物理師考試參考及試題答案-模擬試卷四帶

2008LA物理師模擬試卷（四—單選題（共120小題，每小題只有一個(gè)選項(xiàng)是正確的ρNAMA克電子數(shù)：ZNA/MA) B C D EA表示該元素在周期表中的位 B表示原子核內(nèi)質(zhì)子數(shù)和中子數(shù)的多C表示原子核外電子數(shù)的多 D表示原子核內(nèi)質(zhì)子數(shù)的多E B10- C30Kev- D25Mev- E100Mev-A電離室的幾何尺寸B工作電壓的選 C正離子產(chǎn)生的速D負(fù)離子產(chǎn)生的速率E如以r表示電離室的半徑，則高能的有效測(cè)量點(diǎn)位于： A0.1r B0.3r C0.5r D0.75r E幾ABCDEABCDE由空穴參與導(dǎo)電并形成電流的硅晶體稱(chēng)為（）A“M” B“N” C“L” D“P” E“F”A1.17MevB1.25MevC D E用于腔內(nèi)治療較好的是 C鈷- D锎- E鍶-A B C D EA幾何半 B穿射半 C散射半 D物理半 E有效半A質(zhì)子B快中 C電 Dπ負(fù)介子E氧離A B C D E Ｂ C D EBqCiA1Bq=2.703×10-5B1Bq=2.703×10-C1Bq=2.703×10-11D1Bq=3.703×10-5E1Bq=3.703×10-7A對(duì)吸收劑量的校準(zhǔn)精度A校準(zhǔn) B鈷-60校準(zhǔn) C空氣中直接校 D不同能量分別校E鈷-60A減少穿射半 B減少散射半 C減少漏射D減少幾何半 E改善射線(xiàn)質(zhì) B快中 D氮離 E氖離 中的束流均整器會(huì)造成ABCDEA操作復(fù) B性能 C治療時(shí)間 D省 E安全、準(zhǔn)確、可靠且簡(jiǎn)鈷-60200KV-XA鈷-60200KV-XB200KV-X線(xiàn)機(jī)的散射半影比鈷-60C鈷-60200KV-XD鈷-60200KV-XE200KV-X線(xiàn)機(jī)的物理半影比鈷-60XA減輕皮膚反 B提高百分深度劑 C提高腫瘤（靶區(qū)）的百分深度劑D提高皮膚劑 E代替組織補(bǔ)償A修正射線(xiàn)束的傾 B修正身體表面的彎 C修正組織不均勻性的影D改善不規(guī)則射野劑量分布EA限定照射野大 B改善輸出劑量率C改變射線(xiàn)能量D改善射線(xiàn)的能EA模擬組織的射線(xiàn)相互作用的過(guò)B使用組織的等效材料構(gòu)成的模C使用組織的等效材料構(gòu)成的模型代替D使用組織的替代材料構(gòu)成的模E使用組織的替代材料構(gòu)成的模型代替對(duì)高能X射線(xiàn)或γA模體表面 B模體中 C模體表對(duì)邊長(zhǎng)分別為a和b的矩形野，等效的計(jì)算公式是A B D EAL1=L2 BL1＜L2 CL1≤L2 DL1≥L2 EL1＞L2XA濾掉低能部 B濾掉高能部C放射性核素金-198的射線(xiàn)平均能量(Mev)和半衰期分別是A0.83 B C0.662 D0.412 E0.412LET=()Kev/μm是高低LET射線(xiàn)的分界線(xiàn).A5 B8 C10 D20 