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文檔簡介
§3.1X射線的本質(zhì)
§3.2X射線的產(chǎn)生§3.3X射線光譜§3.4X射線與物質(zhì)的相互作用§3.5X射線防護第3章:X射線的性質(zhì)1§3.1X射線的本質(zhì)1895年,倫琴發(fā)現(xiàn)了X射線:
肉眼看不到,但可使照相底片感光、熒光板發(fā)光和使氣體電離;
能透過可見光不能透過的物體;
在電場和磁場中不偏轉(zhuǎn),通過物體時不發(fā)生反射、折射現(xiàn)象,通過普通光柵亦不引起衍射;
對生物有很厲害的作用。21912年,勞埃發(fā)現(xiàn)了X射線在晶體中的衍射,從而肯定了X射線的電磁波性質(zhì)。X射線是一種波長很短的電磁波,波長介于γ射線和紫外線之間,由0.001-1nm。
硬X射線:波長較短,晶體結(jié)構(gòu)分析;
軟X射線:波長較長,醫(yī)學透視。
因此,X射線具有波動性和粒子性。
波動性:干涉和衍射現(xiàn)象
粒子性:吸收或散射3度量X射線波長的單位:1.埃(?):1?=10-8cm(過去常用)2.納米(nm):1nm=10?(法定單位)3.kX:1kX=1.002056?(盛行于五六年代)4X射線波動性(ν、λ)與粒子性(ε、p)之間的關(guān)系:
ε=hν=hc/λ
p=h/λ h——普朗克常數(shù),h=6.625×10-34J·s c——X射線的速度,c=2.998×108m/s X射線的波長較可見光短的多,因此,能量和動量很大,具有很強的穿透能力。5§3.2X射線的產(chǎn)生
現(xiàn)在人們已經(jīng)發(fā)現(xiàn)了許多的X射線產(chǎn)生機制,其中最為實用的能獲得有足夠強度的X射線的方法仍是當年倫琴所采用的方法——用陰極射線(高速電子束)轟擊陽極(靶)的表面。6
高真空
10-4—10-6Pa至高壓發(fā)生器
40-120kV
接地高速電子流X射線7
當燈絲被通電加熱至高溫時(達2000℃),大量的熱電子產(chǎn)生,在正負極之間的高電壓作用下被加速,高速轟擊到靶面上。高速電子到達靶面,運動突然受阻,其動能部分轉(zhuǎn)變?yōu)檩椛淠埽訶射線的形式放出。轟擊到靶面上電子束的總能量只有極小一部分轉(zhuǎn)變?yōu)閄射線能,而大部分都轉(zhuǎn)變成為熱能。8陰極:發(fā)射電子。鎢絲,高壓下釋放出熱輻射電子。陽極:靶(Target)。高速運動的熱輻射電子突然減速并發(fā)射X射線。陽極材料為Cu,稱之為Cu靶。另外常用的還有Fe靶、Mo靶等。窗口:X射線射出的通道,一般有2個或4個。金屬鈹或硼酸鈹鋰玻璃9§3.3X射線光譜1、連續(xù)X射線光譜
高速電子與陽極靶的原子碰撞時,由高速運動突然轉(zhuǎn)為停止不動,電子失去動能,將一部分動能轉(zhuǎn)化為熱能,另一部分轉(zhuǎn)化為一個或幾個光子輻射出去,這個光子流就是X射線。由于X射線的能量不同,因此,放出的X射線的頻率不同。由此產(chǎn)生的X射線是連續(xù)的,稱為連續(xù)X射線光譜,簡稱連續(xù)譜,也叫白色X射線。為什么會產(chǎn)生連續(xù)X射線?10
連續(xù)譜有一個最短波長的極限λ0,若一個電子的動能全部轉(zhuǎn)化成X光子的能量,波長最短。
設電子的動能為E=eU,x射線的能量為:
=hν=hc/λ λ0=hc/max=hc/E
這時該光子將具有最短的波長λ0。在實際的能量轉(zhuǎn)化中,絕大多數(shù)電子,都有能量損耗,即≤max,因此λ≥λ0。實際形成:以λ0為最短波長的連續(xù)譜線。
11最短波長與X射線管的電壓有關(guān)。
eU=hνmax=hc/λ0
e——自由電子電荷,e=1.602×1019C U——X射線管的電壓(kV) h——普朗克常數(shù),h=6.625×10-34J·s c——X射線的速度,c=2.998×108m/s
則
λ0=hc/eU=1.24/U
