化學試劑分級

1、國標試劑（該類試劑為我國國家標準所規(guī)定,適用于檢驗、鑒定、檢測）的分級為（要求從高到低排列） ：1、工作基準試劑（國標無簡寫標記,用漢語注明,綠色標簽）：作為基準物質,標 定標準溶液；2、優(yōu)級純（ GR,綠色標簽）：主成分含量很高、純度很高,適用于精確分析和討論 工作,有的可作為基準物質；3、分析純（ AR,紅色標簽）：主成分含量很高、純度較高,干擾雜質很低,適用于 工業(yè)分析及化學試驗；這個是一般試驗室用的最多的等級；4、化學純（ CP,藍色標簽）：主成分含量高、純度較高,存在干擾雜質,適用于化 學試驗和合成制備；5、試驗試劑（ LR,黃色標簽）：主成分含量高,純度較差,雜質含量不做挑選,只

2、適用于一般化學試驗和合成制備；其他依據不同用途的要求,又可分為許多特定的等級；此類試劑質量注意的是：在 特定方法分析過程中可能引起分析結果偏差,對成分分析或含量分析干擾的雜質含 量,但對主含量不做很高要求；部分如下：1、色譜純（ GC、LC）：氣相色譜、液相色譜分析專用；質量指標注意干擾色譜峰的 雜質；主成分含量高；2、指示劑（ ID）：配制指示溶液用；質量指標為變色范疇和變色敏銳程度；可替代 CP,也適用于有機合成用；3、生化試劑（ BR）：配制生物化學檢驗試液 雜質；可替代指示劑,可用于有機合成；和生化合成；質量指標注意生物活性4、生物染色劑（ BS）：配制微生物標本染色液；質量指標注意生

3、物活性雜質；可替代指示劑,可用于有機合成；5、光譜純（ SP）：用于光譜分析；分別適用于分光光度計標準品、原子吸取光譜標準品、原子發(fā)射光譜標準品；6、電子純（ MOS）：適用于電子產品生產中,電性雜質含量極低；7、當量試劑（ 3N、4N、5N）：主成分含量分別為 %、%、%以上；8、電泳試劑：質量指標注意電性雜質含量掌握；1.一級品即優(yōu)級純,又稱保證試劑（符號.）,我國產品用綠色標簽作為標志,這種試劑純度很高,適用于精密分析,亦可作基準物質用；%2.二級品 即分析純,又稱分析試劑（符號 .）,我國產品用紅色標簽作為標志,純度較一級品略差,適用于多數分析,如配制滴定液,用于鑒別及雜質檢查等； %

4、3.三級品 即化學純,（符號 .）,我國產品用藍色標簽作為標志,純度較二級品相差較多,適用于工礦日常生產分析；%4.四級品 即試驗試劑（符號 .）,雜質含量較高,純度較低,在分析工作常用幫助試劑（如發(fā)生或吸取氣體,配制洗液等）；5.基準試劑 它的純度相當于或高于保證試劑, 通常專用作容量分析的基準物質； 稱取肯定量基準試劑稀釋至肯定體積,一般可直接得到滴定液, 不需標定,基準品如標有實際含量,運算時應加以校正；6.光譜純試劑（符號 .）雜質用光譜分析法測不出或雜質含量低于某一限度,這種試劑主要用于光譜分析中；試劑等級7.色譜純試劑用于色譜分析；用途8.生物試劑用于某些生物試驗中；9.超純試劑又

5、稱高純試劑； %等級名稱等級 縮寫標簽顏色一級保證試劑GR綠色純度最高 ,適用于最精密的分析討論 .二級分析純AR紅色純度較高 ,適用于精確的微量分析 ,為分析試驗室廣泛應用 .純度略低 ,適用于一般的微量三級化學 純CP藍色分析 ,要求不高 工業(yè) 分析和快速分析 .四級試驗試劑LR棕黃色純度較低 ,但高于工業(yè)用試劑.適用于一般的定性檢驗.生物試劑.或.依據試劑說明使用電子化學試劑依據純度分為UPS級、 UP級、 EL級三個等級；UP-S級:適用微米集成電路加工工藝 ,金屬雜質含量小于 1ppb,經過微米孔徑過濾器過濾,掌握微米粒子 ,在 100 級凈化環(huán)境中灌裝達到 SEMI C8標準 .

6、UP 級:適用 1 微米集成電路及 孔徑過濾器過濾,掌握微米粒子TFT-LCD制造工藝 ,金屬雜質含量小于 10ppb,經過微米,在 100 級凈化環(huán)境中灌裝 ,達到 SEMI C7標準EL級:金屬雜質含量小于 100ppb,掌握 1 微米粒徑粒子 ,達到 SEMI C1 C2標準 ,適合中 小規(guī)模集成電路及電子元件加工工藝超凈高純化學試劑在電子工業(yè)中的應用主要在芯片集成電路制造方面,半導體集成電路、TFT-LCD及相關電子器件制造工藝；一是用于芯片基片在涂膠前的濕法清洗；二是用于芯片在光刻過程中的蝕刻及最終去膠；目前最為常用的有 10 多種,主要分為四大類：一為酸類,包括硫酸、氫氟酸、硝酸、

7、鹽酸、磷酸、醋酸等；二是堿類,主要為氫氧化銨；三為溶劑類,它又分醇類、酮類、酯類、烷類等；四是其他品種,如過氧化氫、氟化銨水溶液等；UP-S 級適用微米集成電路加工工藝金屬雜質含量小于1ppb經過微米孔徑過濾器過濾,掌握微米粒子在 100 級凈化環(huán)境中灌裝達到 SEMI C8標準UP 級適用 1 微米集成電路及 TFT-LCD制造工藝金屬雜質含量小于10ppb經過微米孔徑過濾器過濾,掌握微米粒子在 100 級凈化環(huán)境中灌裝達到 SEMI C7標準EL金屬雜質含量小于100ppb級掌握 1 微米粒徑粒子達到 SEMI C1 C2標準 適合中小規(guī)模集成電路及電子元件加工工藝分析純 （AR,紅色標簽）：主成分含量很高、