《無損檢測(cè)基礎(chǔ)知識(shí)》ppt課件

1、電站鍋爐無損檢測(cè)天津市電力公司技術(shù)中心天津市電力公司技術(shù)中心 20212021年年6 6月上海月上海 北京北京目目 錄錄n無損檢測(cè)概論n射線檢測(cè)根底知識(shí)n超聲波檢測(cè)根底知識(shí)n磁粉檢測(cè)根底知識(shí)n浸透檢測(cè)根底知識(shí)n渦流檢測(cè)根底知識(shí)n鍋爐的無損檢測(cè)要求第一章無損檢測(cè)概論第一章無損檢測(cè)概論一無損檢測(cè)的定義及分類一無損檢測(cè)的定義及分類定義：在不損壞試件的前提下，以物理或化學(xué)方法為手定義：在不損壞試件的前提下，以物理或化學(xué)方法為手段，借助先進(jìn)的技術(shù)和設(shè)備器材，對(duì)試件的內(nèi)部及外表段，借助先進(jìn)的技術(shù)和設(shè)備器材，對(duì)試件的內(nèi)部及外表的構(gòu)造，性質(zhì)，形狀進(jìn)展檢查和測(cè)試的方法。的構(gòu)造，性質(zhì)，形狀進(jìn)展檢查和測(cè)試的方法。分

2、類：射線檢測(cè)分類：射線檢測(cè)RT-Radiographic Testing 超聲檢測(cè)超聲檢測(cè)UT-Ultrasonic Testing 磁粉檢測(cè)磁粉檢測(cè)MT-Magnetic Testing 浸透檢測(cè)浸透檢測(cè)PT-Penetrant Testing 渦流檢測(cè)渦流檢測(cè)ET-Eddy Current Testing)RT和和UT主要用于探測(cè)試件內(nèi)部缺陷主要用于探測(cè)試件內(nèi)部缺陷MT、PT和和ET主要用于探測(cè)試件外表缺陷主要用于探測(cè)試件外表缺陷開展：以現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的開展為根底的。開展：以現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的開展為根底的。 RT是在德國物理學(xué)家倫琴發(fā)現(xiàn)是在德國物理學(xué)家倫琴發(fā)現(xiàn)X射線后開展起來的；射線后開展起來的

3、； UT是在聲納技術(shù)和雷達(dá)技術(shù)的根底上開發(fā)出來的；是在聲納技術(shù)和雷達(dá)技術(shù)的根底上開發(fā)出來的； MT、ET建立在電磁學(xué)實(shí)際的根底上；建立在電磁學(xué)實(shí)際的根底上； PT得益于物理化學(xué)的進(jìn)展得益于物理化學(xué)的進(jìn)展 無損探傷無損檢測(cè)無損評(píng)價(jià)無損探傷無損檢測(cè)無損評(píng)價(jià) 無損探傷是早期階段的稱號(hào)，其涵義是探測(cè)和發(fā)現(xiàn)缺陷； 無損檢測(cè)是當(dāng)前階段的稱號(hào)，其涵義不僅僅發(fā)現(xiàn)缺陷，還包括探測(cè)缺陷的一些信息，如位置、外形、尺寸、性質(zhì)等； 無損評(píng)價(jià)那么是即將進(jìn)入或正在進(jìn)入的新的開展階段，包涵更廣泛，更深化的內(nèi)容，它不僅要求發(fā)現(xiàn)缺陷，探測(cè)缺陷的詳細(xì)數(shù)據(jù)，還要求獲取更全面，更準(zhǔn)確的，綜合的信息，例如缺陷的取向、內(nèi)含物、準(zhǔn)確外形尺寸

4、、缺陷部位的組織、剩余應(yīng)力等，結(jié)合成像技術(shù)、自動(dòng)化技術(shù)、計(jì)算機(jī)數(shù)據(jù)分析和處置等技術(shù)，與資料力學(xué)、斷裂力學(xué)等知識(shí)綜合運(yùn)用，對(duì)試件或產(chǎn)品的質(zhì)量和性能給出全面，準(zhǔn)確的評(píng)價(jià)。 二無損檢測(cè)的目的二無損檢測(cè)的目的1、保證產(chǎn)質(zhì)量量、保證產(chǎn)質(zhì)量量2、保證運(yùn)用平安、保證運(yùn)用平安3、改良制造工藝、改良制造工藝4、降低消費(fèi)本錢、降低消費(fèi)本錢三三 無損檢測(cè)的運(yùn)用特點(diǎn)無損檢測(cè)的運(yùn)用特點(diǎn)1、無損檢測(cè)要與破壞性檢測(cè)相配合、無損檢測(cè)要與破壞性檢測(cè)相配合2、正確選用實(shí)施無損檢測(cè)的時(shí)機(jī)、正確選用實(shí)施無損檢測(cè)的時(shí)機(jī)3、正確選用最適當(dāng)?shù)臒o損檢測(cè)方法、正確選用最適當(dāng)?shù)臒o損檢測(cè)方法4、綜合運(yùn)用各種無損檢測(cè)方法、綜合運(yùn)用各種無損檢測(cè)方法四

5、承壓類特種設(shè)備無損檢測(cè)規(guī)范四承壓類特種設(shè)備無損檢測(cè)規(guī)范2006年年3月月27日，國家質(zhì)檢總局質(zhì)檢辦特函日，國家質(zhì)檢總局質(zhì)檢辦特函2006144號(hào)關(guān)于鍋爐壓力容器平安監(jiān)察任務(wù)有關(guān)問題的意號(hào)關(guān)于鍋爐壓力容器平安監(jiān)察任務(wù)有關(guān)問題的意見中規(guī)定：承壓設(shè)備無損檢測(cè)執(zhí)行見中規(guī)定：承壓設(shè)備無損檢測(cè)執(zhí)行JB/T47302005，因此在承壓設(shè)備領(lǐng)域，因此在承壓設(shè)備領(lǐng)域，JB/T4730本質(zhì)上是強(qiáng)迫性規(guī)本質(zhì)上是強(qiáng)迫性規(guī)范。范。JB4730-2005 包括六部分包括六部分1、通用部分；、通用部分；2、射線檢測(cè)；、射線檢測(cè)；3、超聲檢測(cè)；、超聲檢測(cè)；4、磁粉檢測(cè)；、磁粉檢測(cè)；5、浸透檢測(cè)；、浸透檢測(cè)；6、渦流檢測(cè)、渦流

