高純水設(shè)備系統(tǒng)的工作原理介紹資料下載_圖文

1、高純水設(shè)備系統(tǒng)的工作原理介紹資料下載一、 EDI 系統(tǒng)概述 :半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路及封裝、液晶顯 示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、超 大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高, 對水質(zhì)的要求也越高。 目前我國電子工 業(yè)部把電子水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),分別為 1M.cm、 5M.cm、10M.cm、16M.cm、18M.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。 制備電子工業(yè)用超純水的工藝流程電子行業(yè)制備超純水的工藝大致分成以下幾種:1、采用離子交換樹脂制備超純水的其基本工藝流程為:原 水原水箱原水泵多介質(zhì)過濾器保安過濾器陽床陰 床 (復(fù)

2、床混床純水箱純水泵后置精密過濾器用水點(diǎn) 2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備其基本工藝流程 為:原水原水箱原水泵多介質(zhì)過濾器保安過濾器高壓 泵反滲透設(shè)備RO 水箱混床泵混床純水箱純水泵 后置精密過濾器用水點(diǎn)3、 采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子 (EDI設(shè)備, 這是一種 制取超純水的最新工藝,也是一種環(huán)保,經(jīng)濟(jì),發(fā)展?jié)摿薮蟮?超純水制備工藝, 其基本工藝流程為:原水原水箱原水泵 多介質(zhì)過濾器精密過濾器高壓泵反滲透設(shè)備RO 水箱 (EDI泵保安過濾器紫外線電去離子(EDI純水箱 純水泵后置精密過濾器用水點(diǎn)該技術(shù)資料由萊特萊德 長沙高純水設(shè)備 廠家提供二、 EDI 工作原理 :EDI(Elect

3、ro-de-ionization是一種將離子交換技術(shù)、 離子 交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù) (電滲析技術(shù) 相結(jié)合的純水制造 技術(shù)。 該技術(shù)利用離子交換能深度脫鹽來克服電滲析極化而脫鹽 不徹底 , 又利用電滲析極化而發(fā)生水電離產(chǎn)生 H 和 OH 離子實(shí)現(xiàn)樹 脂自再生來克服樹脂失效后通過化學(xué)藥劑再生的缺陷 , 是 20世 紀(jì) 80年代以來逐漸興起的新技術(shù)。經(jīng)過十幾年的發(fā)展 ,EDI 技術(shù) 已經(jīng)在北美及歐洲占據(jù)了相當(dāng)部分的超純水市場。EDI 裝置包括陰 /陽離子交換膜、離子交換樹脂、直流電源 等設(shè)備。其中陰離子交換膜只允許陰離子透過 , 不允許陽離子通 過 , 而陽離子交換膜只允許陽離子透過 , 不允

4、許陰離子通過。 離子 交換樹脂充夾在陰 陽離子交換膜之間形成單個處理單元 , 并構(gòu) 成淡水室。單元與單元之間用網(wǎng)狀物隔開 , 形成濃水室。在單元 組兩端的直流電源陰 陽電極形成電場。 來水水流經(jīng)淡水室 , 水中 的陰 陽離子在電場作用下通過陰 陽離子交換膜被清除 , 進(jìn)入濃 水室。 在離子交換膜之間充填的離子交換樹脂大大地提高了離子 被清除的速度。同時 , 水分子在電場作用下產(chǎn)生氫離子和氫氧根 離子 , 這些離子對離子交換樹脂進(jìn)行連續(xù)再生 , 以使離子交換樹 脂保持最佳狀態(tài)。 EDI 裝置將給水分成三股獨(dú)立的水流 :純水、 濃水、 和極水。 純水 (90%-95%為最終得到水 , 濃水 (5%

5、-10%可以 再循環(huán)處理 , 極水 (1%排放掉。 圖 2表示了 EDI 的凈水基本過程。EDI 裝置屬于精處理水系統(tǒng) , 一般多與反滲透 (RO配合使用 , 組成預(yù)處理、反滲透、 EDI 裝置的超純水處理系統(tǒng) , 取代了傳統(tǒng) 水處理工藝的混合離子交換設(shè)備。 EDI 裝置進(jìn)水要求為電阻率為 0.025-0.5M·cm,反滲透裝置完全可以滿足要求。 EDI 裝置可 生產(chǎn)電阻率高達(dá) 18M·cm以上的超純水。三、 EDI 裝置的特點(diǎn):EDI 裝置不需要化學(xué)再生 , 可連續(xù)運(yùn)行 , 進(jìn)而不需要傳統(tǒng)水處 理工藝的混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿液 , 以及再生所排放 的廢水。其主要特

