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材料分析期末試卷材料分析期末試卷材料分析期末試卷xxx公司材料分析期末試卷文件編號(hào):文件日期:修訂次數(shù):第1.0次更改批準(zhǔn)審核制定方案設(shè)計(jì),管理制度金材02級(jí)《材料分析測(cè)試技術(shù)》課程試卷答案選擇題:(8分/每題1分)1..當(dāng)X射線將某物質(zhì)原子的K層電子打出去后,L層電子回遷K層,多余能量將另一個(gè)L層電子打出核外,這整個(gè)過(guò)程將產(chǎn)生(D)。A.光電子;B.二次熒光;C.俄歇電子;D.(A+C)2.有一體心立方晶體的晶格常數(shù)是,用鐵靶Kα(λKα=)照射該晶體能產(chǎn)生(B)衍射線。A.三條;B.四條;C.五條;D.六條。3..最常用的X射線衍射方法是(B)。A.勞厄法;B.粉末多晶法;C.周轉(zhuǎn)晶體法;D.德拜法。4..測(cè)定鋼中的奧氏體含量,若采用定量X射線物相分析,常用方法是(C)。A.外標(biāo)法;B.內(nèi)標(biāo)法;C.直接比較法;D.K值法。5.可以提高TEM的襯度的光欄是(B)。A.第二聚光鏡光欄;B.物鏡光欄;C.選區(qū)光欄;D.其它光欄。6.如果單晶體衍射花樣是正六邊形,那么晶體結(jié)構(gòu)是(D)。A.六方結(jié)構(gòu);B.立方結(jié)構(gòu);C.四方結(jié)構(gòu);D.A或B。7..將某一衍射斑點(diǎn)移到熒光屏中心并用物鏡光欄套住該衍射斑點(diǎn)成像,這是(C)。A.明場(chǎng)像;B.暗場(chǎng)像;C.中心暗場(chǎng)像;D.弱束暗場(chǎng)像。8.僅僅反映固體樣品表面形貌信息的物理信號(hào)是(B)。A.背散射電子;B.二次電子;C.吸收電子;D.透射電子。判斷題:(8分/每題1分)產(chǎn)生特征X射線的前提是原子內(nèi)層電子被打出核外,原子處于激發(fā)狀態(tài)。(√)倒易矢量能唯一地代表對(duì)應(yīng)的正空間晶面。(√)大直徑德拜相機(jī)可以提高衍射線接受分辨率,縮短暴光時(shí)間。(×)X射線物相定性分析可以告訴我們被測(cè)材料中有哪些物相,而定量分析可以告訴我們這些物相的含量有什么成分。(×)有效放大倍數(shù)與儀器可以達(dá)到的放大倍數(shù)不同,前者取決于儀器分辨率和人眼分辨率,后者僅僅是儀器的制造水平。(√)電子衍射和X射線衍射一樣必須嚴(yán)格符合布拉格方程。(×)實(shí)際電鏡樣品的厚度很小時(shí),能近似滿足衍襯運(yùn)動(dòng)學(xué)理論的條件,這時(shí)運(yùn)動(dòng)學(xué)理論能很好地解釋襯度像。(√)掃描電子顯微鏡的襯度和透射電鏡一樣取決于質(zhì)厚襯度和衍射襯度。(×)填空題:(14分/每2空1分)電子衍射產(chǎn)生的復(fù)雜衍射花樣是高階勞厄斑、超結(jié)構(gòu)斑點(diǎn)、二次衍射、孿晶斑點(diǎn)和菊池花樣。當(dāng)X射線管電壓低于臨界電壓僅可以產(chǎn)生連續(xù)譜X射線;當(dāng)X射線管電壓超過(guò)臨界電壓就可以產(chǎn)生連續(xù)譜X射線和特征譜X射線。結(jié)構(gòu)振幅用F表示,結(jié)構(gòu)因素用表示,結(jié)構(gòu)因素=0時(shí)沒(méi)有衍射我們稱結(jié)構(gòu)消光或系統(tǒng)消光。