半導(dǎo)體集成電路設(shè)計(jì)-復(fù)習(xí)大綱_第1頁(yè)
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1、精選優(yōu)質(zhì)文檔-傾情為你奉上復(fù)習(xí)大綱1-4章:1、 雙極集成電路工藝的隔離方法;2、 隱埋層雜質(zhì)的選擇原則;3、 外延層厚度包括哪幾個(gè)部分,公式里的四項(xiàng)分別指什么?4、 雙極集成電路工藝中的七次光刻和四次擴(kuò)散分別指什么?5、 雙極集成電路工藝中的雙極晶體管的四層三結(jié)結(jié)構(gòu)6、 集成和分立的雙極型晶體管結(jié)構(gòu)上有何區(qū)別?7、 基區(qū)擴(kuò)散電阻的修正方式; 8、 擴(kuò)散電阻最小條寬的確定原則;基區(qū)擴(kuò)散電阻最小寬度受限的因素及其最小寬度?9、 Al的方塊電阻是0.05/,多晶硅的方塊電阻是30/。線(xiàn)寬是8m,長(zhǎng)度是10m,試計(jì)算上述兩種材料構(gòu)成的電阻阻值10、 SBD與普通二極管的相比,有哪些特點(diǎn)?11、 集成

2、電阻器和電容器的優(yōu)缺點(diǎn);12、 集成NPN晶體管中的寄生電容 13、 橫向PNP管的特點(diǎn);14、 橫向PNP管的直流電流放大倍數(shù)小的原因;P31-3415、 減小NPN晶體管中的集電極串聯(lián)電阻rCS的方法;16、 襯底PNP的特點(diǎn);17、 集成二極管中最常用的是哪兩種,具體什么特點(diǎn)?18、 SCT的工作特點(diǎn)?19、 MOS集成電路工藝中提高場(chǎng)開(kāi)啟電壓的方法?P4620、 溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng)21、 器件的亞閾值特性22、 四管單元五管單元六管單元是演變的?23、 六管單元TTL與非門(mén)電路與五管單元相比,有哪些優(yōu)點(diǎn)?若將它改造成STTL電路,哪些晶體管要加肖特基勢(shì)壘二極管?7-10章、12、13、1

3、7章:1. CMOS靜態(tài)反相器的主要類(lèi)型?2. CMOS反相器設(shè)計(jì)采用兩種準(zhǔn)則:對(duì)稱(chēng)波形設(shè)計(jì)準(zhǔn)則;準(zhǔn)對(duì)稱(chēng)波形準(zhǔn)則。3. 自舉反相器電路,自舉反相器的工作原理4. 飽和E/E自舉反相器的輸出高電平比電源電壓低一個(gè)開(kāi)啟電壓;耗盡負(fù)載反相器,負(fù)載管為耗盡型MOSFET,其柵源短接。5. 有比反相器和無(wú)比反相器6. 在CMOS電路中,負(fù)載電容CL的充電和放電時(shí)間限制了門(mén)的開(kāi)關(guān)速度。分析CMOS反相器中負(fù)載電容CL7. 什么是導(dǎo)電因子,其值是多少?8. CMOS反相器三個(gè)工作區(qū)之間的關(guān)系9. CMOS反相器的上升和下降時(shí)間,如何使其基本相等?10. CMOS反相器功耗的組成?CMOS反相器的動(dòng)態(tài)功耗為:

