半導(dǎo)體硅片電阻率及硅7膜薄層電阻測(cè)定非接觸渦流法編制說明

1、協(xié)會(huì)標(biāo)準(zhǔn)多晶硅用回收氫氣中氯化氫、氮?dú)?、氧氣、總碳含量的測(cè)定 氣相色譜法（討論稿）編制說明一、工作簡(jiǎn)況1、 立項(xiàng)目的及意義半導(dǎo)體材料（尤其是集成電路工業(yè)）是電子信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)和核心，是國(guó)民經(jīng)濟(jì)現(xiàn)代化與信息化建設(shè)的先導(dǎo)與支柱產(chǎn)業(yè)。半導(dǎo)體硅單晶材料則是半導(dǎo)體工業(yè)的最重要的主體功能材料，多晶硅是生產(chǎn)單晶硅的直接原料，是當(dāng)代人工智能、自動(dòng)控制、信息處理、光電轉(zhuǎn)換等半導(dǎo)體器件的電子信息基礎(chǔ)材料，是極為重要的優(yōu)良半導(dǎo)體材料，回收氫氣作為多晶硅生產(chǎn)的重要原料還原劑和載流氣體， 回收氫氣的品質(zhì)直接影響著多晶硅的品質(zhì)。多晶硅的生產(chǎn)技術(shù)主要為改良西門子法和硅烷法。 西門子法通過氣相沉積的方式生產(chǎn)柱狀多晶硅，為了提

2、高原料利用率和環(huán)境友好，在前者的基礎(chǔ)上采用了閉環(huán)式生產(chǎn)工藝即改良西門子法。它是由德國(guó) Siemens公司發(fā)明并于 1954 年申請(qǐng)了專利 1965 年左右實(shí)現(xiàn)了工業(yè)化。經(jīng)過幾十年的應(yīng)用和發(fā)展，西門子法不斷完善，先后出現(xiàn)了第一代、第二代和第三代，第三代多晶硅生產(chǎn)工藝即改良西門子法，它在第二代的基礎(chǔ)上增加了還原尾氣干法回收系統(tǒng)、 SiCl4 回收氫化工藝，實(shí)現(xiàn)了完全閉環(huán)生產(chǎn)，是西門子法生產(chǎn)高純多晶硅技術(shù)的最新技術(shù)。硅在西門子法多晶硅生產(chǎn)流程內(nèi)部的循環(huán)利用。干法回收氫中的總碳，氧氣，氮?dú)獾龋跖c硅的親和力很強(qiáng)，在高溫工作條件下極易氧化生成二氧化硅，在多晶硅生產(chǎn)過程中產(chǎn)生加層現(xiàn)象；總碳會(huì)造成多晶硅成品

3、中碳含量升高，所以回收氫氣的品質(zhì)控制有重要意義。干法回收系統(tǒng)回收的氫氣中氯化氫含量高，則在多晶硅生產(chǎn)過程的前期出現(xiàn)倒?fàn)t現(xiàn)象，后期可能出現(xiàn)磷超標(biāo)的現(xiàn)象，嚴(yán)重影響多晶硅的品質(zhì)；氯化氫的存在，若遇到水分會(huì)造成管道腐蝕，降低設(shè)備壽命，對(duì)回收氫氣中氯化氫含量的有效控制，對(duì)于提高多晶硅品質(zhì)、節(jié)約生產(chǎn)成本，目前多晶硅行業(yè)中尚無統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)的檢測(cè)方法。目前測(cè)定氯化氫的方法有離子色譜法，分光光度法，紅外光譜法，采用離子色譜法時(shí)需將氯化氫轉(zhuǎn)化為氯離子進(jìn)行檢測(cè)，操作過程繁瑣，耗氣量大耗時(shí)長(zhǎng)等缺點(diǎn)；采用分光光度法，操作繁瑣，誤差大，穩(wěn)定時(shí)間長(zhǎng)等；傅里葉紅外光譜法分析方法，回收氫氣中的其他氣體干擾其測(cè)定。基于以上原因所建立

