全口義齒工藝技術(shù)復(fù)習(xí)題答案_

1、一、 概念：1. 全口義齒：為牙列缺失患者制作的修復(fù)體。2.牙列缺失：是指患者上頜、下頜或上下頜的天然牙全部缺失.是臨床上常見的修復(fù)病例.多見于老年人。 3.牙列缺損：上頜或下頜牙列內(nèi)的不同部位有不同數(shù)目的牙齒缺失,同時(shí)牙列內(nèi)有不同數(shù)目的天然牙存在。4.無(wú)牙頜：牙列缺失患者的上下頜稱為無(wú)牙頜5. 前弓區(qū)：在口腔前庭內(nèi).頰系帶之間為前弓區(qū)。6. 后弓區(qū)：在口腔前庭內(nèi).頰系帶以后為后弓區(qū)。 7.顴突：位于后弓區(qū)內(nèi)相當(dāng)于上頜第一磨牙根部的骨突起處.此區(qū)黏膜薄.為避免前后翹動(dòng).相應(yīng)的基托組織面做適當(dāng)緩沖。8.上頜結(jié)節(jié)：是上頜牙槽嵴兩側(cè)遠(yuǎn)端的圓形骨突.表面有黏膜覆蓋。與頰黏膜之間形成頰間隙。 9. 翼上

2、頜切跡： 位于上頜結(jié)節(jié)之后.是蝶骨翼突與上頜結(jié)節(jié)后緣之間的骨間隙.表面覆蓋黏膜.形成軟組織凹陷.是上頜全口義齒兩側(cè)后緣的界限。10. 切牙乳突： 位于腭中縫之前分.上頜中切牙的腭側(cè).為一梨形或卵圓形的軟組織突起。11.上頜硬區(qū)：位于上頜腭穹隆中部的前份.骨組織呈嵴狀隆起.又稱上頜隆突或腭隆突。表面覆蓋黏膜較薄.受壓后易產(chǎn)生疼痛。 12.腭小凹：是口內(nèi)黏液腺導(dǎo)管的開口.位于腭中縫兩側(cè).軟硬腭連接處的稍后方.上頜全口義齒的后緣一般應(yīng)在腭小凹后2mm左右處。 13.后堤區(qū)：前后顫動(dòng)線之間的區(qū)域.為上頜基托后緣的邊緣封閉區(qū)。 14. 頰棚區(qū) 15. 遠(yuǎn)中頰角區(qū) 16.磨牙后墊 17. 下頜隆突 18下

3、頜舌骨嵴 19. 義齒間隙：是在口腔內(nèi)容納義齒的潛在空間。 20.固位：是指義齒抵抗從口內(nèi)垂直脫位的能力。 21.穩(wěn)定：是指義齒對(duì)抗水平和轉(zhuǎn)動(dòng)的力量.防止義齒側(cè)向和前后向脫位。 22.吸附力：是兩種物體分子之間相互的吸引力.包括附著力和粘著力。23.附著力：附著力是指不同分子之間的吸引力。 24.粘著力：粘著力是指同分子之間的內(nèi)聚力。 25.無(wú)牙頜印模：是用可塑性印模材料取得的無(wú)牙上、下頜牙槽嵴和周圍軟硬組織的印模。 26.一次印模：是選擇與患者無(wú)牙頜大小、形態(tài)合適的成品托盤及用海藻酸印模材料或熱塑性印模材料一次完成工作印模的方法。 27.二次印模：由初印模和終印模組成.是在患者口中取兩次印模

