教育部「推動(dòng)國(guó)立大學(xué)研究所基

1、教育部推動(dòng)國(guó)立大學(xué)研究所基礎(chǔ)教育重點(diǎn)改善計(jì)畫報(bào)告書成功大學(xué)物理系光電基礎(chǔ)教育改善計(jì)劃報(bào)告人：傅永貴蔡錦俊黃榮俊黃正雄中華民國(guó)九十一年三月（1）子計(jì)畫：LCD（液晶顯示器）自動(dòng)化製作及量測(cè)負(fù)責(zé)人：傅永貴液晶顯示器(LCD)為國(guó)內(nèi)重點(diǎn)光電產(chǎn)業(yè)，為配合此產(chǎn)業(yè)之人才需求，本系開授液晶學(xué)及顯示技術(shù)(碩博士班)，同時(shí)購(gòu)置一臺(tái)LCD製作及量測(cè)配備(Rubbing Machine RM-50及相關(guān)配件)，目前已裝設(shè)完畢，已讓學(xué)生使用製作及量測(cè)LCD及液晶其他元件，達(dá)到理論及寫作並重的目，效果甚佳。（2）子計(jì)畫：磁光電薄膜之IBD製作與分析負(fù)責(zé)人：黃榮俊高真空離子濺鍍系統(tǒng)(IBD)是成長(zhǎng)光電薄膜之利器，為配合光

2、電產(chǎn)業(yè)之人才需求，本系目前已開授薄膜物理課程。本課程在IBM系統(tǒng)完成後(目前已購(gòu)置，試車完成)，可大大加強(qiáng)薄膜物理課程之實(shí)作項(xiàng)目。目前規(guī)劃一學(xué)期學(xué)生可以鍍膜3-5次，包括金屬和金屬氧化物薄膜之實(shí)作與分析是目前規(guī)劃之重點(diǎn)。九十一年度起，本系並擬開授磁光電薄膜之製作分析課程，可以讓此IBD系統(tǒng)之培育高科技人才功能發(fā)揮得更好。（3）子計(jì)畫：兆赫輻射之產(chǎn)生、檢測(cè)與應(yīng)用負(fù)責(zé)人：黃正雄本實(shí)驗(yàn)室利用教育部研補(bǔ)助的經(jīng)費(fèi)再配合國(guó)科會(huì)的部份經(jīng)費(fèi)共採(cǎi)購(gòu)了一部鎖相放大器及一套可遙控式的移動(dòng)平臺(tái)。這兩部?jī)x器將配合其他設(shè)備用來(lái)產(chǎn)生及檢測(cè)兆赫輻射。將來(lái)我們將利用兆赫波進(jìn)行影像處理及生物科技方面的應(yīng)用，對(duì)本實(shí)驗(yàn)室研究工作的提

3、升與光散射課程突破將有極大的幫助。（4）子計(jì)畫光纖通訊技術(shù)負(fù)責(zé)人：蔡錦俊本實(shí)驗(yàn)室於 ”推動(dòng)國(guó)立大學(xué)研究所基礎(chǔ)教育重點(diǎn)改進(jìn)計(jì)畫” 中以結(jié)合實(shí)驗(yàn)室中已有之雷射光電技術(shù)進(jìn)行精密量測(cè)，借以訓(xùn)練碩士班學(xué)生對(duì)光學(xué)技術(shù)，光電特性，微動(dòng)控制系統(tǒng)，光纖通訊等有更進(jìn)一步的認(rèn)識(shí)。本計(jì)畫中以光纖通訊技術(shù)為主，共分為二部份，光纖模組與微動(dòng)控制模組，另對(duì)有光源與光學(xué)元件是為配合前兩模組實(shí)驗(yàn)的附件。一、 光纖模組：完整的光纖模組是一基礎(chǔ)訓(xùn)練用的模組，主要是讓研究生就光纖的基本原理、特性的了解，並能動(dòng)手實(shí)際的操作以求能充份的了解光纖之應(yīng)用。完整的光纖模組可進(jìn)行之實(shí)驗(yàn)共分10部份(請(qǐng)參考附件一)，分別就1.2. 光纖傳遞之損耗

4、3. 單模光纖的特性I4. 單模光纖的特性II5. 光纖與半導(dǎo)體光源之耦合6. 耦合與連接7. 光纖通訊8. 通訊連接9. 多模強(qiáng)度計(jì)10. 單模干涉感測(cè)目前我們因經(jīng)費(fèi)限制，以完成基礎(chǔ)訓(xùn)練的前三部份實(shí)驗(yàn)為主，將來(lái)若經(jīng)費(fèi)許可，應(yīng)可擴(kuò)充完成所有的實(shí)驗(yàn)。完成此部份的量測(cè)後，研究生應(yīng)可對(duì)光纖有學(xué)理上的了解與實(shí)際上操作的經(jīng)驗(yàn)，對(duì)學(xué)生的訓(xùn)練紮實(shí)。二、 微動(dòng)控制模組本模組是光電技術(shù)中以利聲光晶體的折射來(lái)控制雷射光之方向(位置)，改變其強(qiáng)度強(qiáng)弱，或當(dāng)雷射光源之開關(guān)。其主要的功能在於聲光晶體能有快速的時(shí)間反應(yīng)與微小的折射角度改變。其中開關(guān)的反應(yīng)時(shí)間為聲波在通過(guò)晶體 中雷射光束的位置，以折射出第一階的光源所需時(shí)間視雷射光束的大小100nsec，另外，若能以兩組聲光晶體做垂直配合