蒸鍍與濺鍍介紹

表面處理加工部真空蒸鍍與濺鍍介紹真空蒸鍍

真空濺鍍目錄:第一章.真空蒸鍍介紹第二章.真空濺鍍介紹第三章.離子鍍介紹第四章.應(yīng)用范圍第五章.結(jié)束語

第一章.真空蒸鍍介紹:

一.底涂二.蒸鍍?nèi)?面涂

一.底漆(Basecaot)目的：1.填補(bǔ)射出模痕，增加平坦性及光澤2.做為鍍膜的接著層，增加鍍膜附著力3.調(diào)整鍍膜亮霧度4.防止素材分子擴(kuò)散至鍍膜層無底漆素材有底漆素材底漆1.真空的定義：真空并不是真正的沒有空氣，它是指低于一個大氣壓的氣體空間。1）粗真空（105~102Pa)

2）低真空（102~10-1Ｐａ）3）高真空（10-1~10-6Pa)4）超高真空(10-6Pa~10-12Pa)5）極高真空(<10-12Pa)2.真空蒸發(fā)鍍膜定義：在真空室中蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到固體（襯底或基片）表面，凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。3.蒸發(fā)的三個基本過程：Ａ．固相或液相氣相Ｂ．氣化原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間的運(yùn)輸Ｃ．蒸發(fā)原子或分子在基片表面上的沉積過程二.蒸鍍(Evaporation)4.

蒸發(fā)源的類型電阻蒸發(fā)源：蒸發(fā)源材料要求：1）熔點(diǎn)要高；2）飽和蒸汽壓低；3）化學(xué)性能穩(wěn)定；4）良好的耐熱性；5）原料豐富。常用W、Mo、Ta或耐高溫的金屬氧化物、陶瓷或石磨坩堝。三.面漆(Topcoat)目的：1.保護(hù)鍍膜層防侵蝕2.提供耐刮耐磨保護(hù)3.耐環(huán)境測試4.調(diào)整亮霧度5.加入顏料或染料可變化顏色一.濺鍍定義:

濺鍍是利用電漿所產(chǎn)生的離子，藉著離子對被濺鍍物體電極(Cathode)的轟擊(Bombardment)，使電漿的氣相(VaporPhase)內(nèi)具有被鍍物的粒子(如原子)，來產(chǎn)生沈積薄膜。

第二章.真空濺鍍介紹:二.In-line鍍膜製程123-13-23-4453-3腔內(nèi)鍍膜腔內(nèi)緩沖卸載真空腔上載真空腔輸送帶進(jìn)輸送帶出RF腔內(nèi)處理12345三.真空濺鍍各段功能單元名稱功能說明上載室大氣狀態(tài)時,基材自外部進(jìn)入本室,定位後;幫浦啟動抽至真空狀態(tài).清潔室真空狀態(tài)通入射頻電源(RF),產(chǎn)生Plasma電漿,清潔基材表面濺射緩衝室基材等待區(qū)濺射室真空狀態(tài)通入DC電源,產(chǎn)生濺射(Sputtering)反應(yīng),使基材成金屬色濺射緩衝室基材完成區(qū)緩衝室基材轉(zhuǎn)送區(qū)下載室基材完成後,自真空狀態(tài)通入空氣,以回到大氣,取出基材四.電漿(Plasma)的原理

電漿(Plasma):電子在電場中加速而與中性氣體分子或原子發(fā)生非彈性碰撞，產(chǎn)生離子化(Ionization)、解離(Dissociation)或激發(fā)(Excitement)而形成離子化氣體。電漿為一複雜的物質(zhì)狀態(tài)其所有組成包括離子、電子、中性原子與分子、受激態(tài)粒子、紫外線等，有異於固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)亦被稱為物質(zhì)的第四態(tài)。

1.3C產(chǎn)業(yè)如筆記型電腦、手機(jī)、ADSL等塑膠機(jī)殼之金屬鍍膜以應(yīng)用於防電磁波干擾；2.3C產(chǎn)業(yè)如手機(jī)按鍵等塑膠元件(PC、PMMA或ABS），掃瞄器塑膠聚光面，與抗靜電層鍍膜；3.IMD及其它顏色的鍍膜，不導(dǎo)電電鍍；4.包裝材料；5.生醫(yī)材料。五.真空濺鍍之應(yīng)用六.製程比較方法

傳統(tǒng)水電鍍

濺鍍

優(yōu)點(diǎn)

缺點(diǎn)

毒性強(qiáng),工業(yè)污染大膜厚難控制,膜質(zhì)差製程長,夾治具多被鍍物原材質(zhì)改變材料受限設(shè)備空間佔(zhàn)地大膜層厚

環(huán)保製程無工業(yè)污染膜質(zhì)佳,膜厚易控制被鍍物原材質(zhì)不變可連續(xù)性生產(chǎn)可鍍多層金屬材料不受限製程短,夾治具少佔(zhàn)地面積為傳統(tǒng)之1/3

符合TCO-99法規(guī)單位成本稍高但可以量制價離子鍍膜的原理1.離子鍍膜的定義：離子鍍膜是指在真空條件下，應(yīng)用氣體放電實(shí)現(xiàn)鍍膜，即在真空室中使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，同時將蒸發(fā)物或其反應(yīng)物蒸鍍在基片上。2.離子鍍把輝光放電、等離子體技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在一起，不但顯著提高了淀積薄膜的各種性能，而且大大擴(kuò)展了鍍膜技術(shù)的應(yīng)用范圍。第三章.離子鍍介紹:手機(jī)、DVD播放器、數(shù)碼相機(jī)、攝像機(jī)、MP3/MD/CD機(jī)及搖控