4、后完成工作印模的方法。 28. 模型：模型是灌注模型材料（石膏或人造石）于印模內(nèi)形成的物體原型。 29. 頜位關(guān)系記錄：是指用禾托來(lái)確定并記錄在患者面部下1/3的適宜高度和兩側(cè)髁突在下頜關(guān)節(jié)凹生理位置時(shí)的上下頜位置關(guān)系.以便在這個(gè)上下頜骨的位置關(guān)系上.用全口義齒來(lái)重建無(wú)牙頜患者的正中禾關(guān)系。30.垂直距離：為天然牙列呈正中牙合 時(shí).即尖窩交錯(cuò)的接觸關(guān)系時(shí).鼻底至頦底的距離.也就是面部下1/3的距離。31.水平頜位關(guān)系：兩側(cè)髁突在下頜后退接觸位（RCP）時(shí)的上下頜位置關(guān)系。32.轉(zhuǎn)移頜位關(guān)系：轉(zhuǎn)移頜位關(guān)系是將臨床上所記錄的患者上頜對(duì)于顳下關(guān)節(jié)的位置關(guān)系再現(xiàn)于禾架之上.以便在禾架上能很好地模仿人體

5、的下頜運(yùn)動(dòng).制作出符合患者口腔內(nèi)生理環(huán)境的全口義齒。 33.上禾架：是將帶有上下牙合 托的模型用石膏固定在給架之上.并保持上下頜模型間的高度和頜位關(guān)系.以便排牙。 34. 全口義齒的平衡禾：全口義齒的平衡禾是指下頜在正中禾及前伸、側(cè)方運(yùn)動(dòng)時(shí).上下頜相關(guān)的牙齒都是能同時(shí)接觸的一種咬合關(guān)系。 35. 定位平面斜度：從上中切牙近中切角至上頜7 7的近中頰尖頂相連而成的三角平面稱為定位平面。定位平面與眶耳平面的夾角稱為定位平面斜度。 36.牙尖工作斜面的斜度：是指下頜做前伸運(yùn)動(dòng)時(shí).上后牙牙尖遠(yuǎn)中斜面或下后牙牙尖近中斜面與水平面間形成的夾角。 37. 個(gè)別托盤：根據(jù)患者的口腔情況和修復(fù)的需要而制作的托盤

6、。二、 填空：1.全口義齒是為 牙列缺失 患者制作的義齒（修復(fù)體）。2. 全口義齒的修復(fù)對(duì)象是 牙列缺失 的患者.是為 無(wú)牙頜 患者解決全部天然牙的缺失和部分軟、硬組織吸收與改變而制作的修復(fù)體。3.全口義齒由 人工牙 和 基托 兩部分組成。4. 牙列缺失是指患者 上頜、下頜 或 上下頜 的天然牙全部缺失.是臨床上常見的修復(fù)病例.多見于老年人。牙列缺失的最常見病因是 齲病 和 牙周病。5. 牙列缺失患者的上下頜稱為 無(wú)牙頜 。6.在口腔前庭.唇、頰系帶之間區(qū)域?yàn)?前弓區(qū) .頰系帶以后為 后弓區(qū) 。7. 前顫動(dòng)線為硬腭與軟腭腱膜結(jié)合的部位；后顫動(dòng)線又稱為“啊”線.約從一側(cè)翼上頜切跡延伸至對(duì)側(cè)的翼上

7、頜切跡。前后顫動(dòng)線之間的區(qū)域.稱為 后堤區(qū) 。作為上頜全口義齒后緣的封閉區(qū).義齒基托組織面在此區(qū)域應(yīng)向黏膜方向 突起 。8.后堤區(qū)前后向?qū)挾纫螂癫康男螒B(tài)不同可分為以下三種.即 硬腭平坦形 、硬腭高拱形 、 中間形 。9.牙列缺失后.會(huì)出現(xiàn)牙槽嵴的吸收。吸收在缺失后前 3 個(gè)月最快. 35 個(gè)月吸收速度減慢.大約 6 個(gè)月后吸收速度顯著下降.拔牙后 2 年吸收速度趨于穩(wěn)定.每年以 0 .5 mm的水平吸收.將終生持續(xù)。因此.全口義齒修復(fù)的時(shí)機(jī)應(yīng)在拔牙后 35 個(gè)月；確實(shí)急需的.最早也應(yīng)在拔牙后 1 個(gè)月進(jìn)行。一般情況下.一副普通的全口義齒.使用 34 年后應(yīng)進(jìn)行必要的調(diào)禾和襯層處理.使用 78