A小野照射，劑量分布集中B小野照射，靶區(qū)周邊劑量變化梯度較C靶區(qū)內(nèi)及附近劑量分布不均勻D靶周邊正常組織劑量很小EA對(duì)選定能量的旋轉(zhuǎn)照射，一旦旋轉(zhuǎn)角度βB旋轉(zhuǎn)照射的劑量隨曲率半徑而變化的使用前提是等中心深度小于旋轉(zhuǎn)照射野寬度C對(duì)于固定等中心深度，電子數(shù)旋轉(zhuǎn)照射的劑量近似隨準(zhǔn)直器寬度線(xiàn)性變化D旋轉(zhuǎn)照射的常數(shù)Rc的單位是：Mu/cGy度E旋轉(zhuǎn)治療時(shí)，若治療深度固定，則存在一個(gè)最佳的能量，高于此能量時(shí)，旋轉(zhuǎn)常數(shù)Rc不變?cè)诜派渲委熤兴鶓?yīng)用的能量范圍內(nèi),電子在組織中損失能量的首要方式ABX(CDX(EX(A窄 B寬 C平行寬 D平行寬束和單一能 E平行窄束和單一能A增益比B治療 C標(biāo)準(zhǔn)劑量 D參考劑量 E耐受A C ELETA.物理特點(diǎn)，Bragg B生物特 C具有物理及生物特 D無(wú)何特ELETLETA物理特點(diǎn)，Bragg B生物特 C具有物理及生物特 D無(wú)何特ELETLETLETALETLETRBELETLETLETLETLETA1 B2-3 C5-7 D10 E20負(fù)πALETBLETCLETDLETEA劑量分布好B旁散射少C性強(qiáng)D局部劑量 E以上各根據(jù)L90/L50≥0.85的規(guī)定，所選射野應(yīng)至少等于或大于靶區(qū)橫徑的多少倍A0.5 B0.85 C1.0 D1.18倍E1.55PDDA能量B照射距離C腫瘤深 D源皮距E照射野面ABCDEA幾何半 B穿射半 C散射半 D物理半 E有效半TMRATMRBTMRCTMRDTMRETMRABC擺位時(shí)，源皮距應(yīng)取在基DABEABCA體積B最大劑 C最小劑量D治療部 E治療時(shí)銥-192用于近距離照射時(shí)優(yōu)于鈷-60A平方反比定律對(duì)銥-192B平方反比定律對(duì)鈷-60C銥-192源的γD銥-192源的γE鈷-60源的γA冠心病B放射性食管炎C肝衰竭D白內(nèi)障ESSD（）A B C D ESAD（）A B C D EA明尼蘇達(dá)大學(xué)醫(yī) B斯坦福大學(xué)醫(yī)學(xué) C洛杉磯大學(xué)醫(yī)學(xué)D波士頓大學(xué)醫(yī)學(xué) 的物理半影用哪個(gè)參數(shù)表示A C D E 的優(yōu)點(diǎn)除外哪項(xiàng)AB適合治療偏一側(cè)的病CD靶區(qū)后正常組織EA正交技術(shù)B立體平移技術(shù)C立體交角技術(shù)DE腔內(nèi)照射的經(jīng)典方法中,采用低強(qiáng)度源連續(xù)照射,且與源的強(qiáng)度接近的是A斯德哥爾摩系統(tǒng)B巴黎系統(tǒng)C曼徹斯特系統(tǒng)D系統(tǒng)E分次模擬系A(chǔ)宮 B宮 C宮 D組 E上A圓形體B橢圓體C長(zhǎng)方 D梨形體E錐形100cm2A C D EA靶區(qū)覆蓋指 B靶外體積指 C靶區(qū)劑量均勻性指 D超劑量體積指數(shù)E綜合指A治療 B參考 C參考 D參考等劑量線(xiàn) E靶直線(xiàn)使用的射野最大為A B C35mmD ELETA與乏氧細(xì)胞數(shù)目有關(guān)B與正常組織細(xì)胞增殖有關(guān)CD與腫瘤細(xì)胞的再分布有關(guān)EA10cmd0Bdd0Cd10cmDdEd零野的TMR（d,0）A原射線(xiàn)劑 B散射線(xiàn)劑 C準(zhǔn)直器的散射劑 D有效原射線(xiàn)劑EA射線(xiàn)能 B組織深 C射野大 D源皮 E以上各能量一定時(shí)，隨射野面積增大，PDDABCDEABCDE近距離照射計(jì)劃設(shè)計(jì)中規(guī)定:低劑量區(qū)定義為中心平面內(nèi)或平行于中心平面的任何平面內(nèi)（）平均中心劑量曲線(xiàn)A