即管電壓越大,最短波長λ0越小。即連續(xù)譜的短波限只與管電壓有關(guān)。
12連續(xù)光譜與管電壓、電流及靶的原子序數(shù)的關(guān)系:
連續(xù)X射線的強度:I=nhv,因此,其最大值并不在光子能量最大的λ0處,而在大約1.5λ0處。反之,強度最大的波長約為強度最小波長的3/2。
管電壓不變,
增加管電流或改變靶時,λ0不變。
增加管電壓,電子的動能增加,電子與靶碰撞的次數(shù)和輻射出的X射線的數(shù)量和能量都增大,因此,連續(xù)譜各波長的強度都相應增高,各曲線對應的最大值和短波限都向短波方向移動。
13
連續(xù)譜強度公式:
I連=aiZUmi
a——常數(shù),a≈(1.1—1.4)×10-9
mi——常數(shù),mi≈2
則X射線管發(fā)射X射線的效率為:
η=I連/X射線管功率=aiZU2/iU=aZU
可見,X射線的發(fā)射效率與靶的原子序數(shù)及管電壓有關(guān)。要提高X射線發(fā)射效率就要選用重金屬靶并施以高電壓。1415Mo靶的X射線譜1617連續(xù)X射線光譜的應用:
連續(xù)X射線光譜應用不廣,只有勞埃法才用它。在其它方法中它只能造成不希望有的背景。182.特征X射線光譜
從原子物理學知道,原子內(nèi)的電子按照鮑林不相容原理和能量最低原理分布在各個能級上(電子軌道),用記號K、L、M、N……表示。K層最靠近原子核,能量最低,穩(wěn)定性最強(電子束縛能最高)。Ek<EL<EM…19
當外來電子的能量足夠高(大于K層電子的電子束縛能),則可能把K層的一個電子擊飛,從而使原子處于不穩(wěn)定狀態(tài)(激發(fā)態(tài))。高速電子流打飛的電子
(光電子)20激發(fā)態(tài)不是穩(wěn)定態(tài),必然自發(fā)地向穩(wěn)定態(tài)過渡。方法之一:較高能量的L層電子向K層躍遷。21
在躍遷的過程中,前后存在能量差異,其差異即等于K層與L層的能級差ΔEKL
=EL-EK
該差值能量將以X射線的形式放射出去,α輻射:
ΔEKL=hν=hc/λα
λα=hc/ΔEKLX射線22X射線
方法之二:更高能級的M層向K層躍遷,β輻射
ΔEMK
=EM-EK
=hν=hc/λβλβ=hc/ΔEMK
顯然λα>λβ
同理,由NK的躍遷形成的輻射叫γ輻射。23
由于K層電子缺失、電子躍遷形成的X射線稱K系X射線,即Kα、Kβ、及Kγ射線,同理,還有L系、M系X射線。24由:λ=hc/ΔE
可知
不同的原子,各軌道間的能量差不同,因此,所產(chǎn)生的Kα、Kβ、及Kγ波長不同且固定。即波長取決于原子序數(shù),稱之為特征X射線光譜。一般來講,軌道越靠近,發(fā)生躍遷的幾率越大,即Iα>Iβ>Iγ另外:IK>IL>IM25
在L→K躍遷產(chǎn)生Kα輻射時,由于L電子層有三個亞層,三個亞層之間有微小的能量差異。能發(fā)生電子躍遷的是第二和第三亞層。26ΔE1
=EL2-EK
=hν=hc/λα1ΔE2
=EL3-EK
=hν=hc/λα2
所產(chǎn)生的Kα射線就分為Kα1和Kα2。其波長有微小的差異。比如Cu,λKα1
=1.5405?λKα2
=1.5443?另外其β射線λKβ
=1.3921?27
通常情況下,在特征譜中,Kα1、Kα2、Kβ的強度分布如下:
Iα1:Iα2:Iβ:=100:50:13.8波長特征,例如Cu:λKα1
=1.5405?λKα2
=1.5443?λKβ=1.3921?Fe:λKα1
=1.9360?λKα2
=1.9400?λKβ=1.7566?28在X射線衍射分析中,Kβ射線的波長差異較大,可設法去掉和消弱其強度。由于Kα1、Kα2的波長很接近,所以在很多情況下,都是按二者的加權(quán)平均值作為Kα射線的波長,計算方法如下:
λKα=(2λKα1+λKα2
)/3
至于Kβ射線,因其波長差異較大,必須設法去掉和消弱其強度。29典型的X射線譜(含連續(xù)譜和特征譜)30幾種常用陽極靶材料的特征譜參數(shù)313、