8、年后應(yīng)予以重新修復(fù)。10.牙列缺失后.牙槽嵴吸收多少與骨質(zhì)致密度直接關(guān)系.由于上下頜骨內(nèi)外側(cè)骨板的密度不一.結(jié)果上頜牙槽嵴吸收方向 向上向內(nèi) .上頜牙弓逐漸變 小 ；下頜牙槽嵴吸收方向 向下向外 .下頜牙弓逐漸變 大 。11.根據(jù)無(wú)牙頜的組織和全口義齒的關(guān)系.將無(wú)牙頜分成四個(gè)區(qū).即 主承托區(qū) 、 副承托區(qū) 、 邊緣封閉區(qū) 和 緩沖區(qū) 。 12. 義齒有三個(gè)表面.即 組織面 、 磨光面 、 咬合面 .對(duì)義齒的穩(wěn)定和舒適有很大的影響。 13. 全口義齒能附著在上下頜骨上是由于 大氣壓力 和 吸附力 等物理作用的結(jié)果。 14. 吸附力包括附著力和粘著力。 附著力 是指不同分子之間的吸引力。 粘著力

9、是指同分子之間的內(nèi)聚力。全口義齒的基托組織面和黏膜緊密貼合.其間有一薄層的唾液.基托組織面與唾液.唾液與黏膜之間產(chǎn)生 附著力 .唾液本身分子之間產(chǎn)生 粘著力 。 15.在全口義齒分類方法中.按牙列缺失情況分為 全頜全口義齒 和 單頜全口義齒 ；按牙列缺失后開始修復(fù)的時(shí)間分為 長(zhǎng)期型全口義齒 、 即刻全口義齒 、 過(guò)渡性全口義齒 ；按義齒結(jié)構(gòu)和支持形式分為 黏膜支持式全口義齒 、 混合支持式全口義齒 、 根支持式全口義齒 。 16.獲取無(wú)牙頜的印模有多種方法.主要有:根據(jù)取印模的次數(shù).分為 一次印模法 和二次印模法 ；根據(jù)取印模時(shí)患者張口或閉口.分為 開口式印模 和 閉口式印模 ；根據(jù)取印模時(shí)是

10、否對(duì)黏膜造成壓力.分為 黏膜靜止式印模 和 黏膜運(yùn)動(dòng)式印模 。臨床上常用的印模方法為 一次印模法 和 二次印模法 。 17. 托盤是承載印模材料在口內(nèi)取得印模的工具.主要有 成品托盤 和 個(gè)別托盤 兩種。上頜托盤的寬度應(yīng)比上頜牙槽嵴寬 23 mm.周圍邊緣高度應(yīng)離開黏膜皺襞約 2 mm.唇頰系帶處呈 切跡 .托盤后緣兩側(cè)需蓋過(guò) 翼上頜切跡 .后緣連線位應(yīng)超過(guò)顫動(dòng)線 34 mm；下頜托盤的高度和寬度應(yīng)與上頜的托盤 相同 .后緣兩側(cè)應(yīng)蓋過(guò) 磨牙后墊 .舌側(cè)沿舌溝 前行 。 18. 印模材料的種類較多.常用的印模材料有 藻酸鹽類印模材料 、 硅橡膠印模材料 、 印模石膏 、 印模膏 等。目前最常用的

