標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 11164-2011 真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件》相比于《GB/T 11164-1999 真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件》,主要在以下幾個(gè)方面進(jìn)行了更新與調(diào)整:
-
技術(shù)內(nèi)容的增補(bǔ)與細(xì)化:2011版標(biāo)準(zhǔn)對(duì)真空鍍膜設(shè)備的技術(shù)要求進(jìn)行了更詳細(xì)的規(guī)范,包括設(shè)備的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、材料選擇、制造工藝及質(zhì)量控制等方面,以適應(yīng)技術(shù)進(jìn)步和行業(yè)發(fā)展的新需求。
-
性能指標(biāo)的提升:更新了對(duì)真空鍍膜設(shè)備的性能要求,如真空度、膜層均勻性、沉積速率等關(guān)鍵參數(shù),設(shè)立了更為嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn),確保鍍膜產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率的提升。
-
安全與環(huán)保要求:增加了對(duì)設(shè)備安全操作及環(huán)境保護(hù)的相關(guān)規(guī)定,強(qiáng)調(diào)設(shè)備在設(shè)計(jì)和使用過程中應(yīng)符合國(guó)家有關(guān)安全、環(huán)保的法律法規(guī),體現(xiàn)了對(duì)安全生產(chǎn)和可持續(xù)發(fā)展的重視。
-
檢測(cè)方法與驗(yàn)收準(zhǔn)則:提供了更為具體和可操作的檢測(cè)方法和驗(yàn)收準(zhǔn)則,幫助用戶和制造商在設(shè)備驗(yàn)收時(shí)有明確的標(biāo)準(zhǔn)參照,增強(qiáng)了標(biāo)準(zhǔn)的實(shí)用性和執(zhí)行力。
-
術(shù)語和定義的更新:根據(jù)技術(shù)發(fā)展,修訂并新增了一些專業(yè)術(shù)語和定義,使標(biāo)準(zhǔn)語言更加準(zhǔn)確、清晰,便于行業(yè)內(nèi)外人士理解和應(yīng)用。
-
兼容性與國(guó)際接軌:考慮到全球化背景下技術(shù)交流與合作的需求,2011版標(biāo)準(zhǔn)在制定時(shí)參考了國(guó)際上先進(jìn)的同類標(biāo)準(zhǔn)和技術(shù)規(guī)范,提高了國(guó)內(nèi)真空鍍膜設(shè)備的國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力和市場(chǎng)適應(yīng)性。
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....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2011-11-21 頒布
- 2012-06-01 實(shí)施




文檔簡(jiǎn)介
ICS23160
J78.
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T11164—2011
代替
GB/T11164—1999
真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件
Vacuumcoatingplantgenericspecification
2011-11-21發(fā)布2012-06-01實(shí)施
中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布
中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
GB/T11164—2011
目次
前言…………………………
Ⅰ
范圍………………………
11
規(guī)范性引用文件…………………………
21
術(shù)語和定義………………
31
技術(shù)要求…………………
42
試驗(yàn)方法…………………
54
檢驗(yàn)規(guī)則…………………
65
標(biāo)志包裝運(yùn)輸貯存……………………
7、、、5
GB/T11164—2011
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標(biāo)準(zhǔn)代替真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件與相比主要變
GB/T11164—1999《》,GB/T11164—1999
化如下
:
為使用方便增加了目次
———;
修改了中真空鍍膜設(shè)備的壓力范圍由-4-3修改為-5
———GB/T11164—1999,10Pa~10Pa10Pa~
-3
10Pa;
修改了表中鍍膜室尺寸分檔增加了
———GB/T11164—19991,300、400、450、1100、1350、2200、
十檔尺寸并對(duì)帶號(hào)尺寸優(yōu)先選用進(jìn)行了調(diào)整
2400、2500、2600、3200,“*”;
修改了表中鍍膜設(shè)備的分檔增加了檔鍍膜設(shè)備并增加或修改了各
———GB/T11164—19991,C,
檔鍍膜設(shè)備的極限壓力抽氣時(shí)間及升壓率指標(biāo)
、;
因中部分規(guī)范性引用文件已修訂故本標(biāo)準(zhǔn)引用現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)
———GB/T11164—1999,;
修改了的用表格的方式規(guī)定了設(shè)備配套的電器裝置中各電氣回路
———GB/T11164—19994.4.6,
的絕緣電阻值
;
修改了的及增加了安全防護(hù)內(nèi)容
———GB/T11164—19994.5.44.5.12,。
本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)提出
。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)真空技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口
(SAC/TC18)。
本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位北京北儀創(chuàng)新真空技術(shù)有限責(zé)任公司
:。
本標(biāo)準(zhǔn)參加起草單位上海曙光機(jī)械制造廠有限公司蘭州真空設(shè)備有限責(zé)任公司成都南光機(jī)器
:、、
有限公司中國(guó)航天科技集團(tuán)第五研究院第研究所上海惠豐石油化工有限公司沈陽真空技術(shù)研
、510、、
究所
。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人陳月增謝鈞榮范立群孫凱溫發(fā)蘭靳毅劉強(qiáng)惠進(jìn)德王學(xué)智
:、、、、、、、、。
本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為
:
———GB/T11164—1989、GB/T11164—1999。
Ⅰ
GB/T11164—2011
真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了真空鍍膜設(shè)備的技術(shù)要求試驗(yàn)方法檢驗(yàn)規(guī)則及標(biāo)志包裝運(yùn)輸和貯存等要求
、、、、。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于壓力在-5-3范圍的真空蒸發(fā)類濺射類離子鍍類真空鍍膜設(shè)備以下
10Pa~10Pa、、(
簡(jiǎn)稱設(shè)備
)。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅所注日期的版本適用于本
。,
文件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件
。,()。
包裝儲(chǔ)運(yùn)圖示標(biāo)志
GB/T191—2008
真空技術(shù)術(shù)語
GB/T3163—2007
機(jī)械電氣安全機(jī)械電氣設(shè)備第部分通用技術(shù)條件
GB5226.1—20081:
真空技術(shù)法蘭尺寸
GB/T6070—2007
標(biāo)牌
GB/T13306—2011
機(jī)電產(chǎn)品包裝通用技術(shù)條件
GB/T13384—2008
電能質(zhì)量電力系統(tǒng)頻率偏差
GB/T15945—2008
機(jī)械電氣安全指示標(biāo)志和操作第部分關(guān)于視覺聽覺和觸覺信號(hào)的
GB18209.1—2010、1:、
要求
真空設(shè)備型號(hào)編制方法
JB/T7673
3術(shù)語和定義
界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件
GB/T3163—2007。
31
.
極限壓力ultimatepressure
泵在工作時(shí)空載干燥的真空容器逐漸接近達(dá)到并維持穩(wěn)定的最低壓力
,、
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