逆反應(yīng)燒結(jié)法制備剛玉氮化硅復(fù)合耐火材料_第1頁(yè)
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一、非氧化物復(fù)合耐火材料的發(fā)展和傳統(tǒng)方 二、逆反應(yīng)燒結(jié)法原理和特,為了簡(jiǎn)化燒結(jié)工藝,降低成本科技大學(xué)的教授等提出了利,三、逆反應(yīng)燒結(jié)法應(yīng)用舉--剛玉氮化硅復(fù)合耐火材逆反應(yīng)燒結(jié)法剛玉氮化硅材料的熱力學(xué)計(jì)算和分類型不僅決定于氧分壓還決定氧化物分壓的大小。Si3N4材料氧化的生成物SiO2SiO決定氧化硅和氧的分壓。SiO(g)+1/2O2(g)= △G=-812.14+0.32518T-0.0191Tlog(

P 當(dāng)反應(yīng)達(dá)到平衡時(shí),△G1=0,log(

PO2O即,log( /Pθ)+1/2log(P 按上式作不同溫度下log( /Pθ)和log(P/Pθ)的關(guān)系 活活活活log(Plog(P------- - - -

0- - /P1SiO2SiOO2O分壓的降低,SiO的分壓升高。在1873K下,兩者相等的分壓為log( =log(P/Pθ)=-3.78,即 =1.7×10-5MPa時(shí) 也達(dá)到相同的

量還很少。只有當(dāng)氧分壓降低至log(P/Pθ)=-11.33時(shí),log( PSiO=0.1MPa,SiO沸騰”的壓力,才能顯著向外揮發(fā)。也表明O2分壓降到該值后SiN只能氧化成SiO。因此,文獻(xiàn)將( /Pθ)=1時(shí)的(P/Pθ)值 1873K時(shí)Si-O-NSiSi3SiN220-logPlogP----- - - - - - - 2Si-O-N系相穩(wěn)定圖由圖2可知,在1873K時(shí),當(dāng)剛玉-氮化硅復(fù)合材料在空氣結(jié)時(shí),表面的Si3N4首先被氧化成二氧化硅,即按下式反應(yīng) △G=-1991.33+0.20794T+0.0191T[log( /Pθ)2-log(P N 在空氣中時(shí), /Pθ=0.78,PN 很難進(jìn)入到材料中,同時(shí)反應(yīng)(2)的進(jìn)行使氧化層的O2 2SiO(3)

Si3N4(s)+3/2O2(g)=3SiO 生成的SiO(g)擴(kuò)散出來(lái)和Al2O3進(jìn)行如下反應(yīng)(4) 生成的和氮化硅又可形成X相,反應(yīng)式如下反應(yīng)(5) log(P/Pθ)=-14.0~-15.0X試驗(yàn)表 表 NO(g/cm3)溫非等溫動(dòng)力學(xué)分析其余粉料充分混合均勻后在電動(dòng)油壓機(jī)成φ25mm×20mm100MPa100℃,24小時(shí)干燥后,于不XRD、SEM、EDS逆反應(yīng)燒結(jié) 剛玉氮化硅材料的動(dòng)力學(xué)機(jī)表 體積密度顯氣孔率耐壓強(qiáng)度增重率價(jià)化合物燒結(jié)在一起,這也是耐火材料工作者經(jīng)常用Si氮化法反應(yīng)燒結(jié)的原因此,本研究旨在探索消耗部分Si3N4而在氧化氣氛結(jié)的途徑,即“逆反A:AlA:AlMN:SiM:AAMAAAMM+MNMAMANN+MNMNAAA 3XRDAAA:AlNSiM:AAX:SiAlOAMNANXAAMNNAXXXXXXNAMMNMMXAMAMXAA 4XRD56所示。561EDS結(jié)合X-光衍射結(jié)果,可以判斷1處為和剛玉形成的固溶體、,由圖3可見(jiàn),氧化層的物相組成為剛玉,氮化硅、和石英,氮化硅還玉、氮化硅和X相,氮化硅峰強(qiáng)度明顯強(qiáng)于氧化層,說(shuō)明氧化程度較輕,成如前所述。可見(jiàn)很高的氮化硅和剛玉之所以能夠燒結(jié),原因是氮化硅能將兩個(gè)高的化合物燒結(jié)在一起二氧化硅繼續(xù)和剛玉反應(yīng)生成高的結(jié)合相及X相。同時(shí),在氧化條件燒結(jié)時(shí),剛玉氮化硅材料中由于能形成致密、,將試樣AN-1、AN-2、AN-3、AN-4在空氣氣氛中1600℃保溫2小時(shí)燒成,燒4。AAA:Al2AM:3AlO2 AAAAAAMMMAA 7AN-11600℃XRD由X-射線衍射結(jié)果可知,AN-1中只有剛玉和,已經(jīng)不存在氮化硅,AN-2表AN-4表面鼓泡,可能是氮化硅含量過(guò)高,氧化劇烈而使得表面氧化膜中氣AN-3中由于氮化硅加入量

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