),但它不消耗滴定劑。()
A:對(duì)B:錯(cuò)
答案:錯(cuò)
標(biāo)定KMnO4可采用的基準(zhǔn)物為Na2C2O4或Na2B2O7*10H2O。()
A:錯(cuò)B:對(duì)
答案:錯(cuò)
第七章測(cè)試
以下不屬于產(chǎn)生共沉淀的原因的為:()
A:后沉淀B:生成混晶C:表面吸附D:吸留和包藏
答案:后沉淀
在重量分析中,待測(cè)物質(zhì)中含的雜質(zhì)與待測(cè)物的晶體結(jié)構(gòu)相似、離子半徑相近,在沉淀過(guò)程中往往形成()
A:包藏B:后沉淀C:吸留D:混晶
答案:混晶
用洗滌的方法能有效地提高沉淀純度的是()
A:吸附共沉淀B:混晶共沉淀C:包藏共沉淀D:后沉淀
答案:吸附共沉淀
用BaSO4重量法測(cè)定Ba2+含量,若結(jié)果偏低,可能是由于()
A:沉淀灼燒的時(shí)間不足B:沉淀中含有Fe3+等雜質(zhì)C:沉淀劑H2SO4在灼燒時(shí)揮發(fā)D:沉淀中包藏了BaCl2
答案:沉淀中包藏了BaCl2
在沉淀的過(guò)程中不能使沉淀的溶解度增大的因素是:()
A:同離子效應(yīng)B:酸效應(yīng)C:鹽效應(yīng)D:配位效應(yīng)
答案:同離子效應(yīng)
測(cè)定銀時(shí)為了保證使AgCl沉淀完全,應(yīng)采取的沉淀?xiàng)l件是()
A:加入濃HClB:在冷卻條件下加入NH4Cl+NH3C:加入適當(dāng)過(guò)量的稀HClD:加入飽和的NaCl
答案:加入適當(dāng)過(guò)量的稀HCl
用法楊司法測(cè)定Cl-含量時(shí),所用的指示劑是:()
A:K2CrO4B:鐵銨礬C:吸附指示劑D:金屬指示劑
答案:吸附指示劑
形成的沉淀的類型不僅決定于沉淀的本質(zhì),也決定于沉淀時(shí)的條件。()
A:錯(cuò)B:對(duì)
答案:對(duì)
在重量分析中,影響沉淀純度的主要因素是共沉淀和表面吸附。()
A:對(duì)B:錯(cuò)
答案:錯(cuò)
在重量分析中,沉淀劑直接加入到溶液中的方法稱為均相沉淀法。()
A:對(duì)B:錯(cuò)
答案:錯(cuò)
第八章測(cè)試
氟化鑭單晶膜氟離子選擇電極的膜電位的產(chǎn)生是由于()。
A:氟離子在晶體膜表面進(jìn)行離子交換和擴(kuò)散而形成雙電層結(jié)構(gòu)B:氟離子進(jìn)入晶體膜表面的晶格缺陷而形成雙電層結(jié)構(gòu)C:鑭離子在玻璃膜中移動(dòng)而形成雙電層結(jié)構(gòu)D:氟離子穿透晶體膜而使膜內(nèi)外氟離子產(chǎn)生濃度差而形成雙電層
答案:氟離子進(jìn)入晶體膜表面的晶格缺陷而形成雙電層結(jié)構(gòu)
在電位滴定中,以/V-V作圖繪制滴定曲線,滴定終點(diǎn)為()。
A:/V為零時(shí)的點(diǎn)B:曲線的最小斜率點(diǎn)C:曲線的斜率為零時(shí)的點(diǎn)D:曲線突躍的轉(zhuǎn)折點(diǎn)
答案:曲線的斜率為零時(shí)的點(diǎn)
在電位滴定中,以2/V2-V作圖繪制滴定曲線,滴定終點(diǎn)為()。
A:/V為零時(shí)的點(diǎn)B:2/V2為零時(shí)的點(diǎn)C:2/V2為正值時(shí)的點(diǎn)D:2/V2為負(fù)值時(shí)的點(diǎn)
答案:2/V2為零時(shí)的點(diǎn)
在電位滴定中,以2/V2-V作圖繪制滴定曲線,滴定終點(diǎn)為()。
A:為正值的點(diǎn)B:為零時(shí)的點(diǎn)C:曲線的最小斜率點(diǎn)D:曲線的最大斜率點(diǎn)
答案:曲線的最大斜率點(diǎn)
用離子選擇電極以標(biāo)準(zhǔn)曲線法進(jìn)行定量分析時(shí),應(yīng)要求()。
A:試樣溶液與標(biāo)準(zhǔn)系列溶液中待測(cè)離子的活度一致B:試樣溶液與標(biāo)準(zhǔn)系列溶液的離子強(qiáng)度大于1C:試樣溶液與標(biāo)準(zhǔn)系列溶液中待測(cè)離子的活度系數(shù)一致D:試樣溶液與標(biāo)準(zhǔn)系列溶液的離子強(qiáng)度一致
答案:試樣溶液與標(biāo)準(zhǔn)系列溶液的離子強(qiáng)度一致
第九章測(cè)試
指出下列表述中的錯(cuò)誤()
A:吸收峰隨濃度增加而增大,但最大吸收波長(zhǎng)不變B:在公式中,稱為摩爾吸光系數(shù),其數(shù)值愈大,反應(yīng)愈靈敏C:比色法又稱分光光度法D:透射光與吸收光互為補(bǔ)色光,黃色和藍(lán)色互為補(bǔ)色光
答案:比色法又稱分光光度法
透射比與吸光度的關(guān)系是()
A:lgT=AB:C:D:
答案:
一有色溶液對(duì)某波長(zhǎng)光的吸收遵守比爾定律。當(dāng)選用2.0cm的比色皿時(shí),測(cè)得透射比為T,若改用1.0cm的吸收池,則透射比應(yīng)為()
A:T2B:T/2C:T1/2D:2T
答案:T1/2
符合比爾定律的有色溶液,濃度為c時(shí),透射比為T0,濃度增大一倍時(shí),透射比的對(duì)數(shù)為()
A:2T0B:2lgT0C:T0/2D:(lgT0)/2
答案:2lgT0
有色絡(luò)合物的摩爾吸光系數(shù)()與下述各因素有關(guān)的是()
A:絡(luò)合物的穩(wěn)定性B:比色皿厚度C:入射光的波長(zhǎng)D:有色絡(luò)合物的濃度
答案:入射光的波長(zhǎng)
第十章測(cè)試
原子吸收光譜儀由光源、()、分光系統(tǒng)、檢測(cè)系統(tǒng)等主要部件組成。
A:原子化系統(tǒng)B:空心陰極燈C:輻射源D:電感耦合等離子體
答案:原子化系統(tǒng)
原子吸收光譜是由下列哪種粒子產(chǎn)生的()
A:氣態(tài)物質(zhì)中激發(fā)態(tài)原子的外層電子B:固體物質(zhì)中原子的外層電子C:氣態(tài)物質(zhì)中基態(tài)原子的內(nèi)層電子D:氣態(tài)物質(zhì)中基態(tài)原子的外層電
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