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我國三氟化硼行業(yè)主要生產(chǎn)廠商及其產(chǎn)能、產(chǎn)品等級、生產(chǎn)工藝分析
高純?nèi)鹗枪韬玩N外延、擴散和離子注入過程的P
型摻雜源,也可用作等離子刻蝕氣體。高純BF3作為硼摻雜劑用于硅離子布植方面,生產(chǎn)出的芯片具有高集成、高密度的特點,并且體積更小、性能更佳。值得注意的是現(xiàn)代IC生產(chǎn)線對三氟化硼有了新的要求:三氟化硼中的同位素11B的豐度值要達到一定的值,眾所周知同位素分離技術(shù)難度較大,我國在此領(lǐng)域還存在許多技術(shù)需要攻關(guān),目前國內(nèi)此領(lǐng)域尚未見產(chǎn)業(yè)化。目前國內(nèi)確定性的規(guī)劃有電子級三氟化硼產(chǎn)能的僅有福建博純材料和昊華科技旗下光明院,博純材料在2015年12月備案的超精準電子混合氣體項目中包含0.5噸三氟化硼產(chǎn)能;昊華科技募投項目中包括1噸產(chǎn)能,此前光明院也已經(jīng)開展相關(guān)中試項目。華特股份募投項目也布局有10噸三氟化硼產(chǎn)能,但為倉儲經(jīng)銷性質(zhì),本身不從事生產(chǎn);NDGD情況與華特股份類似。日本大陽日酸在揚州化工園區(qū)布局有240噸電子化學(xué)品產(chǎn)能,其中包含三氟化硼產(chǎn)品,該項目于2017年4月獲環(huán)評批復(fù)??傮w來看,我國三氟化硼生產(chǎn)企業(yè)與海外廠商差距較大,電子級尚未形成大規(guī)模產(chǎn)能,且在11B同位素分離方面距產(chǎn)業(yè)化尚有距離,短時間內(nèi)或仍將依
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