6、檢測(cè)JB4730-2005規(guī)范規(guī)定了射線檢測(cè)、超聲波檢測(cè)、磁粉檢測(cè)、浸透檢測(cè)和渦流檢測(cè)這五種無損檢測(cè)方法及質(zhì)量等級(jí)評(píng)定分類，適用于：1、金屬資料制鍋爐、壓力容器固定式、挪動(dòng)式及壓力管道原資料、零部件和設(shè)備的制造安裝檢測(cè)。2、在用金屬資料制鍋爐、壓力容器固定式、挪動(dòng)式及壓力管道的檢測(cè)。3、鍋爐、壓力容器固定式、挪動(dòng)式及壓力管道有關(guān)的支承件和構(gòu)造件，如有要求也可參照該規(guī)范進(jìn)展檢測(cè)。第二章射線檢測(cè)根底知識(shí)第二章射線檢測(cè)根底知識(shí) 射線檢測(cè)最主要是探測(cè)試件內(nèi)部的宏觀幾何缺陷。射線照相法是指用X射線或射線穿透試件，以膠片作為記錄信息的器材的無損檢測(cè)方法。2.1 射線照相法原理1、射線的產(chǎn)生(X射線、射線X

7、射線: 射線束中包括延續(xù)X射線和特征X射線延續(xù)X射線產(chǎn)活力理：動(dòng)畫演示根據(jù)電動(dòng)力學(xué)實(shí)際，作加速運(yùn)動(dòng)包括負(fù)加速運(yùn)動(dòng)的帶電粒子將產(chǎn)生電磁輻射。X射線是從X射線管中產(chǎn)生的，X射線管是一種兩極電子管。將陰極燈絲通電，使之白熾，電子就在從陰極移向陽極的方向加速飛行，獲得很大的動(dòng)能，當(dāng)這些電子撞擊陽極時(shí)，與陽極金屬原子的核外庫侖場(chǎng)作用，發(fā)出軔致輻射而放出X射線。標(biāo)識(shí)標(biāo)識(shí)X X射線產(chǎn)活力理射線產(chǎn)活力理: :動(dòng)畫演示動(dòng)畫演示 能量較大的電子入射到靶資料的原子中，與殼層電子碰撞，能量較大的電子入射到靶資料的原子中，與殼層電子碰撞，擊出內(nèi)電子，使原子處于激發(fā)態(tài)吸收；激發(fā)態(tài)原子釋放能擊出內(nèi)電子，使原子處于激發(fā)態(tài)吸收

8、；激發(fā)態(tài)原子釋放能量發(fā)射光子輻射。即發(fā)射標(biāo)識(shí)量發(fā)射光子輻射。即發(fā)射標(biāo)識(shí)X X射線。射線。 產(chǎn)生標(biāo)識(shí)產(chǎn)生標(biāo)識(shí)X X射線的條件：管電壓射線的條件：管電壓 某一臨界值時(shí)，才干產(chǎn)生標(biāo)某一臨界值時(shí)，才干產(chǎn)生標(biāo)識(shí)識(shí)X X射線。射線。 射線產(chǎn)活力理射線產(chǎn)活力理原子核的重要性質(zhì)原子核的重要性質(zhì)-放射性放射性放射性同位素產(chǎn)生放射性同位素產(chǎn)生或或衰變之后，假設(shè)仍處于高能級(jí)的激發(fā)衰變之后，假設(shè)仍處于高能級(jí)的激發(fā)形狀，必定要釋放多余的能量回到低能級(jí)的穩(wěn)定形狀基態(tài)，形狀，必定要釋放多余的能量回到低能級(jí)的穩(wěn)定形狀基態(tài)，這時(shí)發(fā)射這時(shí)發(fā)射射線。射線。2、射線與物質(zhì)的相互作用1)光電效應(yīng) 動(dòng)畫演示入射到物體內(nèi)的光子與原子中的軌

9、道電子發(fā)生碰撞，光子的全部能量傳送給軌道電子使電子脫離軌道成為光電子，這一景象稱為光電效應(yīng)。2)康普頓效應(yīng)散射 動(dòng)畫演示 入射光子與軌道電子碰撞，軌道電子脫離軌道成為反沖電子，入射光子能量降低波長(zhǎng)變長(zhǎng)并改動(dòng)運(yùn)動(dòng)方向成為散射線，這一景象稱為康普頓效應(yīng)散射。3)電子對(duì)效應(yīng) 動(dòng)畫演示 當(dāng)入射光子的能量1.022Mev時(shí)，在原子核附近由于核庫侖場(chǎng)的作用將產(chǎn)生一對(duì)正、負(fù)電子，這種景象稱為電子對(duì)效應(yīng)。電子質(zhì)能 0.511Mev4)瑞利散射 動(dòng)畫演示光子與內(nèi)層電子作用時(shí)，電子吸收光子能量從低能級(jí)躍遷到高能級(jí)，同時(shí)釋放出一個(gè)散射光子，其能量與入射光子的能量一樣。光電效應(yīng)康普頓效應(yīng)電子對(duì)效應(yīng)瑞利散射產(chǎn)生條件hv

10、W0hvW0hv1.02 MeV特征光子被吸收產(chǎn)生電子hv=W0+(1/2)mv2 EehV -Ei光子部分能量的轉(zhuǎn)移發(fā)生散射產(chǎn)生反沖電子光子被吸收生成一對(duì)正負(fù)電子對(duì)（高能X射線和射線）入射管子和束縛較牢固的內(nèi)層軌道電子發(fā)生的彈性散射過程作用對(duì)象束縛電子最松的外層電子自由電子原子核庫侖場(chǎng)內(nèi)層電子產(chǎn)物光電子俄歇電子標(biāo)識(shí)X射線反沖電子散射光子正電子負(fù)電子反沖整體是原子干涉散射線幾率hv,Z 隨光子能量增大而減??；隨原子序數(shù)增大而增大hv,Z 與光子能量成反比；與原子序數(shù)成正比hv ,Z 隨光子能量增大而減增大；隨原子序數(shù)增大而增大hv,Z 隨光子能量增大而急劇減小；與原子序數(shù)平方成正比衰減條件pc