11、是 藻酸鹽類印模材料 .這種材料目前在國(guó)內(nèi)被廣泛采用。 19. 在無(wú)牙頜初印模上灌注石膏形成 初模型 .用來(lái)制作 個(gè)別托盤 。在無(wú)牙頜終印模上灌注石膏或人造石形成 終模型 (又稱工作模型)。 20. 調(diào)拌石膏的方法為旋轉(zhuǎn)調(diào)拌.調(diào)拌速度為每分鐘 30 轉(zhuǎn)左右.調(diào)拌時(shí)間大約 1分鐘.到石膏調(diào)拌均勻細(xì)膩時(shí)開始灌注.灌模后靜置約 半個(gè) 小時(shí).石膏發(fā)熱凝固后可立即脫模。 21. 模型形成的方法有 圍模灌注法 和 一般灌注法 。 22. 模型邊緣厚度以 35 mm為宜.模型最薄處也不能少于 10 mm。模型后緣應(yīng)在腭小凹后不少于2 mm.下頜模型在磨牙后墊自其前緣起向后不少于10 mm。模型修整后底面要平

12、.底座部分應(yīng)為工作部分的 1/2 。 23. 當(dāng)天然牙列存在時(shí).上下頜骨的位置關(guān)系由緊密接觸的上下牙列來(lái)保持的。有兩個(gè)穩(wěn)定的參考位.即 正中禾位 、 正中關(guān)系位 。當(dāng)天然牙列缺失后.隨之喪失 正中禾位 .唯一穩(wěn)定參考位就是 正中關(guān)系位 了。 24. 頜位關(guān)系記錄包括了 垂直關(guān)系記錄 和 水平關(guān)系記錄 兩部分。 25.禾托由 基托 與 禾堤 兩部分組成。 26. 確定處置距離的方法有 息止頜位法 面部比例測(cè)定法 面部外形觀察法 。 27. 確定水平頜位關(guān)系的方法很多.一般歸納為以下三類.即 哥特式弓描記法 、直接咬合法 、 肌監(jiān)控儀法 。 28. 直接咬合法是指利用禾堤及禾間記錄材料.囑患者下頜

13、后退并直接咬合在一起的方法。包括 卷舌后舔法 、 吞咽咬合法 、 后牙咬合法 、 鼓腮咬合法 。 30. 常用的暫基托材料有 基托蠟片 、 自凝材料 和 光固化基托塑料板 。 31. 制上禾堤.放入口內(nèi)調(diào)改禾平面。要求禾平面的前部在上唇下緣以下約2 mm.且與 瞳孔連線 平行；禾平面的后部.從側(cè)面觀要與 鼻翼耳屏線 平行。禾堤的唇面要充分襯托出上唇.使上唇豐滿而自然.禾堤后端整修成斜坡狀。32. 檢查正中關(guān)系是否是正確方法有 捫測(cè)顳肌法 、 捫測(cè)髁突動(dòng)度法 、 面部外形觀察法 。33. 禾堤唇面畫標(biāo)志線包括 中線 、 口角線 、 唇高線 和 唇低線 。34.禾架的種類有四.分別是 簡(jiǎn)單禾架 、

14、 平均值禾架 、 半可調(diào)節(jié)禾架 、 全可調(diào)節(jié)禾架 。 34. 人工牙根據(jù)所使用的材料主要有兩大類 樹脂牙 和 瓷牙 。根據(jù)后牙禾面形態(tài)分為兩大類 解剖式禾面形態(tài) 和 非解剖式禾面形態(tài)。35. 平衡禾的分類包括 正中平衡禾 、 前伸平衡禾 、 側(cè)方平衡禾 。在非正中平衡禾中.根據(jù)上下牙接觸的數(shù)目.分為 三點(diǎn)接觸禾平衡 、 多點(diǎn)接觸禾平衡 、 完全接觸的禾平衡 。36.與平衡禾有關(guān)的五因素為 髁導(dǎo)斜度 、 切導(dǎo)斜度 、 牙尖工作斜面的斜度 、 補(bǔ)償曲線曲度 、 定位平面斜度。37.在Gysi的同心圓學(xué)說(shuō).五因素間必須保持的互相關(guān)系是：髁導(dǎo)斜度和切導(dǎo)斜度間為 反變關(guān)系 ；補(bǔ)償曲線曲度、牙尖斜度和定位

