熱壓印光刻技術(shù)的超聲波振動影響課件

熱壓印光刻技術(shù)的超聲波振動影響指導(dǎo)老師：莊承鑫學(xué)生:奈米四甲49714047李庚桓

奈米四甲49714074詹凱捷

奈米四甲49714088鄭育叡

奈米四甲49714089王俊傑熱壓印光刻技術(shù)的超聲波振動影響指導(dǎo)老師：莊承鑫摘要使用到加熱器來維持三種應(yīng)力，此三種應(yīng)力為負(fù)載力、熱應(yīng)力、超聲波震動。在超聲波成型過程中，在加熱器發(fā)展具有熱解石墨或熱解氮化硼。奈米材料選擇的是聚碳酸酯在溫度150℃產(chǎn)生塑料玻璃轉(zhuǎn)移點。超聲波振動的效果在尺寸越小的情況下，真的提升成型過程中的精度。摘要使用到加熱器來維持三種應(yīng)力，此三種應(yīng)力為負(fù)載力、熱應(yīng)力、引言奈米壓印技術(shù)由S.Y.Chou於1995年提出。本來超聲波振動被用來紓緩在脫模的步驟（2004年前田和蘆田）。引言奈米壓印技術(shù)由S.Y.Chou於1995年提出。超聲波奈米壓印系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)採用電腦控制所有操作。底部加壓層是一種熱塑性板可加熱到最高溫度200℃還能承受到了5kN的最大負(fù)荷力。兩顆伺服馬達(dá)一個再上部加壓層控制X軸和Z軸方向，另一顆則在底部加壓層控制Y軸方向移動。超聲波奈米壓印系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)採用電腦控制所有操作。超聲波奈米壓印系統(tǒng)的照片和規(guī)格超聲波奈米壓印系統(tǒng)的照片和規(guī)格內(nèi)部結(jié)構(gòu)使用壓電式超聲波發(fā)生器擁有19千赫的頻率和大輸出功率1,200W。超聲波振動的振幅有10個階段設(shè)置。內(nèi)部結(jié)構(gòu)使用壓電式超聲波發(fā)生器擁有19千赫的超聲波振動的振幅上部加壓層中心距離的超聲波振動的振幅的測量結(jié)果。超聲波振動的振幅上部加壓層中心距離的超聲波振動的振幅的測量結(jié)實驗過程a.熱壓印光刻b.超聲波奈米壓印實驗過程a.熱壓印光刻不使用超聲波振動的初步實驗做法:矽模

加熱溫度：150℃

加熱溫度：180℃接觸力：100牛頓

接觸時間：10秒不使用超聲波振動的初步實驗做法:加熱溫度為180℃時。壓印的最大高度為1.18微米，最高的寬高比為1.06的情況下，此時最高的寬高比已下降到其原始值的五分之一。加熱溫度為180℃時。壓印的最大高度為1.18微米，最超聲波振動時間點與接觸力的關(guān)係超聲波振動時間點與接觸力的關(guān)係高振幅超聲波振動幅度為1.8微米（high-modelevel5）高振幅超聲波振動幅度為1.8微米（high-modelev熱壓印光刻技術(shù)的超聲波振動影響課件低振幅超聲波振動幅度為1.25微米（low-modelevel5）低振幅超聲波振動幅度為1.25微米（low-modelev熱壓印光刻技術(shù)的超聲波振動影響課件低振幅的超聲振動在750nm和1μm線寬的圖形並未證實任何實質(zhì)性的變化。低振幅的超聲振動的線寬為500nm的壓印圖案的呈現(xiàn)上升。低振幅的超聲振動在750nm和1μm線寬的圖形並未證實任何實結(jié)論開發(fā)出超聲波奈米壓印系統(tǒng)，可以應(yīng)用超聲波振動、熱應(yīng)力和負(fù)載力到成型過程中。為了克服超聲波振動，將熱解石墨/熱解氮化硼所有功能設(shè)計到加熱器裡面上裝載機械應(yīng)力系統(tǒng)。為了管理和操作超聲波振動準(zhǔn)確壓印的時機，控制超聲波的振動發(fā)電裝置的方案進行了改進。振幅超聲波振動的開始時間和超聲振動是很重要的成型條件。在超聲振動的印象開始的情況下接觸到了矽模具上面負(fù)載之前，成型精度有所改善和壓印種類的增加。發(fā)現(xiàn)壓印