11、eR對(duì)入射光子吸收散射吸收散射四大效應(yīng)的比較3、射線與膠片的作用射線還有一個(gè)性質(zhì)就是能使膠片感光，能使膠片乳劑層中的鹵化銀產(chǎn)生潛象中心，經(jīng)過顯影和定影后就會(huì)黑化。為了表示底片的黑化程度，采用底片黑度D表示DlgL0/LD底片的黑度L0透過底片前的光強(qiáng)L-透過底片后的光強(qiáng)膠片的特征曲線:特征參數(shù):感光度S、灰霧度D0、梯度G、寬容度L4、射線照相的原理2. 2 射線檢測(cè)設(shè)備射線檢測(cè)設(shè)備1 X射線檢測(cè)機(jī)射線檢測(cè)機(jī)2 高能射線探傷設(shè)備高能射線探傷設(shè)備3 射線探傷機(jī)射線探傷機(jī) 2.3 射線照相工藝特點(diǎn)射線照相工藝特點(diǎn)1 照相的操作步驟照相的操作步驟普通把被檢的物體安放在離普通把被檢的物體安放在離X射線

12、安裝射線安裝50厘米到一米厘米到一米的位置處的位置處,把膠片盒緊貼在試樣的背后把膠片盒緊貼在試樣的背后,讓射線照射適當(dāng)讓射線照射適當(dāng)長(zhǎng)的時(shí)間進(jìn)展曝光長(zhǎng)的時(shí)間進(jìn)展曝光.把曝光后的膠片在暗室中進(jìn)展顯影、把曝光后的膠片在暗室中進(jìn)展顯影、定影、水洗、枯燥，將枯燥的底片在觀片燈的顯示屏定影、水洗、枯燥，將枯燥的底片在觀片燈的顯示屏上察看，根據(jù)底片的黑度和圖像來判別存在缺陷的種上察看，根據(jù)底片的黑度和圖像來判別存在缺陷的種類，大小和數(shù)量，隨后對(duì)缺陷按照通行的規(guī)范進(jìn)展評(píng)類，大小和數(shù)量，隨后對(duì)缺陷按照通行的規(guī)范進(jìn)展評(píng)定和分級(jí)。定和分級(jí)。2 照相規(guī)范確定照相規(guī)范確定射線照相靈敏度是射線照相對(duì)比度小缺陷或細(xì)節(jié)與其

13、周圍背射線照相靈敏度是射線照相對(duì)比度小缺陷或細(xì)節(jié)與其周圍背景的黑度差、不明晰度影象輪廓邊緣黑度過渡區(qū)的寬度景的黑度差、不明晰度影象輪廓邊緣黑度過渡區(qū)的寬度和顆粒度影像黑度的不均勻程度三大要素的綜合結(jié)果，而和顆粒度影像黑度的不均勻程度三大要素的綜合結(jié)果，而三大要素又分別遭到不同工藝要素的影響。三大要素又分別遭到不同工藝要素的影響。透照規(guī)范的選擇要留意以下幾點(diǎn)：透照規(guī)范的選擇要留意以下幾點(diǎn)：1透照方式的選擇透照方式的選擇2透照厚度比值的控制透照厚度比值的控制3射線源的選擇射線源的選擇4透照間隔的選擇透照間隔的選擇5 曝光量的選擇曝光量的選擇6膠片、增感屏的選擇與底片黑度控制膠片、增感屏的選擇與底片

14、黑度控制3 象質(zhì)計(jì)透度計(jì)的運(yùn)用象質(zhì)計(jì)透度計(jì)的運(yùn)用目的：為了評(píng)定底片的靈敏度目的：為了評(píng)定底片的靈敏度4 底片評(píng)定底片評(píng)定 先評(píng)定底片本身質(zhì)量能否合格。先評(píng)定底片本身質(zhì)量能否合格。1底片的黑度應(yīng)在規(guī)定范圍內(nèi)，影像明晰，反差適中，靈敏底片的黑度應(yīng)在規(guī)定范圍內(nèi)，影像明晰，反差適中，靈敏度符合規(guī)范要求，即能識(shí)別規(guī)定的象質(zhì)指數(shù)。度符合規(guī)范要求，即能識(shí)別規(guī)定的象質(zhì)指數(shù)。2標(biāo)志齊全，擺放正確標(biāo)志齊全，擺放正確3在評(píng)定區(qū)無影響評(píng)定的偽缺陷在評(píng)定區(qū)無影響評(píng)定的偽缺陷 在底片合格的前提下，再對(duì)底片上的缺陷進(jìn)展定性、定量和定在底片合格的前提下，再對(duì)底片上的缺陷進(jìn)展定性、定量和定位。位。 對(duì)照規(guī)范評(píng)出工件質(zhì)量等級(jí)，寫

15、出探傷報(bào)告。對(duì)照規(guī)范評(píng)出工件質(zhì)量等級(jí)，寫出探傷報(bào)告。5 射線檢測(cè)工藝要點(diǎn)射線檢測(cè)工藝要點(diǎn):1)X射線的運(yùn)用特點(diǎn)射線的運(yùn)用特點(diǎn)X射線主要優(yōu)點(diǎn)：射線主要優(yōu)點(diǎn)：X射線能量可改動(dòng)，因此對(duì)各種厚度的試件均可射線能量可改動(dòng)，因此對(duì)各種厚度的試件均可獲得高靈敏度圖像；獲得高靈敏度圖像；X射線機(jī)可用開關(guān)切斷，故較易實(shí)施射線防射線機(jī)可用開關(guān)切斷，故較易實(shí)施射線防護(hù)；曝光時(shí)間短，普通為幾分鐘；護(hù)；曝光時(shí)間短，普通為幾分鐘；X射線局限性：需電源，有些設(shè)備還需有水源冷卻。體積較大，射線局限性：需電源，有些設(shè)備還需有水源冷卻。體積較大，現(xiàn)場(chǎng)運(yùn)用不便本錢和維修費(fèi)用均較大?，F(xiàn)場(chǎng)運(yùn)用不便本錢和維修費(fèi)用均較大。設(shè)備：便攜式，設(shè)

16、備：便攜式，160320KV，穿透鋼，穿透鋼45mm 挪動(dòng)式，挪動(dòng)式，200450KV，穿透鋼，穿透鋼100mm高能高能X射線加速器：射線加速器：432MeV,穿透鋼穿透鋼400mm5 射線檢測(cè)工藝要點(diǎn)射線檢測(cè)工藝要點(diǎn):2)射線的運(yùn)用特點(diǎn)射線的運(yùn)用特點(diǎn)射線主要優(yōu)點(diǎn)：射源尺寸小，可用于射線主要優(yōu)點(diǎn)：射源尺寸小，可用于X射線機(jī)無法接近的現(xiàn)場(chǎng)；射線機(jī)無法接近的現(xiàn)場(chǎng)；不需電源水源；運(yùn)轉(zhuǎn)費(fèi)用低；不需電源水源；運(yùn)轉(zhuǎn)費(fèi)用低；射線局限性：探傷靈敏度低，尤其對(duì)薄鋼試件如射線局限性：探傷靈敏度低，尤其對(duì)薄鋼試件如5mm以下以下 ；曝光時(shí)間長(zhǎng)。曝光時(shí)間長(zhǎng)。射線的成像質(zhì)量比射線的成像質(zhì)量比X射線差得多。射線差得多。

