專利技術(shù)交底書的撰寫培訓(xùn)講學(xué)課件

專利技術(shù)交底書的撰寫專利技術(shù)交底書的撰寫技術(shù)交底書的重要性直接影響代理人對(duì)技術(shù)的理解；直接影響專利申請(qǐng)文件的撰寫質(zhì)量、表現(xiàn)形式和說明思路；直接影響后續(xù)溝通所耗費(fèi)的精力和時(shí)間。因此，完善、清晰、準(zhǔn)確的技術(shù)交底書是獲得高質(zhì)量專利文件的重要條件之一。

技術(shù)交底書的重要性直接影響代理人對(duì)技術(shù)的理解；技術(shù)交底書的內(nèi)容重點(diǎn)內(nèi)容主要集中在：背景技術(shù)——原來什么方案發(fā)明內(nèi)容——解決的技術(shù)問題和有益效果具體實(shí)施方式——

現(xiàn)在方案是怎么實(shí)現(xiàn)的 技術(shù)交底書的內(nèi)容重點(diǎn)內(nèi)容主要集中在：背景技術(shù)的撰寫包括二部分：1．現(xiàn)有技術(shù)內(nèi)容和對(duì)專利背景知識(shí)的介紹2．現(xiàn)有技術(shù)的缺陷 通過二個(gè)內(nèi)容的說明，自然而然地引出發(fā)明創(chuàng)造所要解決的技術(shù)問題

背景技術(shù)的撰寫發(fā)明內(nèi)容的撰寫發(fā)明內(nèi)容——現(xiàn)在什么方案包括三部分：要解決的技術(shù)問題——為什么要發(fā)明；技術(shù)方案——發(fā)明了什么；有益效果——有什么好處。

發(fā)明內(nèi)容的撰寫發(fā)明內(nèi)容——現(xiàn)在什么方案發(fā)明內(nèi)容的撰寫基本要求：a、采用正面語言直接、清楚、客觀地說明；b、體現(xiàn)要求保護(hù)的技術(shù)方案的主題名稱和發(fā)明類型；c、將要解決的技術(shù)問題分出層次，主要問題、次要問題；d、避免比較籠統(tǒng)的目的。

發(fā)明內(nèi)容的撰寫基本要求：發(fā)明內(nèi)容的撰寫技術(shù)方案——發(fā)明了什么 重點(diǎn)指出本發(fā)明對(duì)已知技術(shù)的改進(jìn)部分，即本發(fā)明的發(fā)明點(diǎn)或技術(shù)特點(diǎn)所在。

突出發(fā)明點(diǎn)、保護(hù)重點(diǎn)

申請(qǐng)人可以使用自己喜好的任何方式來描述，無論哪種表述方式，只要能夠?qū)l(fā)明的技術(shù)方案的具體實(shí)現(xiàn)過程闡述清楚，不產(chǎn)生歧義即可。

發(fā)明內(nèi)容的撰寫技術(shù)方案——發(fā)明了什么發(fā)明內(nèi)容的撰寫有益效果——通?？梢允恰岣弋a(chǎn)率、質(zhì)量、精度和效率；——節(jié)省能耗、原材料、工序；——簡便加工、操作、控制、使用等；具體表達(dá)方式：結(jié)構(gòu)特征或作用關(guān)系分析方式（如：通過結(jié)構(gòu)改變成……，使形狀適配，強(qiáng)度高，結(jié)構(gòu)穩(wěn)定）理論說明方式數(shù)據(jù)對(duì)比方式（如：數(shù)據(jù)表明，…….）發(fā)明內(nèi)容的撰寫有益效果——通?？梢允蔷唧w實(shí)施方式的撰寫具體實(shí)施方式——發(fā)明是怎么實(shí)現(xiàn)的

這部分內(nèi)容是說明書的重要部分，是理解和再現(xiàn)發(fā)明、支持和解釋權(quán)利要求十分重要的依據(jù)，也是充分公開發(fā)明的關(guān)鍵所在，因此這部分應(yīng)當(dāng)詳細(xì)、具體地描述實(shí)現(xiàn)發(fā)明的優(yōu)選方式，通過實(shí)施例并結(jié)合附圖進(jìn)行描述。