4、回收氫氣中氯化氫含量的測(cè)定氣相色譜法，對(duì)多晶硅生成管控產(chǎn)生重要意義。2、 任務(wù)來源1根據(jù)國(guó)家工信部關(guān)于下達(dá) 2017 年協(xié)會(huì)標(biāo)準(zhǔn)制修訂計(jì)劃的通知（中色協(xié)科字 20178 號(hào)）文件精神，由新特能源股份有限公司負(fù)責(zé)修訂多晶硅用回收氫氣中氯化氫、氮?dú)狻⒀鯕?、總碳含量的測(cè)定 氣相色譜法，由全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)材料分會(huì)負(fù)責(zé)歸口，計(jì)劃編號(hào) 2016-023-T/CNIA ，計(jì)劃完成時(shí)間為 2018 年。3、 編制單位簡(jiǎn)況新特能源股份有限公司 簡(jiǎn)稱：新特能源 成立于 2008 年，主要推崇綠色制造、循環(huán)經(jīng)濟(jì)發(fā)展模式，在致力太陽(yáng)能光伏產(chǎn)業(yè)鏈建設(shè)的基礎(chǔ)上，從循環(huán)經(jīng)濟(jì)的減量化、再利用和循環(huán)使用原則

5、出發(fā)，采用全閉環(huán)的多晶硅生產(chǎn)工藝。建立納米材料分公司、新能建材有限公司，利用多晶硅生產(chǎn)中副產(chǎn)物四氯化硅生產(chǎn)氣相二氧化硅，利用發(fā)電過程產(chǎn)生的煤渣、粉煤灰等生產(chǎn)加氣塊，變廢為寶。被評(píng)為國(guó)家“優(yōu)秀循環(huán)經(jīng)濟(jì)企業(yè)”。生產(chǎn)、研發(fā)、銷售高純多晶硅、多晶硅 /單晶硅硅片、高純四氯化硅、氣相二氧化硅等產(chǎn)品，并提供硅產(chǎn)業(yè)技術(shù)服務(wù)，主導(dǎo)產(chǎn)品為多晶硅，目前，多晶硅生產(chǎn)規(guī)模達(dá)到 15000 噸/年，居世界前八位，中國(guó)前三位。新特能源堅(jiān)持機(jī)制創(chuàng)新、體制創(chuàng)新、科技創(chuàng)新、管理創(chuàng)新、文化創(chuàng)新的創(chuàng)新求變理念，2012 年經(jīng)新特能源股份有限公司高層領(lǐng)導(dǎo)研究決定在新特能源質(zhì)檢中心的基礎(chǔ)上組建了新疆新特新能材料檢測(cè)中心有限公司， 本公

6、司于 2013 年和 2014 年兩年間相繼取得 CMA 和 CNAS 資質(zhì)，本公司實(shí)驗(yàn)室有效建筑面積 6540m2，其中十萬(wàn)級(jí)恒溫空間占地 6340 m2，千級(jí)高潔凈間占地 756 m2；實(shí)驗(yàn)室儀器配置涵蓋了氣相、液相色譜，光譜、質(zhì)譜等常規(guī)及高尖端分析檢測(cè)儀器 ,超潔凈的環(huán)境、高尖端的設(shè)備為無機(jī)痕量級(jí)分析奠定了基礎(chǔ)，這些設(shè)備為后續(xù)的多晶硅實(shí)驗(yàn)檢測(cè)提供了良好的硬件設(shè)施及條件。二、主要工作過程2017年 4月，新特能源股份有限公司接到工信部工作計(jì)劃后，在全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)的組織下，成立了標(biāo)準(zhǔn)編制組，由邱艷梅任組長(zhǎng)。標(biāo)準(zhǔn)編制組充分調(diào)研了本公司和同行業(yè)其他單位對(duì)回收氫氣的品質(zhì)要求和