17、影響射線照相的三大要素：對(duì)比度、明晰度、顆粒度，影響射線照相的三大要素：對(duì)比度、明晰度、顆粒度， 射線射線均不如均不如X射線。射線。對(duì)裂紋傾向大的資料焊縫檢測(cè)應(yīng)慎用對(duì)裂紋傾向大的資料焊縫檢測(cè)應(yīng)慎用射線射線5 射線檢測(cè)工藝要點(diǎn)射線檢測(cè)工藝要點(diǎn):3)膠片運(yùn)用特點(diǎn)膠片運(yùn)用特點(diǎn) 膠片影響成像對(duì)比度和顆粒度進(jìn)而影響靈敏度膠片影響成像對(duì)比度和顆粒度進(jìn)而影響靈敏度 根據(jù)成像特性，膠片分成四類，根據(jù)成像特性，膠片分成四類，T1、T2、T3、T4。T1為最高為最高類別，類別，T4為最低類別。為最低類別。 規(guī)范規(guī)定：規(guī)范規(guī)定：A級(jí)和級(jí)和AB級(jí)射線檢測(cè)技術(shù)應(yīng)采用級(jí)射線檢測(cè)技術(shù)應(yīng)采用T3類或更高類別的類或更高類別的膠

18、片，膠片，B級(jí)射線檢測(cè)技術(shù)應(yīng)采用級(jí)射線檢測(cè)技術(shù)應(yīng)采用T2類或更高類別的膠片。類或更高類別的膠片。 規(guī)范規(guī)定：采用規(guī)范規(guī)定：采用射線對(duì)裂紋敏感性大的資料進(jìn)展射線檢測(cè)時(shí)射線對(duì)裂紋敏感性大的資料進(jìn)展射線檢測(cè)時(shí),應(yīng)采用應(yīng)采用T2類或更高類別的膠片。類或更高類別的膠片。T2類膠片類膠片:AgfaD4、D5；天津；天津；上海；上海GX-A5。T3類膠片類膠片:AgfaD7、D8；天津；天津；上海；上海GX-A7 采用采用射線對(duì)裂紋敏感性大的資料進(jìn)展射線檢測(cè)時(shí)射線對(duì)裂紋敏感性大的資料進(jìn)展射線檢測(cè)時(shí),應(yīng)采用天津應(yīng)采用天津膠片。膠片。5 射線檢測(cè)工藝要點(diǎn)射線檢測(cè)工藝要點(diǎn):4)透照參數(shù)選擇透照參數(shù)選擇焦距焦距影響

19、幾何不明晰度，選擇焦距必需大于規(guī)范規(guī)定最小值；影響幾何不明晰度，選擇焦距必需大于規(guī)范規(guī)定最小值；K值值影響橫向裂紋檢出率，選擇影響橫向裂紋檢出率，選擇K值不得大于規(guī)范規(guī)定值；值不得大于規(guī)范規(guī)定值；射線能量射線能量影響底片對(duì)比度、固有不明晰度、顆粒度；選擇射影響底片對(duì)比度、固有不明晰度、顆粒度；選擇射線能量應(yīng)在規(guī)范限定范圍；線能量應(yīng)在規(guī)范限定范圍；曝光量曝光量影響底片黑度，選擇曝光量應(yīng)在規(guī)范限定范圍；影響底片黑度，選擇曝光量應(yīng)在規(guī)范限定范圍；5 射線檢測(cè)工藝要點(diǎn)射線檢測(cè)工藝要點(diǎn):5)透照方式選擇透照方式選擇2. 4 射線的平安防護(hù)射線的平安防護(hù)1 射線的危害射線的危害2 輻射計(jì)量及單位：照射量輻

20、射計(jì)量及單位：照射量(C/kg)吸收劑量吸收劑量(Gy)劑量當(dāng)量劑量當(dāng)量(Sv)3 射線防護(hù)方法射線防護(hù)方法 屏蔽防護(hù)屏蔽防護(hù) 間隔防護(hù)間隔防護(hù) 時(shí)間防護(hù)時(shí)間防護(hù)2.5 射線照相法的特點(diǎn)射線照相法的特點(diǎn)1檢測(cè)結(jié)果有直接記錄檢測(cè)結(jié)果有直接記錄-底片底片2可以獲得缺陷的投影圖像，缺陷定性定量準(zhǔn)確可以獲得缺陷的投影圖像，缺陷定性定量準(zhǔn)確3對(duì)體積型缺陷檢出率高，而面積型缺陷的檢出率遭對(duì)體積型缺陷檢出率高，而面積型缺陷的檢出率遭到多種要素影響到多種要素影響4適于檢測(cè)厚度較薄的工件而不適宜較厚的工件適于檢測(cè)厚度較薄的工件而不適宜較厚的工件5適宜檢測(cè)對(duì)接焊縫，檢測(cè)角焊縫效果較差，不適宜適宜檢測(cè)對(duì)接焊縫，檢測(cè)

21、角焊縫效果較差，不適宜檢測(cè)板材、棒材、鍛件。檢測(cè)板材、棒材、鍛件。6有些試件構(gòu)造和現(xiàn)場(chǎng)條件不適宜射線照相有些試件構(gòu)造和現(xiàn)場(chǎng)條件不適宜射線照相7對(duì)缺陷在工件中厚度方向的位置、尺寸高度確對(duì)缺陷在工件中厚度方向的位置、尺寸高度確實(shí)定比較困難。實(shí)定比較困難。8檢測(cè)本錢高檢測(cè)本錢高9射線照相檢測(cè)速度慢射線照相檢測(cè)速度慢10射線對(duì)人體有害射線對(duì)人體有害第三章超聲波檢測(cè)根底知識(shí)第三章超聲波檢測(cè)根底知識(shí) 超聲波檢測(cè)主要用于檢測(cè)試件的內(nèi)部缺陷，它的運(yùn)用非常廣泛。用于探傷的超聲波頻率為0.425兆Hz，用得最多的超聲波頻率為5兆Hz。3.1 超聲波的發(fā)生及其性質(zhì)1 超聲波的發(fā)生和接納 壓電效應(yīng)2 超聲波的種類超聲

