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文檔簡介
1、雜質(zhì)的補(bǔ)償作用半導(dǎo)體中同時(shí)存在施主和受主雜質(zhì)時(shí),半導(dǎo)體是N型還是P型由雜質(zhì)的濃度差決定半導(dǎo)體中凈雜質(zhì)濃度稱為有效雜質(zhì)濃度(有效施主濃度;有效受主濃度)摻雜的方法:可以利用擴(kuò)散或離子注入的方法來改變半導(dǎo)體某一區(qū)域的導(dǎo)電類型雜質(zhì)的高度補(bǔ)償()將降低載流子濃度多數(shù)載流子(多子)與少數(shù)載流子(少子)N型半導(dǎo)體ND表施主雜質(zhì)濃度,NA表受主雜質(zhì)濃度,兩者同時(shí)存在,半導(dǎo)體究竟是n型還是p型?(假定施主雜質(zhì)和受主雜質(zhì)都完全電離)當(dāng)ND>>NA時(shí),受主能級低于施主能級,施主雜質(zhì)的電子首先躍遷到NA個(gè)受主能級,還有ND-NA個(gè)電子在施主能級上,n=ND-NA≈ND有效施主濃度P型半導(dǎo)體P型半導(dǎo)體當(dāng)NA>>ND時(shí),施主能級躍遷到受主能級后,受主能級還有NA-ND個(gè)空穴,p=NA-ND≈NA
有效受主濃度
雜質(zhì)補(bǔ)償作用是制造各種半導(dǎo)體器件的基礎(chǔ)。
如能根據(jù)需要用擴(kuò)散或離子注人方法來改變半導(dǎo)體中某一區(qū)域的導(dǎo)電類型,以制成各種器件.晶體管制造過程中的雜質(zhì)補(bǔ)償n型Si外延層PN硼
問題----控制不當(dāng),會(huì)出現(xiàn)ND
≈NA的現(xiàn)象。這時(shí),施主電子剛好夠填充受主能級,雖然雜質(zhì)很多,但不能向?qū)Ш蛢r(jià)帶提供電子和空穴,這種現(xiàn)象稱為雜質(zhì)的高度補(bǔ)償.
這種材料容易被誤認(rèn)高純半導(dǎo)體,實(shí)際上含雜質(zhì)很多,性能很差,不能用采制造半導(dǎo)體器件.雜質(zhì)半導(dǎo)體的示意表示法------------------------P型半導(dǎo)體++++++++++++++++++++++++N型半導(dǎo)體雜質(zhì)半導(dǎo)體多子和少子的移動(dòng)都能形成電流。但由于數(shù)量的關(guān)系,起導(dǎo)電作用的主要是多子。近似認(rèn)為多子與雜質(zhì)濃度相等。+4+4+5+4+4+4+3+4施主雜質(zhì)電離后向半導(dǎo)體提供(),受主雜質(zhì)電離后向半導(dǎo)體提供(),本征激發(fā)向半導(dǎo)體提供()A.空穴B.電子磷原子電子硼原子空穴填空:電子被施主雜質(zhì)束縛時(shí)的能量比導(dǎo)帶底Ec();被施主雜質(zhì)束縛的()的能量狀態(tài)稱為()??昭ū皇苤麟s質(zhì)束縛時(shí)的能量比價(jià)帶頂Ev();被受主雜質(zhì)束縛的()的能量狀態(tài)稱為()。淺-深能級淺能級:硅、鍺中的III、Ⅴ族雜質(zhì)的電離能都很小,所以受主能級很接近于價(jià)帶頂,施主能級很接近于導(dǎo)帶低。淺能級雜質(zhì)電離能的簡單計(jì)算:電離能很低束縛微弱利用類氫模型(1)氫原子基態(tài)電離能(2)用類氫原子模型估算淺能級雜質(zhì)電離能半導(dǎo)體中相對介電常數(shù)εr,雜質(zhì)應(yīng)處于介電常數(shù)為εoεr的介質(zhì)中,負(fù)電荷所受引力將衰減εr倍,束縛能量降減弱εr2倍;此時(shí)電子是在晶格周期性勢場中運(yùn)動(dòng),所以用mn*代替電子慣性質(zhì)量mo∴施主雜質(zhì)電離能可表示為:鍺、硅的相對介電常數(shù)εr
分別為16,12。鍺ΔΕD
=0.05mn*/m0
硅ΔED
=0.1mn*/m0而mn*/m0
,mn*/m0
小于1.硅鍺中雜質(zhì)電離能肯定小于0.1eV和0.05eV.受主雜質(zhì)討論相同.顯而易見是淺能級雜質(zhì).同理,受主雜質(zhì)電離能為深能級雜質(zhì)
在Si、Ge中摻入非Ⅲ、Ⅴ族雜質(zhì)后,在Si、Ge禁帶中產(chǎn)生的施主能級ED距導(dǎo)帶底EC較遠(yuǎn),產(chǎn)生的受主能級EA距價(jià)帶頂EV較遠(yuǎn),這種能級稱為深能級,對應(yīng)的雜質(zhì)稱為深能級雜質(zhì)。不容易電離,對載流子濃度影響不大一般會(huì)產(chǎn)生多重能級,甚至既產(chǎn)生施主能級也產(chǎn)生受主能級。能起到復(fù)合中心作用,使少數(shù)載流子壽命降低(在第五章詳
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