特征X射線波長與陽極材料的關(guān)系
莫賽萊(H.G.JMoseley)定律
式中λ——某線系(α、β)的特征射線的波長
Z——原子序數(shù)
K,——為給定的線系的常數(shù)。莫塞萊定律為X射線熒光光譜分析和電子探針微區(qū)成分分析的理論基礎。3233元素Kα1Kβ1Lα1Mα14Be114.0011Na11.9111.5826Fe1.9361.75717.5929Cu1.5411.39213.3435Br1.0410.9338.37555Cs2.89274W1.4766.98383Bi1.1445.118不同元素的特征X射線波長(?)344、特征X射線的應用(1)陽極材料已知時
電子束轟擊可以得到已知波長的特征X射線—----用于X射線衍射分析的光源。如,Cu陽極(Cu靶),得到Cu:λKα1
=1.5405?λKα2
=1.5443?λKβ=1.3921?35(2)陽極材料未知時陽極換成未知樣品,則樣品中含有哪種元素,即可得到哪種元素的特征X射線波長,若含多種元素,則得到多種元素的特征X射線波長。如果能測定出樣品產(chǎn)生的X射線波長(或能量),則可以鑒定出樣品中的元素種類(及含量)----EPMA,EDX(Elctronprobemicroscopicanalyzer,EnergydispersiveXrayanalysis)。36§3.4X射線與物質(zhì)的相互作用 X射線照射到物質(zhì)上,除一部分可能沿原入射線束方向透過物質(zhì)繼續(xù)向前傳播外,其余部分則在與物質(zhì)相互作用,在復雜的物理過程中被衰減。X射線與物質(zhì)的相互作用形式,可分為散射和吸收兩大類。371、X射線的散射(1)相干散射:
當X射線與原子的內(nèi)層電子碰撞后,X射線光子把能量全部傳遞給電子,電子發(fā)生受迫振動,產(chǎn)生二次輻射,這種輻射即散射波。這種散射波之間符合振動方向相同、頻率相同、位相差恒定的光的干涉條件,所以,可發(fā)生干涉作用,故稱為相干散射,也叫彈性散射或湯姆遜散射。
相干散射----XRD(Xraydiffraction)。38(2)非相干散射
當入射X射線與原子中束縛力不大的外層電子相撞時,電子被撞離原子并帶走光子的一部分能量,而成為反沖電子。原來的X射線光子的能量因而損失掉一部分,使得波長增加并與原方向偏離2θ角。由于散布于空間各個方向的散射波與入射波波長不相等,位相也不存在確定的關(guān)系,因此不能產(chǎn)生干涉效應,也叫非相干散射。(康普頓-吳有訓效應,也叫康普頓散射)39入射X射線(λ入)康普頓反沖電子(光電子)散射波(λ散)2θX射線的非相干散射λ入<
λ散40
非相干散射不能參與晶體對X射線的衍射,只會在圖上形成背底,給衍射精度帶來不利影響。入射波長越短,被照射元素越輕,這一現(xiàn)象越顯著。412、X射線的吸收 X射線與物質(zhì)相互作用,會產(chǎn)生光電效應及俄歇效應,同時伴隨著熱效應,由于這些效應而消耗的入射X射線能量,統(tǒng)稱為物質(zhì)對X射線的吸收或真吸收。42(1)光電效應-熒光輻射
當入射X射線的能量足夠大時,可以從被照射物質(zhì)的原子內(nèi)部(如K層)擊出一個電子,使原子處于激發(fā)狀態(tài),同時原子外層高能態(tài)電子向內(nèi)層的K空位躍遷,輻射出波長一定的特征X射線,為二次特征X射線,也稱為熒光輻射。這種以X射線光子激發(fā)原子所發(fā)生的激發(fā)和輻射過程稱為光電效應。43
激發(fā)原子產(chǎn)生K、L、M系熒光效應時,入射X射線光子的能量必須大于或至少等于從原子中擊出一個K、L或M層電子所做的功WK、WL、WM。例如:
WK≤hνK=hc/λkWK=eUK
因此,
λk≤hc/eUK=12.4/UK
νK
及λk為激發(fā)K系時所需的入射線頻率及波長的臨界值,從吸收角度而言,λk即為K吸收限。44
產(chǎn)生光電效應時,入射X射線的能量大量被消耗,轉(zhuǎn)化為光電子的逸出功、所攜帶的動能以及熒光輻射的能量。因此,入射X射線的能量被大量吸收,所以λK、λL