22、波的種類 縱波縱波 橫波橫波 外表波外表波 板波板波3 聲速聲速橫波的聲速大約是縱波聲速的一半，而外表波聲速大約是橫波橫波的聲速大約是縱波聲速的一半，而外表波聲速大約是橫波的的0.9倍。倍。4 波長(zhǎng)波長(zhǎng)波在一個(gè)周期內(nèi)或者說質(zhì)點(diǎn)完成一次振動(dòng)所經(jīng)過的路程稱為波波在一個(gè)周期內(nèi)或者說質(zhì)點(diǎn)完成一次振動(dòng)所經(jīng)過的路程稱為波長(zhǎng)。長(zhǎng)。C=f動(dòng)搖方程動(dòng)搖方程5 超聲場(chǎng)及其特征量超聲場(chǎng)及其特征量充溢超聲波的空間叫做超聲場(chǎng)，描畫超聲場(chǎng)的特征量有聲壓、充溢超聲波的空間叫做超聲場(chǎng)，描畫超聲場(chǎng)的特征量有聲壓、聲強(qiáng)、聲阻抗。聲強(qiáng)、聲阻抗。6 界面的反射和透射界面的反射和透射1垂直入射時(shí)的反射和透射垂直入射時(shí)的反射和透射 動(dòng)畫

23、演示動(dòng)畫演示當(dāng)超聲波垂直地傳到界面上時(shí)，一部分超聲波被反射，而剩余當(dāng)超聲波垂直地傳到界面上時(shí)，一部分超聲波被反射，而剩余的部分就穿透過去，這兩部分的比率取決于兩種介質(zhì)的聲阻抗。的部分就穿透過去，這兩部分的比率取決于兩種介質(zhì)的聲阻抗。2斜射時(shí)的反射和透射動(dòng)畫演示斜射時(shí)的反射和透射動(dòng)畫演示當(dāng)超聲波斜射到界面上時(shí)，在界面上會(huì)產(chǎn)生反射和折射。當(dāng)超聲波斜射到界面上時(shí)，在界面上會(huì)產(chǎn)生反射和折射。7 指向性圓盤源波束指向性矩形波源波束指向性指向性圓盤源波束指向性矩形波源波束指向性 聲束集中向一個(gè)方向輻射的性質(zhì)，叫做聲波的指向性，探傷聲束集中向一個(gè)方向輻射的性質(zhì)，叫做聲波的指向性，探傷采用高頻超聲波，其理由之

24、一就是希望它具有指向性，便于超采用高頻超聲波，其理由之一就是希望它具有指向性，便于超聲波探傷發(fā)現(xiàn)缺陷，確定缺陷位置。聲波探傷發(fā)現(xiàn)缺陷，確定缺陷位置。8 近場(chǎng)區(qū)和遠(yuǎn)場(chǎng)區(qū)近場(chǎng)區(qū)和遠(yuǎn)場(chǎng)區(qū) 在超聲波探頭的聲場(chǎng)中，按聲場(chǎng)變化的規(guī)律分為近場(chǎng)區(qū)和遠(yuǎn)在超聲波探頭的聲場(chǎng)中，按聲場(chǎng)變化的規(guī)律分為近場(chǎng)區(qū)和遠(yuǎn)場(chǎng)區(qū)。場(chǎng)區(qū)。 ND/4 9 小物體上的超聲波反射小物體上的超聲波反射 在超聲波探傷中，缺陷尺寸的檢出極限超聲波波長(zhǎng)的一半。在超聲波探傷中，缺陷尺寸的檢出極限超聲波波長(zhǎng)的一半。缺陷尺寸越大，越容易反射。缺陷尺寸越大，越容易反射。3.2 超聲波檢測(cè)原理超聲波檢測(cè)原理超聲波檢測(cè)可以分為超聲探傷和超聲波測(cè)厚，以及超超聲波

25、檢測(cè)可以分為超聲探傷和超聲波測(cè)厚，以及超聲波測(cè)晶粒度、測(cè)應(yīng)力等。聲波測(cè)晶粒度、測(cè)應(yīng)力等。脈沖反射法的縱波和橫波探傷原理如下：儀器原理動(dòng)脈沖反射法的縱波和橫波探傷原理如下：儀器原理動(dòng)畫演示畫演示1垂直探傷法動(dòng)畫演示垂直探傷法動(dòng)畫演示當(dāng)把脈沖振蕩器發(fā)生的電壓加當(dāng)把脈沖振蕩器發(fā)生的電壓加到晶片上時(shí)，晶片振動(dòng)，產(chǎn)生到晶片上時(shí)，晶片振動(dòng)，產(chǎn)生超聲波脈沖。假設(shè)被檢物是鋼超聲波脈沖。假設(shè)被檢物是鋼的話，超聲波以的話，超聲波以5900米米/秒的秒的固定速度在鋼內(nèi)傳播，超聲波固定速度在鋼內(nèi)傳播，超聲波碰到缺陷時(shí)，一部分從缺陷反碰到缺陷時(shí)，一部分從缺陷反射回到晶片，而另一部分未碰射回到晶片，而另一部分未碰到缺陷的

26、超聲波繼續(xù)前進(jìn)，直到缺陷的超聲波繼續(xù)前進(jìn)，直到被檢底面才反射回來。到被檢底面才反射回來。2 斜射探傷法動(dòng)畫演示斜射探傷法動(dòng)畫演示在斜射法探傷時(shí)，由于超聲波在被檢物中是斜向傳播的，超聲在斜射法探傷時(shí)，由于超聲波在被檢物中是斜向傳播的，超聲波是斜射向底面不會(huì)有底面回波。波是斜射向底面不會(huì)有底面回波。目前對(duì)掃描線的調(diào)整有三種方法：1按程度間隔調(diào)整2按深度調(diào)整3按聲程調(diào)整3.3 試塊試塊1 試塊的用途試塊的用途1確定適宜的探傷方法確定適宜的探傷方法2確定探傷靈敏度和評(píng)價(jià)缺陷大小確定探傷靈敏度和評(píng)價(jià)缺陷大小3校驗(yàn)儀器和測(cè)試探頭性能校驗(yàn)儀器和測(cè)試探頭性能2 試塊的種類試塊的種類1調(diào)理儀器及測(cè)試探頭的試塊：