具體實(shí)施方式的撰寫具體實(shí)施方式——發(fā)明是怎么實(shí)現(xiàn)的具體實(shí)施方式的撰寫撰寫要求如下：至少描述一個(gè)具體實(shí)施方式，其描述的具體化程度應(yīng)達(dá)到使所屬領(lǐng)域技術(shù)人員按照該內(nèi)容可重現(xiàn)發(fā)明；具體實(shí)施方式的撰寫撰寫要求如下：技術(shù)交底書中其他需要注意的問題

1、完整2、清楚、前后一致3、準(zhǔn)確技術(shù)交底書中其他需要注意的問題1、完整技術(shù)交底書中其他需要注意的問題

完整 不僅給出理解完整技術(shù)方案的教導(dǎo)，而且給出再現(xiàn)發(fā)明的教導(dǎo)（兩個(gè)方面都不能少）充分公開——后果可能是最終得不到專利權(quán)保留技術(shù)秘密的前提是發(fā)明的技術(shù)方案仍是完整且可實(shí)現(xiàn)的。技術(shù)交底書中其他需要注意的問題完整技術(shù)交底書中其他需要注意的問題

其他需要注意的小問題：具體實(shí)施例與附圖緊密聯(lián)系，結(jié)合附圖說明實(shí)施例（解釋附圖）；不僅給出部件內(nèi)容，還要說明連接關(guān)系、信號(hào)流向、控制時(shí)序等；如果要求保護(hù)的是一種產(chǎn)品，需要突出實(shí)體特征和關(guān)系特征，實(shí)施例應(yīng)當(dāng)體現(xiàn)一種或幾種產(chǎn)品；如果要求保護(hù)的是一種方法，需要突出動(dòng)作特征和限定特征，實(shí)施例應(yīng)當(dāng)體現(xiàn)一種或幾種過程。技術(shù)交底書中其他需要注意的問題其他需要注意的小問題：謝謝！謝謝！此課件下載可自行編輯修改，僅供參考！

感謝您的支持，我們努力做得更好！謝謝此課件下載可自行編輯修改，僅供參考！

感謝您的支持，我們努力專利技術(shù)交底書的撰寫專利技術(shù)交底書的撰寫技術(shù)交底書的重要性直接影響代理人對(duì)技術(shù)的理解；直接影響專利申請(qǐng)文件的撰寫質(zhì)量、表現(xiàn)形式和說明思路；直接影響后續(xù)溝通所耗費(fèi)的精力和時(shí)間。因此，完善、清晰、準(zhǔn)確的技術(shù)交底書是獲得高質(zhì)量專利文件的重要條件之一。

技術(shù)交底書的重要性直接影響代理人對(duì)技術(shù)的理解；技術(shù)交底書的內(nèi)容重點(diǎn)內(nèi)容主要集中在：背景技術(shù)——原來什么方案發(fā)明內(nèi)容——解決的技術(shù)問題和有益效果具體實(shí)施方式——

現(xiàn)在方案是怎么實(shí)現(xiàn)的 技術(shù)交底書的內(nèi)容重點(diǎn)內(nèi)容主要集中在：背景技術(shù)的撰寫包括二部分：1．現(xiàn)有技術(shù)內(nèi)容和對(duì)專利背景知識(shí)的介紹2．現(xiàn)有技術(shù)的缺陷 通過二個(gè)內(nèi)容的說明，自然而然地引出發(fā)明創(chuàng)造所要解決的技術(shù)問題

背景技術(shù)的撰寫發(fā)明內(nèi)容的撰寫發(fā)明內(nèi)容——現(xiàn)在什么方案包括三部分：要解決的技術(shù)問題——為什么要發(fā)明；技術(shù)方案——發(fā)明了什么；有益效果——有什么好處。

