標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 31227-2014 原子力顯微鏡測量濺射薄膜表面粗糙度的方法》是一項國家標(biāo)準(zhǔn)，專門針對使用原子力顯微鏡（AFM）技術(shù)來測定濺射薄膜材料表面粗糙度的過程提供了詳細(xì)的指導(dǎo)。該標(biāo)準(zhǔn)適用于各種通過物理氣相沉積方法制備的濺射薄膜樣品，旨在為科研人員及工業(yè)界提供一個統(tǒng)一且準(zhǔn)確的測試平臺。

根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容，首先明確了適用范圍，即本標(biāo)準(zhǔn)所涵蓋的具體領(lǐng)域和對象；接著對術(shù)語進行了定義，包括但不限于“表面粗糙度”、“原子力顯微鏡”等關(guān)鍵概念，確保了行業(yè)內(nèi)對于這些專業(yè)詞匯有一致的理解基礎(chǔ)。此外，還詳細(xì)介紹了實驗所需儀器設(shè)備的基本要求，比如AFM的工作模式選擇、探針規(guī)格等，并給出了具體的操作步驟說明，從樣品準(zhǔn)備到數(shù)據(jù)采集再到結(jié)果分析都有明確指示。

在樣品制備方面，強調(diào)了需要保證待測表面清潔無污染，并且推薦了一定條件下進行預(yù)處理以提高測量準(zhǔn)確性。關(guān)于數(shù)據(jù)處理部分，則是基于國際通用算法對獲取的數(shù)據(jù)進行分析，計算出平均粗糙度值Ra以及其他相關(guān)參數(shù)。同時，也提到了如何評估測量不確定度以及重復(fù)性與再現(xiàn)性的控制方法。

整個過程強調(diào)了標(biāo)準(zhǔn)化操作的重要性，通過規(guī)范化的流程設(shè)置來減少人為因素造成的誤差，從而能夠更客觀地反映濺射薄膜的真實表面特性。


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....

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  • 現(xiàn)行
  • 正在執(zhí)行有效
  • 2014-09-30 頒布
  • 2015-04-15 實施
?正版授權(quán)
GB/T 31227-2014原子力顯微鏡測量濺射薄膜表面粗糙度的方法_第1頁
GB/T 31227-2014原子力顯微鏡測量濺射薄膜表面粗糙度的方法_第2頁
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文檔簡介

ICS1704020

J04..

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T31227—2014

原子力顯微鏡測量

濺射薄膜表面粗糙度的方法

Testmethodforthesurfaceroughnessbyatomicforcemicroscope

forsputteredthinfilms

2014-09-30發(fā)布2015-04-15實施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布

中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會

GB/T31227—2014

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國科學(xué)院提出

。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國納米技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口

(SAC/TC279)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位上海交通大學(xué)納米技術(shù)及應(yīng)用國家工程研究中心

:、。

本標(biāo)準(zhǔn)起草人李慧琴梁齊路慶華何丹農(nóng)張冰

:、、、、。

Ⅰ

GB/T31227—2014

引言

濺射技術(shù)因其能夠使材料均勻致密并且大面積地按照合適的比例鍍在基體表面上而得到廣泛運

,

用形成的薄膜表面粗糙程度對其光電性能具有很大影響由于其粗糙度一般處于納米尺度但目前

,、。,

已有的國家標(biāo)準(zhǔn)和國際標(biāo)準(zhǔn)都是大于微米尺度的測量方法標(biāo)準(zhǔn)不適用這種材料表面粗糙度的測量

,。

原子力顯微鏡利用一尖銳探針接觸到樣品表面得到表面的高度信息達(dá)到了縱向上優(yōu)于橫向

,,0.1nm,

上優(yōu)于的分辨率用原子力顯微鏡來測量濺射薄膜的表面粗糙度平均標(biāo)準(zhǔn)偏差可以達(dá)到

1nm。,1nm,

因而適合這種薄膜表面粗糙度的測量

。

Ⅱ

GB/T31227—2014

原子力顯微鏡測量

濺射薄膜表面粗糙度的方法

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用原子力顯微鏡測量表面粗糙度的方法

(AFM)。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于測量濺射成膜方法生成的平均粗糙度Ra小于的薄膜

、100nm。

其他非濺射薄膜的表面粗糙度的測量可以參考此方法

。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

利用晶面原子臺階對原子力顯微鏡亞納米高度測量進行校準(zhǔn)的方法

GB/T27760—2011Si(111)。

3術(shù)語和定義符號和縮略語

、

31術(shù)語和定義

.

界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件

GB/T27760—2011。

311

..

原子力顯微鏡atomicforcemicroscope

利用晶面原子臺階對原子力顯微鏡亞納米高度測量進行校準(zhǔn)的方法

Si(111)。

312

..

濺射薄膜sputteredthinfilms

利用濺射工藝在某種基體上形成的均勻的膜

。

313

..

探針污染tipcontaminated

探針針尖的表面吸附上了其他物質(zhì)造成了針尖的污染

,。

32符號和縮略語

.

下列符號和縮略語適用于本文件見表

(1)。

表1符號和縮略語

縮寫和符號說明單位

原子力顯微鏡

AFM(AtomicForceMicroscope)

云母片用于的方向的原子級分辨的校正

Mica,AFMx-y

Ra平均粗糙度

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