B C D E DCF=TAR(h-d,FSZd)/A對(duì)醫(yī)護(hù)人員損傷較大B治療時(shí)間短C施源器固定方便D對(duì)患者的護(hù)理更加方便E可治療的患A確定腫瘤的位置和范 B確定腫瘤與周?chē)M織的關(guān) C靶區(qū)勾D規(guī)定靶區(qū)劑 E設(shè)計(jì)布準(zhǔn)直器端面離開(kāi)表面（）cm時(shí)，大多數(shù)散射電子可以消除 B10- C15- D20- E25-A B C D EA B C D EA腫瘤空氣比法B有效源皮距法C有效衰減系數(shù) D同等量曲線(xiàn)移動(dòng)ELETRBE值（）1.0LETRBE值（）2.0A≤ B≥ C≤ D≥ E=X120Kv以下用（）A銅B鐵C D E120-400KvX線(xiàn)用（）A銅加 B鐵加 C銅加 D鋁加 E銅加銥-192A籽 B發(fā)針C銥 D串 E以上各A鹵化吡 B C馬藺子 D激 EA B C D E三大治療中放療對(duì)腫瘤治愈率的相對(duì)貢獻(xiàn)是A B C D EA三類(lèi)五 B三類(lèi)八 C四類(lèi)六 D五類(lèi)十 E六類(lèi)十ABCDEMLCA像素點(diǎn)大小B掃描層距C掃描層面與基環(huán)垂直程度DEA擺位框架標(biāo)尺精確度B激光燈精度C等中心精度D治療床精E0.5A B C D E激光燈與等中心重合度的QA檢驗(yàn)頻數(shù)為A每次治療 B每 C每 D每 E每季QAA每次治療 B每 C每 D每 E每季A B C D E A天B周C D EA天B周C D EA B C D EA平均 B中心 C中位 D標(biāo)準(zhǔn)差E標(biāo)準(zhǔn)3/4A1 B2 C3個(gè)D4 E560A瑞 BC德 D法 E中Elekta60 B1.11 C1.35 D1.55 E1.67聯(lián)系影像定位和治療擺位兩大部分的部件是A基礎(chǔ)環(huán)BCT C計(jì)算機(jī)DTPS系統(tǒng)E激光A小體積病變的少分次大劑量照射B小體積病變的少分次小劑量照射C小體積病變的多分次大劑量照射D大體積病變的少分次大劑量照射E大體積病變的多分次大劑量照射A0.5米B0.8米C1米D1.5米E2米A B C D EA B C D E治療室墻設(shè)計(jì)時(shí)需考慮的因素是A工作負(fù)荷B使用因 C居住因子D距離因子E以上各步進(jìn)源劑量學(xué)規(guī)定，整個(gè)計(jì)劃靶區(qū)內(nèi)所有劑量規(guī)定點(diǎn)劑量的平均值的A B C D E關(guān)于參考標(biāo)記的選擇，描述錯(cuò)誤的是AB對(duì)皮下脂肪層較薄的部位，皮膚標(biāo)記可設(shè)在固定面罩CDEAB源的分布要盡量C與源的強(qiáng)度為不同的比DABEA點(diǎn)劑量規(guī)定為ABCDELLISEA某些單一細(xì)胞或少數(shù)細(xì)胞的變異導(dǎo)致嚴(yán)重的效應(yīng)屬于確定性效B較大劑量照射使得組織或中產(chǎn)生臨床可檢查出的組織變化或嚴(yán)重功能性損傷的效應(yīng)屬于隨機(jī)效CDEA氫- B鈹- C碳- D鈉- E鉀-定位擺位框架的顯像材料構(gòu)成（）AM或 BM或 CN或 DN或 EM或定義年率作為性的衡量標(biāo)準(zhǔn)，稱(chēng)為A率B度C率D度E指以下各項(xiàng)中度為10-