4、輸出端負(fù)載電容充放電功耗;消耗的平均功率跟電路中的電容充放電所需能量成正比,和開(kāi)關(guān)頻率成正比,和電源電壓的平方成正比11. 噪聲容限是指與輸入輸出特性密切相關(guān)的參數(shù).通常用低噪聲容限和高噪聲容限來(lái)確定12. 器件尺寸可以減小寄生電容和溝道長(zhǎng)度,從而改善電路的性能和集成度。MOS器件尺寸縮小后,會(huì)引入一系列的端溝道和窄溝道效應(yīng)。MOS器件“按比例縮小”的理論是建立在器件中的電場(chǎng)遷都和形狀在器件尺寸縮小后保持不變的基礎(chǔ)之上,稱(chēng)為恒定電廠(chǎng)理論,簡(jiǎn)稱(chēng)CE理論。13. 考慮一個(gè)電阻負(fù)載反相器電路:VDD=5V,KN=20uA/V2 ,VT0=0.8V,RL=200K,W/L=2。計(jì)算VTC曲線(xiàn)上的臨界電

5、壓值(VOL、VOH、VIL、VIH)及電路的噪聲容限,并評(píng)價(jià)該直流反相器的設(shè)計(jì)質(zhì)量。解:KN=KN(W/L)=40uA/V2 KNRL=8V-1VinVT0時(shí),驅(qū)動(dòng)管截止,Vout= VOH= VDD=5VVOL=VDD-VT0+1/KNRL-=0.147VVIL= VT0+1/KNRL=0.925VVIH=VT0+-1/KNRL=1.97VVNML=VIL-VOL=0.78V VNMH=VOH-VIH=3.03V VNML過(guò)小,會(huì)導(dǎo)致識(shí)別輸入信號(hào)時(shí)發(fā)生錯(cuò)誤。為得到較好的抗噪聲性能,較低的信號(hào)噪聲容限應(yīng)至少為VDD的1/4,即VDD=5V時(shí)取1.25V。14. NMOS或非門(mén)、與非門(mén)電路結(jié)構(gòu)

6、15. VDD=5V,KN=30uA/V2 ,VT0=1V,設(shè)計(jì)一個(gè)VOL=0.2V的電阻負(fù)載反相器電路,并確定滿(mǎn)足VOL條件時(shí)的負(fù)載電阻RL的阻值。W/L=216. 設(shè)計(jì)一個(gè)VOL=0.6V的電阻負(fù)載反相器,增強(qiáng)型驅(qū)動(dòng)晶體管VT0=1V, VDD=5V;1)求VIL和VIH2)求噪聲容限VNML和VNMH17. NMOS組合邏輯電路的結(jié)構(gòu)18. CMOS邏輯門(mén)電路結(jié)構(gòu)19. 畫(huà)出F=的CMOS組合邏輯門(mén)電路。AABBDDCCVDDF20. 第160頁(yè)表8.121. 動(dòng)態(tài)門(mén)電路解決電荷再分配的方法22. 動(dòng)態(tài)CMOS邏輯與鐘控CMOS邏輯的異同、優(yōu)缺點(diǎn)?都有求值階段、保持階段動(dòng)態(tài)CMOS邏輯的

7、電荷再分配問(wèn)題,鐘控CMOS邏輯不存在這一問(wèn)題23. MOS管的串聯(lián)和并聯(lián)的上升和下降時(shí)間24. 傳輸門(mén)電路主要類(lèi)型25. RS觸發(fā)器工作原理26. 課后習(xí)題8.4和8.527. 多路開(kāi)關(guān)的邏輯功能及其表達(dá)式28. 存儲(chǔ)器的單元陣列29. 存儲(chǔ)器的分類(lèi)及組成30. 掩膜編程ROM工作原理31. 現(xiàn)成可編程ROM分類(lèi)及其結(jié)構(gòu)32. 各類(lèi)MOS單級(jí)放大電路的特點(diǎn)33. 精密匹配電流鏡能達(dá)到精密匹配是由于采用以下幾個(gè)措施:增加了T3射隨器緩沖,改善了IB引入的電流傳輸差;利用R1=R2的負(fù)反饋,減小VBE引入的電流差;為抵消IB3的影響,在T2的集電極增加射極跟隨器T4,利用T4的,抵消IB3,進(jìn)一

