GB/T 18682-2002物理氣相沉積TiN薄膜技術(shù)條件

ICS25.220.20A29中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T18682-2002物理氣相沉積TiN薄膜技術(shù)條件SpecificationsofphysicalvapourdepositionTiNfilms2002-03-10發(fā)布2002-08-01實施中華人民共和國發(fā)布國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局

GB/T18682-2002次前言1范圍規(guī)范性引用文件術(shù)語和定義34技術(shù)要求5性能及試驗方法附錄A(規(guī)范性附錄）鍍膜前零件表面質(zhì)量控制技術(shù)要求附錄B(規(guī)范性附錄）物理氣相沉積技術(shù)用鈦靶………附錄C(規(guī)范性附錄)物理氣相沉積TiN設(shè)備的真空技術(shù)要求附錄D(規(guī)范性附錄)膜厚度測量方法……附錄E(規(guī)范性附錄)物理氣相沉積TiN薄膜防腐能力試驗方法附錄F(規(guī)范性附錄)物理氣相沉積TiN薄膜摩擦學(xué)性能試驗方法

GB/T18682-2002前本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A、附錄B、附錄C、附錄D、附錄E、附錄F為規(guī)范性附錄.本標(biāo)準(zhǔn)由中國機械工業(yè)聯(lián)合會提出。本標(biāo)準(zhǔn)由全國金屬與非金屬覆蓋層標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口本標(biāo)準(zhǔn)負責(zé)起草單位：武漢材料保護研究所本標(biāo)準(zhǔn)參加起草單位：鋼鐵研究總院、中科院力學(xué)研究所、中國航科集團公司五一一研究所、成都工具研究所、中科院蘭州化學(xué)物理研究所、蘭州真空設(shè)備有限責(zé)任公司、長沙科航新型表面技術(shù)研究所。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：凌國偉、李健、倪瀚、黃濟群、曲學(xué)基、紀(jì)曉春、秦襄培。

GB/T18682-2002物理氣相沉積TiN薄膜技術(shù)條件范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了物理氣相沉積TiN薄膜的技術(shù)要求。本標(biāo)準(zhǔn)適用于物理氣相沉積TiN薄膜.也適用于其他方法制備的TiN薄膜。本標(biāo)準(zhǔn)也適用于其他材料沉積層(TiC,TICN,TiAlN等).2規(guī)范性引用文件下列文件中的條款通過在本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有的修改單(不包括勒誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn).然而，鼓勵根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達成協(xié)議的各方研究是否使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。GB191包裝儲運圖示標(biāo)志(eqvISO780）GB/T3620.1鈦及鈦合金牌號和化學(xué)成分GB/T3620.2鈦及鈦合金加工產(chǎn)品化學(xué)成分及成分允許偏差GB/T4698海綿鈦、鈦及鈦合金化學(xué)分析方法GB/T5168兩相鈦合金高、低倍組織檢驗方法GB/T5193鈦及鈦合金加工產(chǎn)品超聲波探傷方法(eqvAMS2631)GB/T6070真空法蘭(eqvISO1609）GB/T8180鈦及鈦合金加工產(chǎn)品的包裝、標(biāo)志、運輸和儲存GB/T11164—1999真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件GB/T13384機電產(chǎn)品包裝通用技術(shù)條件GB/T15827離子鍍仿金氮化鈦的顏色(neqISO8654)JB/T6075氮化鈦涂層金相檢驗方法JB/T7506松散磨粒磨料磨損試驗方法橡膠輪法JB/T7673真空設(shè)備型號編制方法JB/T7705固定磨粒磨料磨損銷-砂紙盤滑動磨損法JB/T8554氣相沉積薄膜與基體附著力的劃痕試驗法JB/T53021真空鍍膜設(shè)備產(chǎn)品質(zhì)量分等3術(shù)語和定義下列術(shù)語和定義適用于本標(biāo)準(zhǔn)極限壓力ultimatevacuumpressure真空系統(tǒng)正常工作時，空載干燥的真空室達到穩(wěn)定的最低壓力。單位為Pa3.