、λM也稱為被照射物質(zhì)因產(chǎn)生光電效應-熒光輻射而吸收的入射X射線的吸收限。
不同元素,吸收限不同。Z越大,λ越短。
熒光輻射的波長大于入射X射線的波長。
45應用a、光電子光電效應中被擊打出的光電子的能量E為: E=E核外電子結(jié)合能(如K層,為EK)由于不同元素的核外電子具有不同的能量,因此,測定光電子的能量,則可確定被照射物質(zhì)的化學成分—XPS原理(XrayPhotoelectronicSpectroscopy)。對光源的要求:固定的已知能量,常采用單色X射線。(X射線不容易聚焦,因此樣品分析時空間分辨率低)4647XPS進行成分測定的特點:.樣品最表面元素種類(及含量)的測定(信息深度<10層原子)。較深部位元素產(chǎn)生的光電子很難逸出樣品表面。.元素的不同狀態(tài),其光電子的能量會有差異(化學位移),因此可測定元素的不同狀態(tài)---價態(tài)、配位形式等。例如Si的2p電子結(jié)合能:單質(zhì)硅中:99.6eVSiO2中:103.4eV48有機化合物化學位移舉例49b.熒光輻射(二次X射線)當X射線從原子中激發(fā)出光電子后,原子的內(nèi)層電子缺失,成激發(fā)狀態(tài),為不穩(wěn)定態(tài)。激發(fā)態(tài)穩(wěn)定態(tài)
高能級向低能級躍遷,產(chǎn)生X射線,稱為二次X射線——熒光輻射。該X射線的波長,完全取決于物質(zhì)中的原子類型,而入射線可為單色,也可為白色。若測定該二次射線的波長,即可得到物質(zhì)的化學組成----XRF原理(X-RayFluorescencespectrometer)。
但在X射線衍射分析中,熒光輻射是有害的,因為它增大了衍射花樣的背底。50(2)俄歇效應
如果原子K層電子被擊出,發(fā)生光電效應,產(chǎn)生光電子。L層電子向K層空位躍遷,其能量差不是以產(chǎn)生K系X射線光量子的形式釋放,而是被鄰近層(如M層)的電子所吸收,使這個電子受激發(fā)而逸出,這種現(xiàn)象稱之為俄歇效應,逸出的電子稱為俄歇電子。
俄歇電子的能量也是特定的,與物質(zhì)的種類有關(guān),而與入射X射線無關(guān),因此,檢測俄歇電子可得到元素的信息?!狝ES原理(AugerElectronSpectrometry)。51KLLAugerE=EK-EL-EL52俄歇電子的能量:EKLL=EK-EL-EL被電離的電子躍遷的電子變成Auger電子的電子俄歇電子的能量只取決于原子本身,而與激發(fā)光源無關(guān),因此一般的俄歇電子譜儀采用電子束作為光源(電子束能量高,且容易聚焦,因此空間分辨率高)。53
各種元素的俄歇電子能量54平均俄歇電子產(chǎn)額隨原子序數(shù)的變化5514號以前的元素,采用KLL俄歇電子14-42:LMM俄歇電子42號以后的元素:MNN或MNO俄歇電子一般來說,俄歇電子譜儀對輕元素的分析更為有效。也是一種針對樣品最表面的元素進行分析。56X熒光產(chǎn)額ω與俄歇電子產(chǎn)額α之間滿足
α+ω=1
一般地,較輕的元素,產(chǎn)生俄歇電子的幾率較大,而較重的元素則產(chǎn)生X熒光的幾率較大。57(3)熱效應
當X射線照射到物質(zhì)上時,可導致電子運動速度或原子振動速度加快,部分入射X射線的能量將轉(zhuǎn)變?yōu)闊崮?,從而產(chǎn)生熱效應。58入射X射線強度I0散射X射線相干非相干電子反沖電子俄歇電子光電子熒光X射線透射X射線衰減后的強度I熱能康普頓效應光電效應俄歇效應總結(jié):X射線對物質(zhì)的吸收主要有兩部分:一是散射,二是轉(zhuǎn)化為電子及熒光輻射。另外還有少量的熱能。由于這種吸收而使透射過的X射線強度大大衰減。593、X射線的衰減規(guī)律X射線照射物質(zhì)后,與物質(zhì)作用產(chǎn)生散射與真吸收,強度將被衰減。X射線衰減主要是由真吸收造成的,散射只占很小的一部分。在研究X射線的衰減規(guī)律時,一般都忽略散射部分的影響。