15、平面斜度間為 反變關(guān)系 ；髁導(dǎo)斜度或切導(dǎo)斜度與其余任何一種因素都是 正變關(guān)系 。38. 孫廉的平衡咬合理論中.三因素指的是 髁道斜度 、 切道斜度 、 平衡斜面的斜度 。39.在前伸平衡禾的調(diào)整中.前牙切緣接觸而后牙無(wú)禾接觸.表明切導(dǎo)斜度 過(guò)大 或牙尖斜度 過(guò)小 .在這種情況下.首先考慮 增加 補(bǔ)償曲線曲度使牙尖工作斜面斜度加大.其次考慮在不影響美觀和功能的原則之下.適當(dāng) 減小 前牙的切道斜度；前牙切緣無(wú)接觸而后牙有接觸時(shí).表明切導(dǎo)斜度 過(guò)小 .或牙尖斜度 過(guò)大 。一般調(diào)整后牙的遠(yuǎn)近中向傾斜度.以 減小 補(bǔ)償曲線曲度。40.在側(cè)向平衡禾的調(diào)整中.工作側(cè)早接觸而平衡側(cè)無(wú)接觸.主要是通過(guò) 加大 平

16、衡側(cè)橫禾曲線的方法來(lái)調(diào)整；平衡側(cè)早接觸而工作側(cè)無(wú)接觸時(shí).可用 減小 平衡側(cè)橫禾曲線的方法來(lái)調(diào)整。 41.全口義齒的蠟型塑型包括 基托塑形 、 牙齦 、 牙根 及 腭皺襞的塑形 。42.全口義齒蠟型完成后.先用石膏將其包埋固定于 型盒 中.蠟加熱沖去后即形成石膏 型腔 .在 型腔 內(nèi)填以樹脂.經(jīng)加熱聚合后.人工牙與基托連成一個(gè)堅(jiān)固的整體。再打開 型盒 從中取出義齒進(jìn)行打磨、拋光處理.全口義齒制作即告完成。43.全口義齒的裝盒采用 反裝法 .即將模型包埋固定于 下半 型盒內(nèi).人工牙、基托完全暴露.翻到 上半 盒內(nèi)。44.型盒由上層型盒、下層型盒和型盒蓋三部分組成。模型距型盒頂部至少應(yīng)有 1 cm。

17、45.裝盒前.將完成蠟型的模型從禾架上取下.浸泡在冷水中約 10 分鐘.使其吸足水分.以免裝盒時(shí)吸收裝盒石膏中的水分加快凝固速度及膨脹.不利于操作.導(dǎo)致裝盒包埋不實(shí)。46.裝盒時(shí).下層型盒的邊緣應(yīng)完全露出.以便與上層型盒吻合。待石膏結(jié)固(約30分鐘)后.其表面均勻涂一層 分離劑 。將上層型盒罩在其上檢查.要求上下兩層型盒的邊緣吻合良好.調(diào)石膏注入上層型盒內(nèi).為防止牙頸部和牙間隙處產(chǎn)生氣泡.可用排筆蘸 石膏漿 在這些部位先涂布一層。47.上層型盒灌注后約 30 分鐘.包埋石膏完全硬固.此時(shí)方可進(jìn)行燙盒處理。置入80°C以上熱水中浸泡 510 分鐘.打開型盒.去除軟蠟.用熱水的容器放于高

18、處.用 細(xì)水流 沖洗干凈。48.樹脂充填在20左右室溫下.樹脂粉和液調(diào)和后約 20 分鐘達(dá)到面團(tuán)期.面團(tuán)期約維持 5 分鐘.此時(shí)進(jìn)行充填。49.全口義齒的熱處理可采用 濕式聚合法(水浴加熱法) 和 干式聚合法 兩種.目前常采用 水浴加熱法 。50.出盒時(shí)機(jī).型盒經(jīng)熱處理后在水中自行冷卻.水溫降至 50°C 以下時(shí).出盒最適宜。51.將表面黏附石膏全口義齒.浸泡于 30%枸櫞酸鈉 過(guò)飽和溶液中. 24 小時(shí)后取出.用清水洗刷干凈.殘存的石膏即可去凈。52.基托組織面是口腔黏膜的真實(shí)反映.除樹脂瘤、尖銳的凸起、殘留石膏渣以及需緩沖骨突等處外.一般不應(yīng) 研磨 。 53.全口義齒人工牙選磨調(diào)