27、調(diào)理儀器及測(cè)試探頭的試塊：CSK-IA2縱波探傷用試塊：人工缺陷為平底孔縱波探傷用試塊：人工缺陷為平底孔3橫波探傷用試塊：人工缺陷為橫孔橫波探傷用試塊：人工缺陷為橫孔CSK-IIA CSK-IIIA3.4 超聲波檢測(cè)工藝要點(diǎn)超聲波檢測(cè)工藝要點(diǎn)1、探傷方法的分類、探傷方法的分類1按原理分類按原理分類2按顯示方式分類按顯示方式分類3按探傷波型分類按探傷波型分類4按探頭數(shù)目分類按探頭數(shù)目分類5按接觸方式分類按接觸方式分類2、根本操作、根本操作1探傷時(shí)機(jī)選擇探傷時(shí)機(jī)選擇2探傷方法的選擇探傷方法的選擇3探傷儀器的選擇探傷儀器的選擇4探傷方向和掃描面的選定探傷方向和掃描面的選定5頻率的選擇頻率的選擇6晶片

28、直徑、折射角的選定晶片直徑、折射角的選定7探傷面修整探傷面修整8耦合劑和耦合方法的選擇耦合劑和耦合方法的選擇9確定探傷靈敏度確定探傷靈敏度10進(jìn)展粗探傷和精探傷進(jìn)展粗探傷和精探傷11寫出檢驗(yàn)報(bào)告寫出檢驗(yàn)報(bào)告3.5 超聲波檢測(cè)的特點(diǎn)超聲波檢測(cè)的特點(diǎn)1面積型缺陷檢出率高，體積型檢測(cè)率低面積型缺陷檢出率高，體積型檢測(cè)率低2適宜檢測(cè)厚度較大的工件適宜檢測(cè)厚度較大的工件3適于檢測(cè)各種試件適于檢測(cè)各種試件4檢驗(yàn)本錢低，速度塊，儀器體積小檢驗(yàn)本錢低，速度塊，儀器體積小5無法得到缺陷的直觀圖像，定性困難，定量精無法得到缺陷的直觀圖像，定性困難，定量精度不高度不高6檢測(cè)結(jié)果無直接見證記錄檢測(cè)結(jié)果無直接見證記錄7

29、對(duì)缺陷在工件厚度方向上定位準(zhǔn)確對(duì)缺陷在工件厚度方向上定位準(zhǔn)確8材質(zhì)、晶粒度對(duì)探傷有影響材質(zhì)、晶粒度對(duì)探傷有影響9工件不規(guī)那么的外形和一些構(gòu)造會(huì)影響檢測(cè)工件不規(guī)那么的外形和一些構(gòu)造會(huì)影響檢測(cè)10不平或粗糙的外表會(huì)影響耦合和掃查，從而影不平或粗糙的外表會(huì)影響耦合和掃查，從而影響檢測(cè)精度和可靠性響檢測(cè)精度和可靠性第四章磁粉檢測(cè)根底知識(shí)第四章磁粉檢測(cè)根底知識(shí)4.1磁粉檢測(cè)的原理磁粉檢測(cè)的原理1磁場(chǎng)與磁力線磁場(chǎng)與磁力線磁力作用的空間磁力作用的空間 稱為磁場(chǎng)稱為磁場(chǎng)采用磁力線的概念采用磁力線的概念,為了籠統(tǒng)地描畫磁場(chǎng)為了籠統(tǒng)地描畫磁場(chǎng)2 通電導(dǎo)體產(chǎn)生的磁場(chǎng)通電導(dǎo)體產(chǎn)生的磁場(chǎng)3 描畫磁場(chǎng)的幾個(gè)物理量描畫磁場(chǎng)

30、的幾個(gè)物理量磁場(chǎng)強(qiáng)度磁場(chǎng)強(qiáng)度(H):表征磁化強(qiáng)度的物理量表征磁化強(qiáng)度的物理量,單位單位(A/m)磁感應(yīng)強(qiáng)度磁感應(yīng)強(qiáng)度(B):表征被磁化了的磁介質(zhì)中磁場(chǎng)強(qiáng)度大小的物理表征被磁化了的磁介質(zhì)中磁場(chǎng)強(qiáng)度大小的物理量量,單位單位(T)磁導(dǎo)率磁導(dǎo)率(u):表征磁介質(zhì)磁特性的物理量表征磁介質(zhì)磁特性的物理量 B=uH4 鐵磁資料的磁化曲線鐵磁資料的磁化曲線通用通用BH曲線來描畫鐵磁性資料的磁化過程。表示循環(huán)交變曲線來描畫鐵磁性資料的磁化過程。表示循環(huán)交變過程過程B與與H的關(guān)系曲線叫做磁滯曲線。的關(guān)系曲線叫做磁滯曲線。5 磁粉檢測(cè)的原理磁粉檢測(cè)的原理試件中的裂紋呵斥的不延續(xù)性使得磁力線畸變，由于裂紋中空試件中的

31、裂紋呵斥的不延續(xù)性使得磁力線畸變，由于裂紋中空氣介質(zhì)的磁導(dǎo)率遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于試件的磁導(dǎo)率，使磁力線受阻，一部氣介質(zhì)的磁導(dǎo)率遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于試件的磁導(dǎo)率，使磁力線受阻，一部分磁力線擠到缺陷的底部，一部分穿過裂紋，一部分排斥出工分磁力線擠到缺陷的底部，一部分穿過裂紋，一部分排斥出工件的外表后進(jìn)入工件。假設(shè)這是在工件上撒上磁粉，漏磁場(chǎng)就件的外表后進(jìn)入工件。假設(shè)這是在工件上撒上磁粉，漏磁場(chǎng)就會(huì)吸附磁粉，構(gòu)成與缺陷外形相近的磁粉堆積，從而顯示缺陷。會(huì)吸附磁粉，構(gòu)成與缺陷外形相近的磁粉堆積，從而顯示缺陷。6影響漏磁場(chǎng)的要素影響漏磁場(chǎng)的要素1外加磁場(chǎng)強(qiáng)度外加磁場(chǎng)強(qiáng)度2資料的磁導(dǎo)率資料的磁導(dǎo)率3缺陷的延伸方向與磁力線的夾角缺