60(1)X射線的衰減規(guī)律
X射線穿過物體時強度的減弱(dI)與原始X射線的強度(I)和穿過物體的厚度(dx)成正比。即:dI=-μIdx
則: Ix=I0exp(-μx)
I0——入射光的強度;Ix——透射光的強度; x——物質(zhì)厚度(cm);Ix/I0——透射系數(shù);
μ——衰減系數(shù)(cm-1)。
由公式可知,X射線通過物質(zhì)時,按指數(shù)規(guī)律迅速衰減。61(2)吸收系數(shù)
a.線吸收系數(shù) X射線強度的衰減是通過散射和吸收兩種方式進行的。所以有:μ=σ+τ,
μ——衰減系數(shù);σ——散射系數(shù);τ——吸收系數(shù)。由于散射很小,σ常被忽略,故:μ=τ
因此,
以后通常將μ稱為線吸收系數(shù)。
62當x=1cm時,μ=ln(I0/I1)
因此,線吸收系數(shù)μ的定義為:沿穿越方向單位長度(1cm)時X射線強度衰減的程度。
實際是單位時間內(nèi)單位體積(單位面積×單位長度)物質(zhì)對X射線能量的吸收,所以,μ與物質(zhì)的種類、密度和X射線的波長均有關(guān)。
對一定元素和一定波長的X射線,μ為常數(shù)。63b.質(zhì)量吸收系數(shù)由于吸收系數(shù)μ隨物質(zhì)的密度而變化,為此引入質(zhì)量吸收系數(shù)。令:
μm=μ/ρμm——質(zhì)量吸收系數(shù);ρ為物質(zhì)的密度(g/cm3)。因此,μm的定義為:X射線通過質(zhì)量為1克的物質(zhì)時的衰減程度。μm不隨物質(zhì)的密度而變化,故在實驗室常被采用。μm也是對一定元素及一定波長的X射線為常數(shù)。質(zhì)量衰減規(guī)律變?yōu)椋篒x=I0exp(-μmρx)64c.復雜物質(zhì)的質(zhì)量吸收系數(shù)
當物質(zhì)不是單一元素,而是由兩種以上元素組成的復雜物質(zhì)(化合物、固溶體或機械混合物等)時,其吸收由所照射物質(zhì)原子本身的性質(zhì)決定,而與原子間的結(jié)合方式無關(guān)。其質(zhì)量吸收系數(shù)如下計算:μm=W1μm1+W2μm2+W3μm3+…
W1,2,3,…——各種成分的質(zhì)量分數(shù);
μm1,2,3,…——各種成分的質(zhì)量吸收系數(shù)。65d.連續(xù)譜的質(zhì)量吸收系數(shù)
當連續(xù)譜穿過物質(zhì)時,波長并不單一,X射線衰減的情況也就變得復雜。為了計算方便,可以取各波長對應的質(zhì)量吸收系數(shù)的平均值。實驗證明,此值相當于1.35λ0波長時所對應的吸收系數(shù)。該波長稱為有效波長,計算如下:λe
=1.35λ066(3)質(zhì)量吸收系數(shù)與波長λ及原子序數(shù)Z的關(guān)系
一般來說,當吸收物質(zhì)一定時,X射線的波長愈長愈容易被吸收;當波長一定時,吸收體的原子序數(shù)愈高,X射線被吸收的愈多。實驗表明,μm與波長(λ)、原子序數(shù)(Z)之間的關(guān)系如下:μm=Kλ3Z3
K為常數(shù),在不同的吸收限區(qū)間,k為恒定的值。如當λ<λk時(λk為K吸收限),K=0.007,當λ>λK時,K=0.0009。67由于K值不同,因此,μm呈臺階狀跳躍。Pt(Z=78)的μm隨入射X射線波長的變化(1)對一定元素而言,隨著波長的增加,μm亦增加,但到某一界限,μm突然降低。此種情況出現(xiàn)數(shù)次。μm呈臺階狀跳躍。68對CuKα(λ=1.54178?)的μm隨原子序數(shù)的變化(2)對一定波長而言,隨著原子序數(shù)的增加,μm亦增加,但到某一界限,μm突然降低。此種情況亦出現(xiàn)數(shù)次。μm呈臺階狀跳躍。69
各元素突變時的波長值,稱為該原子的吸收限或吸收邊,對于X射線技術(shù)來講,最重要的是第一個吸收邊,即K吸收限(λk)。
為什么會產(chǎn)生吸收限?