19、禾的原則注意保護(hù) 功能尖 .消除咬合時(shí)的 早接觸點(diǎn) 。去除下頜運(yùn)動(dòng)時(shí)的咬合干擾.達(dá)到平衡禾。調(diào)磨順序?yàn)椋?正中 禾的選磨 側(cè)方 禾的選磨 前伸 禾的選磨。 54.在正中禾的選磨中.盡量調(diào)磨人工牙的斜面和窩.不降低牙尖 高度 。牙尖與斜面發(fā)生早接觸時(shí).應(yīng)調(diào)磨 斜面 ；牙尖與窩發(fā)生早接觸時(shí).應(yīng)調(diào)磨與牙尖相對(duì)應(yīng)的 窩 ；斜面與斜面發(fā)生早接觸時(shí). 兩斜面 均可調(diào)磨。55.在側(cè)方禾的選磨中.工作側(cè)發(fā)生早接觸時(shí).應(yīng)調(diào)磨早接觸的 牙尖斜面 ；平衡側(cè)發(fā)生早接觸時(shí).應(yīng)調(diào)磨上頜后牙舌尖的 頰斜面 或下頜后牙頰尖的 舌斜面 。側(cè)方禾上下尖牙禾干擾時(shí).可調(diào)磨上頜尖牙的 舌斜面 或下頜尖牙的 唇斜面 。56.在前伸禾的

20、選磨中.前牙接觸后牙不接觸時(shí).應(yīng)調(diào)磨上前牙的 舌窩 或下前牙切緣的 唇斜面 ；后牙接觸前牙不接觸時(shí).應(yīng)調(diào)磨上頜后牙牙尖的 遠(yuǎn)中斜面 或下頜后牙牙尖的 近中斜面 。57.基托不密合重襯的方法有: 直接重襯法 、 間接重襯法 、 自凝軟襯材料重襯 。三、簡(jiǎn)答：1.簡(jiǎn)述切牙乳突的生理意義。（1）其下為切牙孔.有鼻腭神經(jīng)和血管通過(guò).義齒基托組織面在此區(qū)應(yīng)緩沖。（2）切牙乳突是上頜重要的.穩(wěn)定的標(biāo)志。因此可作為排列上頜中切牙的參考標(biāo)志 。 a.兩個(gè)上頜中切牙的交界線應(yīng)以切牙乳突尖端作為標(biāo)準(zhǔn)；  b.上頜中切牙唇面置于切牙乳突中點(diǎn)前8-10mm ； c.上頜兩側(cè)尖牙牙尖頂?shù)倪B線應(yīng)通過(guò)切

21、牙乳突中點(diǎn)前后1mm范圍。2.簡(jiǎn)述磨牙后墊的生理意義。（1）是下頜全口義齒后界封閉區(qū)。（2）下頜全口義齒后緣應(yīng)止于磨牙后墊的前1/31/2處。（3）磨牙后墊可作為指導(dǎo)排列人工牙的解剖標(biāo)志。a.垂直向：下頜第一磨牙的合面應(yīng)與磨牙后墊的等高；b.前后向：下頜第二磨牙應(yīng)位于磨牙后墊前緣；c.頰舌向：磨牙后墊頰面、舌面與下頜尖牙的近中面形成一個(gè)三角形.下頜后牙的舌尖應(yīng)位于此三角形內(nèi)。3.填寫下表.說(shuō)明無(wú)牙頜的分區(qū)、部位及其作用。分 區(qū)部 位作 用主承托區(qū)上下頜牙槽嵴頂?shù)瘸袚?dān)咀嚼壓力.與基托緊密貼合副承托區(qū)牙槽嵴的唇頰側(cè)和舌腭側(cè) 協(xié)助承擔(dān)咀嚼壓力.與基托緊密貼合邊緣封閉區(qū)義齒邊緣接觸的軟組織部分 邊緣封