32、陷的延伸方向與磁力線的夾角4缺陷的埋藏深度缺陷的埋藏深度4.2 磁粉檢測(cè)設(shè)備器材磁粉檢測(cè)設(shè)備器材1 磁力探傷機(jī)分類磁力探傷機(jī)分類按設(shè)備體積和分量，可分為固定式，挪動(dòng)式，攜帶式按設(shè)備體積和分量，可分為固定式，挪動(dòng)式，攜帶式2 靈敏度試片靈敏度試片 用于檢查磁粉探傷設(shè)備、磁粉、用于檢查磁粉探傷設(shè)備、磁粉、磁懸液的綜合性能。磁懸液的綜合性能。3 磁粉和磁懸液磁粉和磁懸液4.3 磁粉檢測(cè)工藝特點(diǎn)磁粉檢測(cè)工藝特點(diǎn)1 磁化方法磁化方法線圈法、磁軛法、軸向通電法、觸頭法、中心導(dǎo)體法、線圈法、磁軛法、軸向通電法、觸頭法、中心導(dǎo)體法、旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)磁化法旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)磁化法2 磁粉探傷方法分類磁粉探傷方法分類按檢驗(yàn)時(shí)機(jī)分為

33、延續(xù)法和剩磁法按檢驗(yàn)時(shí)機(jī)分為延續(xù)法和剩磁法按運(yùn)用的電流種類可分為交流法、直流法按運(yùn)用的電流種類可分為交流法、直流法按施加磁粉的方法分類可分為濕法和干法按施加磁粉的方法分類可分為濕法和干法3 磁粉探傷的普通程序磁粉探傷的普通程序預(yù)處置預(yù)處置磁化磁化施加磁粉施加磁粉磁痕的察看與判別磁痕的察看與判別記錄記錄后處置后處置4.4 磁粉檢測(cè)的特點(diǎn)磁粉檢測(cè)的特點(diǎn)1適宜鐵磁資料探傷，不能用于非鐵磁資料適宜鐵磁資料探傷，不能用于非鐵磁資料2可以檢測(cè)出外表和近外表的缺陷，不能檢測(cè)內(nèi)部可以檢測(cè)出外表和近外表的缺陷，不能檢測(cè)內(nèi)部缺陷缺陷3靈敏度高，可以發(fā)現(xiàn)細(xì)小的裂紋靈敏度高，可以發(fā)現(xiàn)細(xì)小的裂紋4檢測(cè)本錢很低，速度快檢

34、測(cè)本錢很低，速度快5工件的外形和尺寸有時(shí)對(duì)探傷有影響，難以磁化工件的外形和尺寸有時(shí)對(duì)探傷有影響，難以磁化而無法探傷而無法探傷第五章浸透檢測(cè)根底知識(shí)第五章浸透檢測(cè)根底知識(shí)5.1 浸透檢測(cè)的根本原理浸透檢測(cè)的根本原理 零件外表被施涂含有熒光染料或著色染料的浸透液后，在毛零件外表被施涂含有熒光染料或著色染料的浸透液后，在毛細(xì)管的作用下，經(jīng)過一段時(shí)間，浸透液可浸透到外表開口的缺細(xì)管的作用下，經(jīng)過一段時(shí)間，浸透液可浸透到外表開口的缺陷中，經(jīng)去除零件外表多余的浸透液后；再在零件外表施涂顯陷中，經(jīng)去除零件外表多余的浸透液后；再在零件外表施涂顯象劑，同樣在毛細(xì)管的作用下，顯象劑將吸引缺陷中保管的浸象劑，同樣在

35、毛細(xì)管的作用下，顯象劑將吸引缺陷中保管的浸透液，浸透液回滲到顯象劑中；在一定光源下，缺陷處的浸透透液，浸透液回滲到顯象劑中；在一定光源下，缺陷處的浸透液痕跡被顯示，從而測(cè)出缺陷的形貌和分布形狀。液痕跡被顯示，從而測(cè)出缺陷的形貌和分布形狀。 浸透操作的根本步驟有：浸透、清洗、顯象、察看浸透操作的根本步驟有：浸透、清洗、顯象、察看 浸透探傷根本操作過程：浸透、清洗、顯象、察看5.2浸透檢測(cè)的分類浸透檢測(cè)的分類1 根據(jù)浸透液所含染料成分分類著色法、熒光法根據(jù)浸透液所含染料成分分類著色法、熒光法2 浸透液去除方法分類水洗型、后乳化型、溶劑去除浸透液去除方法分類水洗型、后乳化型、溶劑去除型型3 顯象法的

36、種類顯象法的種類1濕式顯象法濕式顯象法2快干式顯象法快干式顯象法3干式顯象法干式顯象法4無顯象劑式顯象法無顯象劑式顯象法5.3 浸透檢測(cè)工藝要點(diǎn)浸透檢測(cè)工藝要點(diǎn)1 不同浸透探傷方法的操作程序不同浸透探傷方法的操作程序2 各種浸透探傷方法的優(yōu)缺陷和運(yùn)用選擇各種浸透探傷方法的優(yōu)缺陷和運(yùn)用選擇1)著色法需在白光或日光下進(jìn)展，在沒有電源的場(chǎng)所下也能任務(wù)。著色法需在白光或日光下進(jìn)展，在沒有電源的場(chǎng)所下也能任務(wù)。熒光法需求配備黑光燈和暗室，無法在沒有電源及暗室的場(chǎng)所熒光法需求配備黑光燈和暗室，無法在沒有電源及暗室的場(chǎng)所下任務(wù)。下任務(wù)。2)水洗著色法適于檢查外表較粗糙的零件，操作簡(jiǎn)便，本錢較低。水洗著色法適

37、于檢查外表較粗糙的零件，操作簡(jiǎn)便，本錢較低。該法靈敏度較低，不易發(fā)現(xiàn)微細(xì)缺陷。該法靈敏度較低，不易發(fā)現(xiàn)微細(xì)缺陷。3)后乳化型著色法具有較高靈敏度，適宜檢查較精細(xì)零件，但對(duì)后乳化型著色法具有較高靈敏度，適宜檢查較精細(xì)零件，但對(duì)螺栓，有孔、槽零件，以及外表粗糙零件不適用。螺栓，有孔、槽零件，以及外表粗糙零件不適用。4)溶劑去除型著色法運(yùn)用較廣，特別是運(yùn)用噴罐，可簡(jiǎn)化操作，溶劑去除型著色法運(yùn)用較廣，特別是運(yùn)用噴罐，可簡(jiǎn)化操作，適宜于大型零件的部分檢驗(yàn)。適宜于大型零件的部分檢驗(yàn)。5)水洗型熒光法本錢較低，有亮堂的熒光，易于水洗，檢查速度水洗型熒光法本錢較低，有亮堂的熒光，易于水洗，檢查速度快，適用于外