吸收限主要是由光電效應所引起,用光電效應可解釋μm呈臺階狀跳躍的原因。70Pt(Z=78)的μm隨入射X射線波長的變化
(1)元素恒定,即原子核外電子的結(jié)合能恒定。當λ入↘,則E入↗,當E入=EL時,則E入全部被電子吸收,產(chǎn)生光電效應和熒光輻射。表現(xiàn)為μm突然↑。當λ入繼續(xù)
↘,
E入↗,但不足以激發(fā)K層電子,則激發(fā)L層發(fā)生的光電效應和熒光輻射吸收的能量E吸不變,因此,相對地衰減↘,表現(xiàn)為吸收系數(shù)↘。當λ入繼續(xù)↘,
E入↗,到E入=EK時,同理。71μm=Kλ3Z3
對CuKα(λ=1.54178?)的μm隨原子序數(shù)的變化
(2)λ恒定,即E入恒定。當Z↘,原子核外電子的結(jié)合能E↘。當EZ1L=E入,同上可知μm突然↑,當Z繼續(xù)↘,原子核外電子的結(jié)合能EZnL↘,
因此E入>EZnL
,而同時E入<EZmK時,激發(fā)L層的光電效應所需的能量↘,即X射線的衰減減弱,則μm
↘;當EZmK
=E入,光電效應增強,K系被激發(fā),μm突然↑。72μm=Kλ3Z3
當沿同一方向的兩條光路上存在μm=kλ3Z3不同的兩種物質(zhì)時,μm和I均不相同。由此可進行生物體透視和工業(yè)生產(chǎn)中產(chǎn)品探傷研究。734、X射線吸收效應的應用
(1)吸收限的應用 a.靶材的選擇
在晶體X射線結(jié)構(gòu)分析時,要求入射X射線盡可能減少激發(fā)試樣熒光輻射,以降低衍射背底,使衍射圖像或曲線清晰。因此,入射X射線的波長應略長于試樣的吸收限λk。換言之,就是要求靶材的原子序數(shù)比試樣的原子序數(shù)稍小或者大很多。這樣,產(chǎn)生的入射X射線通過試樣時不產(chǎn)生熒光輻射或熒光輻射影響很小,相對衍射背底也低的多,圖像清晰。74靶材的選擇: Z靶≤Z樣+1或Z靶?Z樣。
如果試樣中含有多種元素,應在含量較多的幾種元素中以原子序數(shù)最輕的元素來選擇靶材。
注意:這種選擇靶材的方法僅從減少熒光輻射的的方面考慮。實際中,靶材選擇還要考慮其它因素。75
研究結(jié)構(gòu)時所用的X射線波長范圍為0.5?-2.5?,波長太長,易被吸收,波長太短,所得的衍射花樣密集于小角度范圍而不易分辨。因此選擇靶材的一般原則是:①必須得到較多的衍射線;②必須避免衍射線互相重疊靠的太近;③試樣的吸收要小,即熒光輻射要小。
另外,試樣的晶體結(jié)構(gòu),對稱性的高低對靶材的選擇也必須考慮。如低對稱的晶體,衍射線多而密,一般選軟一點的入射X射線。
76
常用的靶有Cu、Cr、Fe、Co、Mo、Ag,其中Cu靶用的最多,Cu的Kα波長為中等程度,對一般材料均是合適的波長。但對以下材料:Mn(25)、Fe(26)、Co(27)、Ni(28),在CuKa射線照射下,吸收比較大,即產(chǎn)生較多的熒光散射,因此對于含大量這些元素的物質(zhì),衍射效果不好。
解決方法:換FeKa,波長1.9374A。77b.濾波片 K系特征譜線有兩個:Kα、Kβ兩條
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