對(duì)于有序固溶體,原本消光的地方會(huì)出現(xiàn)弱衍射。電磁透鏡的像差包括球差、像散和色差。衍射儀的核心是測(cè)角儀圓,它由輻射源、試樣臺(tái)和探測(cè)器共同組成測(cè)角儀。X射線測(cè)定應(yīng)力常用儀器有應(yīng)力儀和衍射儀,常用方法有Sin2Ψ法和0o-45o法。運(yùn)動(dòng)學(xué)理論的兩個(gè)基本假設(shè)是雙束近似和柱體近似。電子探針包括波譜儀和能譜儀兩種儀器。名詞解釋:(10分/每題2分)形狀因子——由于晶體形狀引起的衍射強(qiáng)度分布變化,又稱干涉函數(shù)。聚焦圓——試樣對(duì)入射X射線產(chǎn)生衍射后能聚焦到探測(cè)器上,此時(shí)輻射源、試樣和探測(cè)器三者位于同一個(gè)圓周上,這個(gè)圓稱之聚焦圓。景深與焦長(zhǎng)——在成一幅清晰像的前提下,像平面不變,景物沿光軸前后移動(dòng)的距離稱“景深”;景物不動(dòng),像平面沿光軸前后移動(dòng)的距離稱“焦長(zhǎng)”。應(yīng)變場(chǎng)襯度——由于應(yīng)變導(dǎo)致樣品下表面衍射波振幅與強(qiáng)度改變,產(chǎn)生的襯度稱應(yīng)變場(chǎng)襯度;襯度范圍對(duì)應(yīng)應(yīng)變場(chǎng)大小。背散射電子——入射電子被樣品原子散射回來(lái)的部分;它包括彈性散射和非彈性散射部分;背散射電子的作用深度大,產(chǎn)額大小取決于樣品原子種類和樣品形狀。問(wèn)答題:(36分/每題9分)X射線學(xué)有幾個(gè)分支每個(gè)分支的研究對(duì)象是什么答:X射線學(xué)有三個(gè)分支:X射線透射學(xué),X射線衍射學(xué),X射線光譜學(xué)。X射線透射學(xué)研究X射線透過(guò)物質(zhì)后的強(qiáng)度衰減規(guī)律,由此可以研究探測(cè)物體內(nèi)部形貌與缺陷;X射線衍射學(xué)研究晶體對(duì)X射線的衍射規(guī)律,由此可以通過(guò)X射線衍射研究晶體結(jié)構(gòu)與進(jìn)行物相分析等;X射線光譜學(xué)研究特征X射線與物質(zhì)元素的關(guān)系,由此可以根據(jù)特征X射線分析樣品組成。圖題為某樣品德拜相(示意圖),攝照時(shí)未經(jīng)濾波。巳知1、2為同一晶面衍射線,3、4為另一晶面衍射線.試對(duì)此現(xiàn)象作出解釋.答:根據(jù)衍射圖發(fā)現(xiàn)每個(gè)晶面都有兩條衍射線,說(shuō)明入射線存在兩個(gè)波長(zhǎng)。由于沒(méi)有采用濾波裝置,那么很可能是Kα、Kβ共同衍射的結(jié)果。分別說(shuō)明成像操作與衍射操作時(shí)各級(jí)透鏡(像平面與物平面)之間的相對(duì)位置關(guān)系,并畫(huà)出光路圖。答:成像操作時(shí)中間鏡是以物鏡的像作為物成像,然后由投影鏡進(jìn)一步放大投到熒光屏上,即中間鏡的物平面與物鏡的像平面重合;衍射操作是以物鏡的背焦點(diǎn)作為物成像,然后由投影鏡進(jìn)一步放大投到熒光屏上,即中間鏡的物平面與物鏡的背焦面重合。入圖所示:電子束和固體樣品作用時(shí)會(huì)產(chǎn)生哪些信號(hào)它們各具有什么特點(diǎn)答:①背散射電子。