38、表較粗糙零件，帶有螺紋、鍵槽的零件及大批量快，適用于外表較粗糙零件，帶有螺紋、鍵槽的零件及大批量小零件的檢查。小零件的檢查。6)后乳化型熒光法具有極亮堂的熒光，對(duì)細(xì)小缺陷檢驗(yàn)靈敏度高，后乳化型熒光法具有極亮堂的熒光，對(duì)細(xì)小缺陷檢驗(yàn)靈敏度高，能檢出寬而淺的缺陷，反復(fù)檢驗(yàn)效果好，但本錢較高，因清洗能檢出寬而淺的缺陷，反復(fù)檢驗(yàn)效果好，但本錢較高，因清洗困難，不適用有螺紋、鍵槽及盲孔零件的檢查，也不適用于外困難，不適用有螺紋、鍵槽及盲孔零件的檢查，也不適用于外表粗糙零件的檢驗(yàn)。表粗糙零件的檢驗(yàn)。7)溶劑去除型熒光法輕便，適用于部分檢查，反復(fù)檢查效果好，溶劑去除型熒光法輕便，適用于部分檢查，反復(fù)檢查效果

39、好，可用于無水源場(chǎng)所，靈敏度較高，本錢亦較高?？捎糜跓o水源場(chǎng)所，靈敏度較高，本錢亦較高。3 浸透探傷工藝要點(diǎn)浸透探傷工藝要點(diǎn)1預(yù)處置質(zhì)量；預(yù)處置質(zhì)量；2浸透時(shí)間；浸透時(shí)間；3浸透溫度；浸透溫度；4清洗方法；清洗方法；5顯象時(shí)間。顯象時(shí)間。4 浸透探傷本卷須知浸透探傷本卷須知1預(yù)處置時(shí)要在試件上呵斥充分潤(rùn)濕條件預(yù)處置時(shí)要在試件上呵斥充分潤(rùn)濕條件2確定適當(dāng)?shù)慕笗r(shí)間確定適當(dāng)?shù)慕笗r(shí)間3清洗時(shí)只需除去覆著在試件上的浸透液，不要過度清洗清洗時(shí)只需除去覆著在試件上的浸透液，不要過度清洗4干式顯象前進(jìn)展枯燥時(shí)，要有適宜的枯燥溫度干式顯象前進(jìn)展枯燥時(shí)，要有適宜的枯燥溫度.4 浸透檢測(cè)的平安管理浸透檢測(cè)的平安

40、管理5.5 浸透檢測(cè)的特點(diǎn)浸透檢測(cè)的特點(diǎn)1 除了疏松多孔資料外任何種類的資料都可以用除了疏松多孔資料外任何種類的資料都可以用2 外形復(fù)雜的部件也可以用浸透檢測(cè)外形復(fù)雜的部件也可以用浸透檢測(cè)3 同時(shí)存在幾個(gè)方向的缺陷，用一次探傷操作就可以同時(shí)存在幾個(gè)方向的缺陷，用一次探傷操作就可以完成檢測(cè)完成檢測(cè)4 不需求大型的設(shè)備不需求大型的設(shè)備5 試件外表光潔度影響大試件外表光潔度影響大6 可以檢測(cè)外表張口的缺陷，但對(duì)埋藏缺陷或閉合型可以檢測(cè)外表張口的缺陷，但對(duì)埋藏缺陷或閉合型的外表缺陷無法檢測(cè)出的外表缺陷無法檢測(cè)出7 檢測(cè)程序多，速度慢檢測(cè)程序多，速度慢8 檢測(cè)靈敏度比磁粉探傷低檢測(cè)靈敏度比磁粉探傷低9

41、資料較貴，本錢較高資料較貴，本錢較高10 有些資料易燃、有毒有些資料易燃、有毒第六章渦流檢測(cè)根底知識(shí)第六章渦流檢測(cè)根底知識(shí)6.1 渦流檢測(cè)的原理渦流檢測(cè)的原理 線圈產(chǎn)生交變磁場(chǎng)，交變磁場(chǎng)在試件中產(chǎn)生渦流。試件中的線圈產(chǎn)生交變磁場(chǎng)，交變磁場(chǎng)在試件中產(chǎn)生渦流。試件中的渦流方向與給定的試件施加交流磁場(chǎng)線圈的電流方向相反。由渦流方向與給定的試件施加交流磁場(chǎng)線圈的電流方向相反。由渦流所產(chǎn)生的交流磁場(chǎng)也產(chǎn)生磁力線，其磁力線也是隨時(shí)間而渦流所產(chǎn)生的交流磁場(chǎng)也產(chǎn)生磁力線，其磁力線也是隨時(shí)間而變化，它所穿過鼓勵(lì)線圈內(nèi)感生出交流電。由于這個(gè)電流方向變化，它所穿過鼓勵(lì)線圈內(nèi)感生出交流電。由于這個(gè)電流方向與渦流方向相

42、反結(jié)果就與鼓勵(lì)線圈中原來的電流方向一樣了，與渦流方向相反結(jié)果就與鼓勵(lì)線圈中原來的電流方向一樣了，這就是說線圈中的電流由于渦流的反作用而添加了。假設(shè)渦流這就是說線圈中的電流由于渦流的反作用而添加了。假設(shè)渦流變化的話，這個(gè)添加部分也變化。測(cè)定這個(gè)電流的變化，就可變化的話，這個(gè)添加部分也變化。測(cè)定這個(gè)電流的變化，就可以測(cè)得渦流的變化，從而得到試件的信息。以測(cè)得渦流的變化，從而得到試件的信息。6.2 渦流檢測(cè)儀器、探頭和對(duì)比試樣渦流檢測(cè)儀器、探頭和對(duì)比試樣1渦流探傷儀渦流探傷儀2 探頭3 對(duì)比試樣：用于調(diào)理渦流檢測(cè)儀檢測(cè)靈敏度、確定驗(yàn)收程度和保證檢測(cè)結(jié)果準(zhǔn)確性。6.3渦流檢測(cè)的工藝特點(diǎn)渦流檢測(cè)的工藝特點(diǎn)1 試件外表的清理試件外表的清理2 探傷儀器的穩(wěn)定探傷儀器的穩(wěn)定3 探傷規(guī)范的選擇探傷規(guī)范的選擇1探傷頻率的選定；探傷頻率的選定；2線圈的選擇；線圈的選擇；3探傷靈敏度的選定；探傷靈敏度的選定；4平衡調(diào)整；平衡調(diào)整；5相位角的選定；相位角的選定；6直流磁場(chǎng)的調(diào)整直流磁場(chǎng)的調(diào)整4 探傷實(shí)驗(yàn)探傷實(shí)驗(yàn)6.