6、點(diǎn)如下 :EDI 的凈水基本過程·連續(xù)運(yùn)行 , 產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定·容易實(shí)現(xiàn)全自動控制·無須用酸堿再生·不會因再生而停機(jī)·節(jié)省了再生用水及再生污水處理設(shè)施·產(chǎn)水率高 (可達(dá) 95%·無須酸堿儲備和酸堿稀釋運(yùn)送設(shè)施·占地面積小·使用安全可靠 , 避免工人接觸酸堿·降低運(yùn)行及維護(hù)成本·設(shè)備單元模塊化 , 可靈活的組合各種流量的凈水設(shè)施 ·安裝簡單、費(fèi)用低廉·設(shè)備初投資大四、 EDI 裝置與混床離子交換設(shè)備比較EDI 裝置與混床離子交換設(shè)備屬于水處理系統(tǒng)中的精處理設(shè) 備 ,

7、下面將兩種設(shè)備在產(chǎn)水水質(zhì)、投資量及運(yùn)行成本方面進(jìn)行比 較 , 來說明 EDI 裝置在水處理中應(yīng)用的優(yōu)越性。(1產(chǎn)水水質(zhì)比較EDI 裝置是一個連續(xù)凈水過程 , 因此其產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定 , 電阻 率最高可達(dá) 18.25M·cm,達(dá)到超純水的指標(biāo)。混床離子交換設(shè) 施的凈水過程是間斷式的 , 在剛剛被再生后 , 其產(chǎn)品水水質(zhì)較高 , 而在下次再生之前 , 其產(chǎn)品水水質(zhì)較差。(2投資量比較與混床離子交換設(shè)施相比 EDI 裝置投資量要高約 20%左右, 但從混床需要酸堿儲存、酸堿添加和廢水處理設(shè)施及后期維護(hù)、 樹脂更換來看,兩者費(fèi)用相差在 10%左右。隨著技術(shù)的提高與批 量生產(chǎn),EDI 裝置所需的

8、投資量會大大的降低。另外,EDI 裝置設(shè) 備小巧,所需廠房遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于混床。 (3運(yùn)行成本比較 EDI 裝置運(yùn)行費(fèi)用包括電耗、水耗、藥劑費(fèi)及設(shè)備折舊等費(fèi) 用,省去了酸堿消耗、再生用水、廢水處理和污水排放等費(fèi)用。 在電耗方面,EDI 裝置約 0.5kWh/t 水,混床工藝約 0.35kWh/t 水,電耗的成本在電廠來說是比較經(jīng)濟(jì)的,可以用廠用電的價格 核算。 在水耗方面,EDI 裝置產(chǎn)水率高,不用再生用水,因此在此方 面運(yùn)行費(fèi)用低于混床。 至于藥劑費(fèi)和設(shè)備折舊費(fèi)兩者相差不大。 總的來說,在運(yùn)行費(fèi)用中,EDI 裝置噸水運(yùn)行成本在 1.8 元左 右,常規(guī)混床噸水運(yùn)行成本在 3.2 元左右,高于 EDI

9、裝置。因 此,EDI 裝置多投資的費(fèi)用在 1-2 年內(nèi)完全可以回收。 結(jié)論 EDI 裝置屬于水精處理設(shè)備,具有連續(xù)產(chǎn)水、水質(zhì)高、易控 制、 占地少、 不需酸堿、 利于環(huán)保等優(yōu)點(diǎn),具有廣泛的應(yīng)用前景。 隨著設(shè)備改進(jìn)與技術(shù)完善以及針對不同行業(yè)進(jìn)行優(yōu)化,初投資費(fèi) 用會大大降低。 可以相信在不久的將來會完全取代傳統(tǒng)的水處理 工藝中的混合離子交換系統(tǒng)。 五、EDI 技術(shù)的應(yīng)用 EDI 技術(shù)在國外廣泛的應(yīng)用有十幾年的時間,大多用于制藥 行業(yè)、 微電子行業(yè)、 發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。 在表面清洗、 表面涂裝、 電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛。 EDI 技術(shù)的應(yīng)用 1、制藥行業(yè)、微電子行業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。 2、在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也 日趨廣泛。 半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路; 4、超純材料和超純化學(xué)試劑; 5、實(shí)驗(yàn)室和中試車間; 6、汽車、家電表面拋光處理; 7、光電產(chǎn)品; 8、其他高科技精微產(chǎn)品; 六、EDI 安裝要求