背散射電于是指被固體樣品中的原子核反彈回來(lái)的一部分入射電子。其中包括彈性背散射電子和非彈性背散射電子。背散射電子的產(chǎn)生范圍深,由于背散射電子的產(chǎn)額隨原子序數(shù)的增加而增加,所以,利用背散射電子作為成像信號(hào)不僅能分析形貌特征,也可用來(lái)顯示原子序數(shù)襯度,定性地進(jìn)行成分分析。②二次電子。二次電子是指被入射電子轟擊出來(lái)的核外電子。二次電子來(lái)自表面50-500?的區(qū)域,能量為0-50eV。它對(duì)試樣表面狀態(tài)非常敏感,能有效地顯示試樣表面的微觀形貌。③吸收電子。入射電子進(jìn)入樣品后,經(jīng)多次非彈性散射,能量損失殆盡(假定樣品有足夠厚度,沒(méi)有透射電子產(chǎn)生),最后被樣品吸收。若在樣品和地之間接入一個(gè)高靈敏度的電流表,就可以測(cè)得樣品對(duì)地的信號(hào)。若把吸收電子信號(hào)作為調(diào)制圖像的信號(hào),則其襯度與二次電子像和背散射電子像的反差是互補(bǔ)的。④透射電子。如果樣品厚度小于入射電子的有效穿透深度,那么就會(huì)有相當(dāng)數(shù)量的入射電子能夠穿過(guò)薄樣品而成為透射電子。樣品下方檢測(cè)到的透射電子信號(hào)中,除了有能量與入射電子相當(dāng)?shù)膹椥陨⑸潆娮油?,還有各種不同能量損失的非彈性散射電子。其中有些待征能量損失E的非彈性散射電子和分析區(qū)域的成分有關(guān),因此,可以用特征能量損失電子配合電子能量分析器來(lái)進(jìn)行微區(qū)成分分析。⑤特征X射線。特征X射線是原子的內(nèi)層電子受到激發(fā)以后,在能級(jí)躍遷過(guò)程中直接釋放的具有特征能量和波長(zhǎng)的一種電磁波輻射。如果用X射線探測(cè)器測(cè)到了樣品微區(qū)中存在某一特征波長(zhǎng),就可以判定該微區(qū)中存在的相應(yīng)元素。⑥俄歇電子。如果原子內(nèi)層電子能級(jí)躍遷過(guò)程中釋放出來(lái)的能量E不以X射線的形式釋放,而是用該能量將核外另一電子打出,脫離原子變?yōu)槎坞娮?,這種二次電子叫做俄歇電子。俄歇電子是由試樣表面極有限的幾個(gè)原于層中發(fā)出的,這說(shuō)明俄歇電子信號(hào)適用于表層化學(xué)成分分析。綜合題:(24分/每題12分)什么厚度的鎳濾波片可將CuKα輻射的強(qiáng)度降低至入射時(shí)的70%

如果入射X射線束中Kα和Kβ強(qiáng)度之比是5:1,濾波后的強(qiáng)度比是多少?已知μmα=/g,μmβ=290cm2/g,ρNi=cm3。解:一、設(shè)厚度為X,那么有,則。又,答μm的鎳片可以使強(qiáng)度降低70%;這樣的濾波片可以使Kα和Kβ強(qiáng)度之比是5:1,濾波后為29:1。下圖為18Cr2N4WA經(jīng)900℃油淬后在透射電鏡下攝得的選區(qū)電子衍射花樣示意圖,衍射花樣中有馬氏體和奧氏體兩套斑點(diǎn),請(qǐng)對(duì)其指數(shù)斑點(diǎn)進(jìn)行標(biāo)定。(詳細(xì)寫(xiě)出標(biāo)定步驟和注意事項(xiàng),不作具體標(biāo)定)解

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