8、步提高了Ir和Io的對(duì)稱(chēng)性34. 電流鏡鏡像電流的計(jì)算35. 采用有源負(fù)載的放大器的優(yōu)點(diǎn)? 有源負(fù)載的交流阻抗rAC很大,所以使每級(jí)放大器的電壓增益AV提高。因而可以減少放大器的級(jí)數(shù)。簡(jiǎn)化頻率補(bǔ)償;有源負(fù)載的直流電阻RDC很小,所以為獲得高的電壓增益AV不需要很高的電源電壓,因而有源負(fù)載放大器可以在低壓、小電流下工作;運(yùn)放采用有源負(fù)載差分輸入級(jí),可不需要額外原件,即可實(shí)現(xiàn)“單端化”36. 集成運(yùn)放有四部分組成:差分輸入級(jí)、中間增益級(jí)、推挽輸出級(jí)和各級(jí)的偏置電路37. 模擬集成電路對(duì)輸出級(jí)的要求主要是:輸出電壓或輸出電流幅度大,能向負(fù)載輸出規(guī)定數(shù)量的功率,而且靜態(tài)功耗小;輸入阻抗高、輸出阻抗低,

9、在前級(jí)放大器和外接負(fù)載間進(jìn)行隔離;能滿(mǎn)足頻率響應(yīng)的要求;具有過(guò)載和短路保護(hù)38. 集成運(yùn)放的版圖設(shè)計(jì)過(guò)程與數(shù)字集成電路一樣,也分為幾個(gè)步驟:1劃分隔離區(qū);2元器件圖形和尺寸設(shè)計(jì)(晶體管的圖形尺寸;電阻的設(shè)計(jì);電容的設(shè)計(jì));3布局和布線(xiàn)(力求原件排列緊湊減小寄生效應(yīng)影響;對(duì)要求對(duì)稱(chēng)的元件盡量對(duì)稱(chēng);采用熱設(shè)計(jì)的方法;引出端的排列應(yīng)與通用運(yùn)算放大器的統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)一致)39. 集成電路設(shè)計(jì)包括邏輯設(shè)計(jì)、電路設(shè)計(jì)、版圖設(shè)計(jì)和工藝設(shè)計(jì)。通常有兩種設(shè)計(jì)途徑:正想設(shè)計(jì)和逆向設(shè)計(jì)。I正向設(shè)計(jì)流程:根據(jù)功能要求進(jìn)行系統(tǒng)設(shè)計(jì)(畫(huà)出框圖);劃分成子系統(tǒng)進(jìn)行邏輯設(shè)計(jì);有邏輯圖或功能塊功能要求進(jìn)行電路設(shè)計(jì);由電路圖設(shè)計(jì)版圖,

10、根據(jù)電路及現(xiàn)有工藝條件,經(jīng)模擬驗(yàn)證再繪制總圖;工藝設(shè)計(jì),如原材料選擇,設(shè)計(jì)工藝參數(shù),工藝方案,確定工藝條件,工藝流程;II逆向設(shè)計(jì):提取橫向尺寸;提取縱向尺寸;測(cè)試產(chǎn)品的電學(xué)參數(shù);40. 圖中一個(gè)主從RS觸發(fā)器的邏輯圖,要求:(1)分析觸發(fā)器的工作原理,它是高電平觸發(fā),還是低電平觸發(fā)。(2)用合適的符號(hào)(S、R和)標(biāo)示置1端和置0端。41. 二輸入的E/D NMOS或非的電路參數(shù)為:VTD-3V,VTE1V,kD=kE=25A/V2,試計(jì)算最壞情況的VOL和最好情況的的VOL值。37. 在電路中往往最后一個(gè)門(mén)電路要去驅(qū)動(dòng)大的負(fù)載,若用一個(gè)簡(jiǎn)單的級(jí)聯(lián)反相器的組合驅(qū)動(dòng),則可以定義一個(gè)級(jí)間比值,這個(gè)比值就是

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