22、閉.與基托緊密貼合 緩沖區(qū)下頜隆突區(qū)、上頜硬區(qū)等 避免壓痛.義齒翹動(dòng).適當(dāng)緩沖 4.簡(jiǎn)述影響全口義齒固位的有關(guān)因素。（1）頜骨的解剖形態(tài)；（2）口腔黏膜的性質(zhì)；（3）睡液的質(zhì)和量；（4）基托的邊緣。5.簡(jiǎn)述影響全口義齒穩(wěn)定的有關(guān)因素。（1）良好的咬合關(guān)系；（2）合理的排牙；（3）理想的基托磨光面形態(tài)。6.簡(jiǎn)述全口義齒基托的伸展范圍。上下頜唇頰舌側(cè)在粘膜反折線處.讓開系帶；上頜后緣在兩側(cè)翼上頜切跡與腭小凹后2mm三點(diǎn)間的連線處.下頜后緣在下頜磨牙后墊的前1312處 。7.以藻酸鹽印模材料制取一次印模為例.簡(jiǎn)述制取無(wú)牙頜上下頜印模的方法。（1）選擇大致與上下無(wú)牙頜患者牙弓一致的成品托盤。（2）調(diào)拌

23、藻酸鹽印模材料.引入口中.作上下頜主動(dòng)被動(dòng)肌功能修整。（3）印模材料凝固后.將托盤從口中取出.檢查印模的完整性.完畢。 8.簡(jiǎn)述制取個(gè)別托盤的步驟和方法。（1）個(gè)別托盤的邊緣線；（2）緩沖；（3）預(yù)留空間；（4）自凝樹脂的調(diào)拌與壓制；（5）打磨與完成。9.簡(jiǎn)述圍模灌注法的步驟和方法。在印模的周緣下約2mm處粘著一條約5mm寬的蠟棍.下頜印模的舌側(cè)邊緣間用蠟板封閉空隙； 沿蠟棍外面及印模后緣圍繞一層成盒型蠟板.圍板上緣至印模最高處的距離不少于10mm。 灌注石膏.完成。10.簡(jiǎn)述排牙的原則。（1）牙弓形狀.應(yīng)盡可能與頜弓形狀一致；（2）人工牙的蓋嵴部應(yīng)盡可能貼近牙槽嵴；（3）禾平面應(yīng)與牙槽嵴接近

24、平行.并且平分頜間距離；(4)前牙應(yīng)排成淺覆蓋和淺覆禾關(guān)系；(5)形成正常的禾曲線。11.列表說(shuō)明排列人工前牙的要求表5-1前牙排列的精確位置要求唇舌向傾斜 近遠(yuǎn)中向傾斜 旋轉(zhuǎn)度 與禾堤平面關(guān)系上頜中切牙 接近垂直或頸部 垂直或稍向遠(yuǎn)中 與前牙區(qū)頜弓曲 切緣與禾平面接觸 稍向腭側(cè)傾斜 傾斜 度一致上頜側(cè)切牙 切緣稍向唇側(cè)傾 頸部稍向遠(yuǎn)中傾 遠(yuǎn)中微向舌側(cè)旋 切緣高出禾平面0.5 斜 斜 轉(zhuǎn) 1mm上頜尖牙 頸部向唇側(cè)突出 頸部稍向遠(yuǎn)中傾 唇面遠(yuǎn)中向舌側(cè)牙 尖與禾平面接觸 切緣微向舌側(cè)傾 斜 旋轉(zhuǎn)與后部頜弓 斜 其程度介于1、2 曲度一致 之間下頜中切牙 頸部微向舌側(cè)傾 垂直 與前牙區(qū)頜弓曲 切緣

