mks spectra介紹殘余氣體分析儀

MKSMKS萬(wàn)機(jī)儀 全球化架總部位 波士5616萬(wàn)機(jī)儀 總50年發(fā)展經(jīng)2006年?duì)I業(yè)額為7.832010年?duì)I業(yè)額為8.5315全球2700員納斯達(dá)克上市 代碼MKSMKSSpectraMKSMKSSpectra11,000ft2Employs46people(36inCrewe+10Design,development,andmanufactureofgasysisequipmentBroadrangeofmarkets&productsSemiconductorfabs&HighenergyProcessIndustrialthinQMSsystemsforAPFuelcells&MKSMarkets,Applications&RGAMarketSemiEndIonVision1000B,Vision1000CVision1000C/E,Vision1000EVision1000P/HPQ2Vision1000I/HPQ2TOOLWebRGAAllIndustrialThinFilmEndLargesurfaceareacoatingDisk&headmanufactureDecorativecoatingMachinetoolcoatingSolarVisionHGST,CardinalGlass,FirstSolarGuardian,GeneralelectricSemi&ThinFilmIntegrationtoprocesstoolsBaselinemonitoringProcessMicrovisionPlusMicrovisionIPAviza,AMAT,Varian,Veeco,VonHighEnergyMicrovisionPluswithradiationresistantcables&UHVionDiamond,ESRFFermi,SLACVacuumKlystronNightvision/LightMicrovisionPlusMicrovisionIPeVisionMKSMarkets,Applications&RGAMarketTypicalGeneralResearch&SurfacescienceThermaldesorptionGeneralHV&MicrovisionPluseVisionPlusUHVionsourceResearchinstitutesGasSupplyContaminantmonitoringGasysisAirProductsAirLiquideDifferentialthermalResearchinstitutesFuelCells/GeneralcatalysisPolymerelectrolytemembranesSolidoxidefuelcellsFuelcellmanufacture&JohnsonMatheyRollsRoyce(Europe)Aerospace/MaterialsHeattreatmentprocessesVacuumfurnacesMicrovisionPlusMicrovisionIPGeneralInstrumentmanufacturersElectronmicroscopyQuadbasedinstrumenteVisionPlusSubMillbrook(Europe)AlphaMOS(Europe)MKSRGA(ResidualGasyzer余氣體分析儀 定定 Xe Xe組成氣體分壓的總和 離子–四極桿質(zhì)量過(guò)濾檢測(cè)推籠（帶負(fù)電壓源籠（帶正電壓加速電極板（帶負(fù)電壓（帶負(fù)電壓源籠里面為被測(cè)氣體分子原子。燈絲通電后會(huì)發(fā)射帶負(fù)電的電子，它受到帶負(fù)電推籠的推力飛向源籠，同時(shí)受到帶正電的源籠的引力，加速飛向源籠內(nèi)。加速的電子與源籠里面為被測(cè)氣體分子/焦板的引力，會(huì)加速?gòu)拇藘呻姌O板孔中穿過(guò)。 GoodchoiceforthemajorityofRunsathightempsoliableto‘burn’iftohighThorium Commonifhighpressureburstsarea(coatedon Notresilienttochlorineor-DC/-DC/四極桿上施加各一組極性相反的直流/足夠長(zhǎng)的極桿提供的過(guò)濾周更高的射頻頻率等效于的過(guò)濾周高增高增法拉10-11低增M+10-1410-14M+M+800 zero法拉第檢測(cè)10-4mbar250℃光電倍增檢測(cè)僅能工作在10-6mbar不能工作在高于50℃片，分子–氬原子質(zhì)量是

1 當(dāng)失去一個(gè)電子時(shí)，其質(zhì)荷比是40/140當(dāng)失去兩個(gè)電子時(shí)，其質(zhì)荷比是40/220例子二氧化碳其峰值出現(xiàn)在44CO2+28CO+16O+12

CarbonDioxide?

PeakPeak0 81012141618202224262830323436384042444648Mass/Charge總壓力是1.1x10-壓總壓力是1.1x10-

65%氮?dú)?8%15%2%氬氣,100高真空清潔系統(tǒng)化學(xué)氣相濺泵油污輕有機(jī)重有機(jī)MicroVisionHighPerformanceApplications,預(yù)過(guò)濾預(yù)過(guò)濾分析儀能改善沾污，提高敏三過(guò)濾雙過(guò)濾單過(guò)濾(4吋傳輸率(對(duì)數(shù)標(biāo)尺

質(zhì)量

基本型質(zhì)譜 10-4mbar(總壓)到10-14mbar(分壓100ppb檢測(cè)極高壓性 10mbar(總壓)到10-10mbar(分壓10ppm檢測(cè)極帶真空泵系 大氣壓到10-14mbar(分壓100ppb檢測(cè)極常壓性CIRRUS2 大氣100ppb檢15ppb檢測(cè)極Products-PressureCirrus從ppb易于操作和CirrusCirrus2CirrusCirrus(低噪聲(高信號(hào)提供較高的溫度以減少效Cirrus2系統(tǒng)介（續(xù)70l/s4頭高壓縮,隔膜80℃時(shí)切斷電子系24VCirrus系統(tǒng)四極桿分析儀Capillary

TotheBacking

EndofQuadrupoleElectronEntryCirrusCirrus2低、快速響應(yīng)氣惰性的搪瓷毛細(xì)不銹鋼毛細(xì)管可選加熱到150℃以防止取樣氣體冷300更好的取樣傳輸特小體適合各種特殊應(yīng)用需容易ProcessProcessEyeProfessional基于Windows2000,XP數(shù)據(jù)顯示用單Recipe（菜單式）驅(qū)動(dòng)自動(dòng)操作和用戶定義和警(靈活的數(shù)據(jù)顯示包括雙“條形圖/CirrusPCCirrusCirrus2多氣流帶壓力補(bǔ)償?shù)亩鄽饬鰿irrusCirrus2的選件48,16ProcessEyeProcessEye軟件若選擇自動(dòng)，可帶閥帶閥(選件這個(gè)選件類似于先前介紹的多氣體選但一個(gè)氣體閥動(dòng)態(tài)地調(diào)整