發(fā)明內(nèi)容的撰寫發(fā)明內(nèi)容——現(xiàn)在什么方案發(fā)明內(nèi)容的撰寫基本要求：a、采用正面語言直接、清楚、客觀地說明；b、體現(xiàn)要求保護(hù)的技術(shù)方案的主題名稱和發(fā)明類型；c、將要解決的技術(shù)問題分出層次，主要問題、次要問題；d、避免比較籠統(tǒng)的目的。

發(fā)明內(nèi)容的撰寫基本要求：發(fā)明內(nèi)容的撰寫技術(shù)方案——發(fā)明了什么 重點(diǎn)指出本發(fā)明對(duì)已知技術(shù)的改進(jìn)部分，即本發(fā)明的發(fā)明點(diǎn)或技術(shù)特點(diǎn)所在。

突出發(fā)明點(diǎn)、保護(hù)重點(diǎn)

申請(qǐng)人可以使用自己喜好的任何方式來描述，無論哪種表述方式，只要能夠?qū)l(fā)明的技術(shù)方案的具體實(shí)現(xiàn)過程闡述清楚，不產(chǎn)生歧義即可。

發(fā)明內(nèi)容的撰寫技術(shù)方案——發(fā)明了什么發(fā)明內(nèi)容的撰寫有益效果——通?？梢允恰岣弋a(chǎn)率、質(zhì)量、精度和效率；——節(jié)省能耗、原材料、工序；——簡便加工、操作、控制、使用等；具體表達(dá)方式：結(jié)構(gòu)特征或作用關(guān)系分析方式（如：通過結(jié)構(gòu)改變成……，使形狀適配，強(qiáng)度高，結(jié)構(gòu)穩(wěn)定）理論說明方式數(shù)據(jù)對(duì)比方式（如：數(shù)據(jù)表明，…….）發(fā)明內(nèi)容的撰寫有益效果——通常可以是具體實(shí)施方式的撰寫具體實(shí)施方式——發(fā)明是怎么實(shí)現(xiàn)的

這部分內(nèi)容是說明書的重要部分，是理解和再現(xiàn)發(fā)明、支持和解釋權(quán)利要求十分重要的依據(jù)，也是充分公開發(fā)明的關(guān)鍵所在，因此這部分應(yīng)當(dāng)詳細(xì)、具體地描述實(shí)現(xiàn)發(fā)明的優(yōu)選方式，通過實(shí)施例并結(jié)合附圖進(jìn)行描述。

具體實(shí)施方式的撰寫具體實(shí)施方式——發(fā)明是怎么實(shí)現(xiàn)的具體實(shí)施方式的撰寫撰寫要求如下：至少描述一個(gè)具體實(shí)施方式，其描述的具體化程度應(yīng)達(dá)到使所屬領(lǐng)域技術(shù)人員按照該內(nèi)容可重現(xiàn)發(fā)明；具體實(shí)施方式的撰寫撰寫要求如下：技術(shù)交底書中其他需要注意的問題

1、完整2、清楚、前后一致3、準(zhǔn)確技術(shù)交底書中其他需要注意的問題1、完整技術(shù)交底書中其他需要注意的問題

完整 不僅給出理解完整技術(shù)方案的教導(dǎo)，而且給出再現(xiàn)發(fā)明的教導(dǎo)（兩個(gè)方面都不能少）充分公開——后果可能是最終得不到專利權(quán)保留技術(shù)秘密的前提是發(fā)明的技術(shù)方案仍是完整且可實(shí)現(xiàn)的。技術(shù)交底書中其他需要注意的問題完整技術(shù)交底書中其他需要注意的問題

其他需要注意的小問題：具體實(shí)施例與附圖緊密聯(lián)系，結(jié)合附圖說明實(shí)施例（解釋附圖）；不僅給出部件內(nèi)容，還要說明連接關(guān)系、信號(hào)流向、控制時(shí)序等；如果要求保護(hù)的是一種產(chǎn)品，需要突出實(shí)體特征和關(guān)系特征