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計(jì)算機(jī)在高分子研究中的應(yīng)用賀金梅碩士課程高分子材料教研室第二節(jié)
XPS分峰軟件在高分子研究中的應(yīng)用
XPS分析可提供表面所存在的所有元素(除H和He外)的定性和定量信息定性分析定量分析元素組成鑒別(全譜掃描)化學(xué)態(tài)分析(窄區(qū)掃描)各元素含量(全譜掃描)各官能團(tuán)含量(窄區(qū)掃描)§2.1XPS概述
XPS:
X-rayPhotoelectronSpectroscopy,X-射線(xiàn)光電子能譜,簡(jiǎn)稱(chēng)XPSElectronSpectroscopyforChemicalAnalysis,簡(jiǎn)稱(chēng)ESCA
基本原理:Eb
=hv-
Ek-W
表面分析:§2.2化學(xué)態(tài)分析
化學(xué)位移:對(duì)于某一給定原子,準(zhǔn)確的內(nèi)能級(jí)結(jié)合能將由于局部成鍵作用而有所改變,即由于原子成鍵狀況而產(chǎn)生結(jié)合能位移或“化學(xué)”位移。
為什么要分峰?
化學(xué)位移的一般規(guī)律:由于任何核外電子電荷分布的變化都會(huì)影響內(nèi)層電子的屏蔽作用,當(dāng)外層電子密度減小時(shí),屏蔽作用減弱,內(nèi)層電子的結(jié)合能增加,反之結(jié)合能將減小。
幾種常見(jiàn)元素的化學(xué)位移值:C1s結(jié)合能(eV)O1s結(jié)合能(eV)S2p結(jié)合能(eV)C-CC-H284.6O=C531.2S-Ag160.9O-H531.7-C-S-Ag161.9C-N285.7O-Si531.9S-Cu161.9C-O(醇或醚)286.1O-C532.5-C-S-Cu162.6C=O(醛或酮)287.4O=C-O533.3RSH163.8O-C=O(酸或酯)288.6C-F291.6即:原子的化學(xué)位移隨與之成鍵的原子的電負(fù)性的增大而增大?!?.3
XPS分峰擬合技術(shù)在聚合物研究中的應(yīng)用簡(jiǎn)單的均聚物共聚物交聯(lián)高聚物共混高聚物此外,粘結(jié)、吸附、高聚物降解、高聚物添加劑的擴(kuò)散、高聚物表面化學(xué)改性、等離子體和電暈放電表面改性以及復(fù)合材料等等方面的應(yīng)用1.EMA共聚物的表面表征EMA共聚物的組成為:表面結(jié)構(gòu)(結(jié)晶相和無(wú)定型相在表面上的分布、組成和取向)表面性質(zhì)應(yīng)用(粘著性、密封性、浸潤(rùn)性、可印染性和粘合力)膠片和膠粘劑XPS分析
含23.4%(質(zhì)量百分?jǐn)?shù))丙烯酸甲酯的EMA共聚物熱壓薄膜表面的XPS譜圖(出射角為45°)
C1s分峰擬合譜O1s分峰擬合譜2.PTFE聚合物的表面改性
聚四氟乙烯(PTFE)超細(xì)顆粒具有優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性和機(jī)械性能,在機(jī)械、紡織、航空、電子等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用。PTFE超細(xì)顆粒表面潤(rùn)濕性極差,難與其它材料結(jié)合,因此其應(yīng)用受到一定限制,超細(xì)顆粒表面活化及接枝改性是拓展其應(yīng)用領(lǐng)域的重要途徑之一。0.15mol/L鈉萘絡(luò)合物腐蝕液活化6min后PTFE顆粒的
XPS譜圖經(jīng)0.15mol/L鈉萘絡(luò)合物腐蝕液活化6min并接枝24h后PTFE超細(xì)顆粒的
XPS譜圖C1s分峰擬合譜3.聚合物復(fù)合材料增強(qiáng)體的表面表征以碳纖維增強(qiáng)環(huán)氧(CF/Epoxy)復(fù)合材料為例。采用表面鍍銀的碳纖維作為基底,分別進(jìn)行三類(lèi)有機(jī)化合物的分子自組裝,并分別對(duì)S元素的XPS譜圖進(jìn)行分峰分析,判斷分子在銀表面的吸附狀態(tài)。
取代烷基硫醇化合物在鍍銀碳纖維上的吸附
芳基硫醇化合物在鍍銀碳纖維上的吸附
芳雜環(huán)硫醇化合物在鍍銀碳纖維表面上的吸附不同鏈長(zhǎng)的取代烷基硫醇在鍍銀碳纖維上的吸附結(jié)構(gòu)示意圖
取代烷基硫醇在鍍銀碳纖維上的吸附
取代烷基硫醇的XPS譜圖S2p分峰擬合譜HTPATP芳基硫醇在鍍銀碳纖維上的吸附取向示意圖
芳基硫醇在鍍銀碳纖維上的吸附芳基硫醇的XPS譜圖S2p分峰擬合譜
芳雜環(huán)硫醇在鍍銀碳纖維表面上的吸附
MBT的XPS譜圖2-巰基苯并噻唑的化學(xué)結(jié)構(gòu)模型圖S2p分峰擬合譜§2.4
XPS分峰軟件的分峰步驟幾種常用的XPS分峰軟件:
Origin數(shù)據(jù)處理軟件
XPSpeak分峰軟件
Grams/32AI分峰軟件(特點(diǎn):操作方便,簡(jiǎn)單易學(xué))分峰基本原理:利用高斯函數(shù)(Gaussian函數(shù))
請(qǐng)將系統(tǒng)時(shí)間改回1998年Grams/32AI軟件的分峰步驟1、轉(zhuǎn)換數(shù)據(jù)格式:將原始數(shù)據(jù)在紅外光譜軟件里打開(kāi),對(duì)原始譜圖先進(jìn)行基線(xiàn)校正和平滑處理,然后將原始數(shù)據(jù)格式轉(zhuǎn)換成分峰軟件所需格式*.spc2、打開(kāi)GRAMS/32AI,引入數(shù)據(jù):點(diǎn)File---opentrace,引入所存數(shù)據(jù),則出現(xiàn)相應(yīng)的XPS譜圖。3、打開(kāi)分峰窗口:點(diǎn)Applications---AdvancedProcessing---PeakFitting,彈出窗口“PeakFittingOptions”。4、選擇分峰區(qū)域:手動(dòng),在圖形窗口的兩邊移動(dòng)藍(lán)色的框,確定結(jié)合能的起始和終點(diǎn)位置。5、設(shè)定參數(shù):在分峰窗口的Find---Function里選擇擬合函數(shù),一般選擇
Gaussian,即高斯函數(shù)。6、選峰和擬合:首先觀(guān)察好峰形,確定峰的個(gè)數(shù)和峰的大致位置,用鼠標(biāo)右鍵單擊選峰的位置,然后點(diǎn)“Iterate”里的“Run”,進(jìn)行擬合,觀(guān)察擬合后總峰與原始峰的重合情況,如不好,可以多次點(diǎn)“Run”。7、參數(shù)查看:擬合完成后,點(diǎn)“PKParameters”,看每個(gè)峰的參數(shù),通過(guò)峰面積可計(jì)算此元素在不同峰位的化學(xué)態(tài)的含量比8、數(shù)據(jù)輸出:點(diǎn)“Options”的“OutputDataFiles”,則將擬合好的數(shù)據(jù)存盤(pán),然后在Origin中作出擬合后的圖。注意:需要將擬合峰分別加上bas
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