7、檢測(cè)現(xiàn)狀。多晶硅用回收氫氣中氯化氫含量測(cè)定氣相色譜法在執(zhí)行過程中，首先對(duì)儀器設(shè)備進(jìn)行確定，然后用標(biāo)準(zhǔn)氣體進(jìn)樣定性確定色譜峰，對(duì)色譜條件進(jìn)行確定。多晶硅用回收氫氣中氧氣、氮?dú)狻⒖偺己康臏y(cè)定，目前實(shí)驗(yàn)室就在使用氣象色譜法進(jìn)行檢測(cè)，首先隊(duì)以往檢測(cè)數(shù)據(jù)匯總并分析，用標(biāo)準(zhǔn)氣體進(jìn)行進(jìn)一步驗(yàn)證，并對(duì)色譜條件進(jìn)行優(yōu)化。三、本標(biāo)準(zhǔn)編制的原則和主要內(nèi)容2標(biāo)準(zhǔn)編制原則1.1.本標(biāo)準(zhǔn)的編寫格式按國(guó)家標(biāo)準(zhǔn) GB/T1.1-2009標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則 第 1 部分：標(biāo)準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)和編寫的統(tǒng)一規(guī)定和要求進(jìn)行編寫的；1.2.本標(biāo)準(zhǔn)在制定過程中，以現(xiàn)有的紅外法檢測(cè)氯化氫含量的方法，氣體中氧氣、氮?dú)狻⒖偺嫉暮糠治龇椒榛A(chǔ)，結(jié)合目前

8、同行業(yè)中對(duì)回收氫氣的品質(zhì)要求以及各成分濃度大小對(duì)多晶硅品質(zhì)影響等因素開發(fā)研究使用氣相色譜法來檢測(cè)，并綜合考慮了行業(yè)的實(shí)際需求與未來一段時(shí)間內(nèi)的技術(shù)發(fā)展要求。本標(biāo)準(zhǔn)的主要內(nèi)容標(biāo)準(zhǔn)主要內(nèi)容： 范圍、 術(shù)語(yǔ)和定義、 干擾因素、測(cè)量?jī)x器、測(cè)量步驟，五大部分的內(nèi)容。 與現(xiàn)有方法做對(duì)比， 根據(jù)現(xiàn)階段行業(yè)內(nèi)對(duì)原料的使用際需求技術(shù)指標(biāo)上做了優(yōu)化和調(diào)整。2.1 氧氣、氮?dú)鈽?biāo)準(zhǔn)氣體氫氣中氧氣、氮?dú)鉁y(cè)定數(shù)據(jù)表序號(hào)檢測(cè)項(xiàng)目123456標(biāo)準(zhǔn)偏差相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差氧氣1100.1100.0100.2100.1100.2100.10.075270.000752（標(biāo)準(zhǔn)值 100ppm）氮?dú)?（標(biāo)準(zhǔn)值 200ppm）20220120

9、02002032000.9831920.0048962.3 總碳標(biāo)準(zhǔn)氣體氫氣中甲烷、一氧化碳、二氧化碳測(cè)定數(shù)據(jù)表序號(hào)檢測(cè)項(xiàng)目123456標(biāo)準(zhǔn)偏差相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差一氧化碳1（標(biāo)準(zhǔn)值4.98ppm）4.964.984.974.9954.980.0141420.002842甲烷（標(biāo)準(zhǔn)值5.15ppm ）5.125.135.155.125.155.130.0136630.0026623二氧化碳5.335.345.365.355.335.350.0121110.002266（標(biāo)準(zhǔn)值5.35ppm ）3三、 標(biāo)準(zhǔn)水平分析目前國(guó)內(nèi)對(duì)多晶硅生產(chǎn)用回收氫氣中氯化氫、氧氣、氮?dú)?、總碳含量的測(cè)定沒有統(tǒng)一的標(biāo)準(zhǔn)。該標(biāo)準(zhǔn)參考現(xiàn)有的方法和文獻(xiàn)，針對(duì)多晶硅行業(yè)的要求的實(shí)際問題進(jìn)行研究，標(biāo)準(zhǔn)主要針對(duì)多晶硅行業(yè)的中氫氣中氯化氫、氧氣、氮?dú)?、總碳含量的測(cè)定氣相色譜法提出一些規(guī)范性要求，以期更好地指導(dǎo)生產(chǎn)。四、與現(xiàn)行法律、法規(guī)的關(guān)系本標(biāo)準(zhǔn)符合現(xiàn)行法律、法規(guī)和相關(guān)強(qiáng)制性標(biāo)準(zhǔn)的要求。五、重大分歧意見的和依據(jù)處理經(jīng)過本標(biāo)準(zhǔn)在制定過程中廣泛征求了多晶硅生產(chǎn)制造企業(yè)及使用客戶的意見，在修訂、討論、預(yù)審過程中無重大分歧意見。六、標(biāo)準(zhǔn)作為強(qiáng)制性或推薦性標(biāo)準(zhǔn)的建議本標(biāo)準(zhǔn)建議作為