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文檔簡介

件本課程的主要內(nèi)容是什么?為什么要學(xué)習(xí)本課程?怎樣學(xué)好本課程?電子器件發(fā)展簡史1904年:真空二極管1907年:真空三極管電子管1956

年出現(xiàn)了擴(kuò)散工藝,1959

年開發(fā)出了

硅平面工藝

,為以后集成電路的大發(fā)展奠定了技術(shù)基礎(chǔ)。1959

年美國的仙童公司(Fairchilds

)開發(fā)出了第一塊用硅平面工藝制造的集成電路,并于

2000

年獲得諾貝爾物理獎。半導(dǎo)體器件內(nèi)的載流子在外電場作用下的運動規(guī)律可以用一套

基本方程

來加以描述,這套基本方程是分析一切半導(dǎo)體器件的基本數(shù)學(xué)工具。

半導(dǎo)體器件基本方程是由

麥克斯韋方程組

結(jié)合

半導(dǎo)體的固體物理特性

推導(dǎo)出來的。這些方程都是三維的。1.1半導(dǎo)體器件基本方程的形式

1

章半導(dǎo)體器件基本方程對于數(shù)量場對于矢量場先來復(fù)習(xí)場論中的有關(guān)內(nèi)容2.輸運方程

輸運方程又稱為電流密度方程。(1-2)(1-3)電子電流密度

Jn

和空穴電流密度

Jp

都是由漂移電流密度和擴(kuò)散電流密度兩部分所構(gòu)成,即3.連續(xù)性方程

(1-4)(1-5)式中,Un

Up

分別代表電子和空穴的凈復(fù)合率。當(dāng)

U>0時表示凈復(fù)合,當(dāng)

U<0

時表示凈產(chǎn)生。所謂連續(xù)性是指載流子濃度在時空上的連續(xù)性,即:造成某體積內(nèi)載流子增加的原因,一定是載流子對該體積有凈流入和載流子在該體積內(nèi)有凈產(chǎn)生。4.方程的積分形式

以上各方程均為微分形式。其中方程(1-1)、(1-4)、(1-5)可根據(jù)場論中的積分變換公式而變換為如下的積分形式,(1-6)(1-8)(1-7)方程(1-7)、(1-8)稱為電子與空穴的

電荷控制方程

,表示流出某封閉曲面的電流受該曲面內(nèi)電荷隨時間的變化率與電荷的凈復(fù)合率所控制。在用基本方程分析半導(dǎo)體器件時,有兩條途徑,一條是用計算機求

數(shù)值解。這就是通常所說的半導(dǎo)體器件的數(shù)值模擬;另一條是求基本方程的

解析解,得到解的封閉形式的表達(dá)式。但求解析解是非常困難的。一般需先

對基本方程在一定的近似條件下加以簡化后再求解。本課程只討論第二條途徑。(1-9)(1-10)(1-11)(1-12)(1-13)1.2基本方程的簡化與應(yīng)用舉例

最重要的簡化是三維形式的方程簡化為一維形式,得到

例1.2

對于方程(1-10),(1-16)當(dāng)載流子濃度和電場很小而載流子濃度的梯度很大時,則漂移電流密度遠(yuǎn)小于擴(kuò)散電流密度,可以忽略漂移電流密度,方程(1-10)簡化為反之,則可以忽略擴(kuò)散電流密度,方程(1-10)簡化為

例1.3

對于方程(1-12)、(1-13)中的凈復(fù)合率

U,當(dāng)作如下假設(shè):(1)復(fù)合中心對電子空穴有相同的俘獲截面;(2)復(fù)合中心的能級與本征費米能級相等,則

U

可表為式中,代表載流子壽命,如果在

P

型區(qū)中,且滿足小注入條件,則同理,在

N

型區(qū)中,于是得(1-18)(1-19)(1-17)

例1.4

將電子的擴(kuò)散電流密度方程

(1-16)同理可得

空穴的擴(kuò)散方程,

(1-23)(1-21)代入電子的連續(xù)性方程(1-12)設(shè)

Dn為常數(shù),再將

Un

的表達(dá)式代入,可得

電子的擴(kuò)散方程,式中,,分別代表體積

V

內(nèi)的電子總電荷量和非平衡電子總電荷量。

例1.6

對于方程(1-7)(1-7)將電子凈復(fù)合率

Un

的方程(1-18)代入,并經(jīng)積分后得(1-26)定態(tài)時,,上式可再簡化為(1-27)方程(1-26)~(1-29)是電荷控制模型中的常用公式,只是具體形式或符號視不同情況而可能有所不同。同理,對于

N

型區(qū)中的少子空穴,定態(tài)時,(1-29)(1-28)

分析半導(dǎo)體器件時,應(yīng)先將整個器件分為若干個區(qū),然后在各個區(qū)中視具體情況對基本方程做相應(yīng)的簡化后進(jìn)行求解。求解微分方程時還需要給出

邊界條件。擴(kuò)散方程的邊界條件為邊界上的少子濃度與外加電壓之間的關(guān)系。于是就可以將外加電壓作為已知量,求解出各個區(qū)中的少子濃度分布、少子濃度梯度分布、電場分布、電勢分布、電流密度分布等,最終求得器件的各個端電流。第

2

章習(xí)題3、4、6、7、8、20、24、31、34、39思考題:1、2、9

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