25、高出禾平面約 斜 度一致 1mm下頜側(cè)切牙 近似垂直 頸部稍向遠(yuǎn)中傾 同中切牙 同中切牙 斜下頜尖牙 頸部稍向唇側(cè)突 頸部稍向遠(yuǎn)中傾 唇面遠(yuǎn)中向舌側(cè) 同中切牙 出 斜 旋轉(zhuǎn)與后部頜弓 曲度一致12.列表說(shuō)明排列人工后牙的要求后牙排列的精確位置要求 頰舌向傾斜 近遠(yuǎn)中向傾斜 與禾平面關(guān)系上頜第一前磨牙 頸部微向頰側(cè)傾斜 垂直 頰尖在禾面上.舌尖離開禾平面約1mm上頜第二前磨牙 垂直 垂直 頰舌尖均在禾平面上上頜第一磨牙 頸部稍向腭側(cè)傾斜 頸部稍向近中傾斜 近中舌尖在禾平面上.遠(yuǎn)舌尖、近頰尖 離開約1mm.遠(yuǎn)頰尖離開約1.5mm上頜第二磨牙 頸部向腭側(cè)傾斜 頸部向近中傾斜 近舌尖離開禾平面約1mm

26、.遠(yuǎn)舌尖、近頰尖離開約2mm.遠(yuǎn)頰尖離開約2.5mm下頜后牙 以上后牙禾面為準(zhǔn).按正中禾關(guān)系排下后牙13.在全口義齒的試戴中.蠟型戴入口中后.需檢查那些項(xiàng)目。（1）檢查外觀（面部比例）及垂直距離（2）檢查暫基托是否平穩(wěn)（3）檢查頜位關(guān)系 （4）檢查咬合關(guān)系（5）檢查平衡禾（6）檢查排牙情況（7）檢查發(fā)音情況（8）檢查基托14.敘述全口義齒基托的伸展范圍及厚度要求上下頜唇頰舌側(cè)在粘膜反折線處.讓開系帶；上頜后緣在兩側(cè)翼上頜切跡與腭小凹后2mm三點(diǎn)間的連線處.下頜后緣在下頜磨牙后墊的前1312處 。 基托的厚度為1.52mm.接近人工牙處逐漸加厚；基托邊緣、翼頜切跡、磨牙后墊厚度為2.53mm.呈

27、圓鈍狀；緩沖區(qū)基托可適當(dāng)加厚.以備緩沖時(shí)留有余地。15.簡(jiǎn)述判斷樹脂充填是否足夠的標(biāo)志型盒周邊有多余的樹脂被擠出；玻璃紙較平整.皺褶不明顯；樹脂致密.顏色較深。 16.簡(jiǎn)述樹脂充填及熱處理中常見問(wèn)題及原因（1）氣泡（散在小氣泡） 樹脂填塞不足或充填過(guò)早（基托較厚處形成圓形大氣泡） 熱處理過(guò)快（基托表面氣泡） 單體過(guò)多或后填加.調(diào)拌不勻材料本身性能不佳（2）咬合增高 樹脂過(guò)硬樹脂量過(guò)多裝盒用石膏強(qiáng)度不夠型盒未壓緊（3）基托顏色不一 樹脂調(diào)拌不均勻樹脂充填時(shí)過(guò)硬牙托水揮發(fā)過(guò)快過(guò)多手和水盆不干凈充填時(shí)反復(fù)多次填塞（4）人工牙與基托樹脂連接不牢 上下型盒分別充填樹脂.時(shí)間過(guò)長(zhǎng)試壓后玻璃紙未去凈人工牙上

28、涂有分離劑關(guān)盒前人工牙與基托間未加牙托水17.簡(jiǎn)述基托磨光時(shí)需要注意的問(wèn)題（1）磨光需用各種磨具.磨具與義齒直接接觸.其質(zhì)量直接影響到研磨的效果.（2）磨具的工作轉(zhuǎn)速對(duì)研磨有一定影響.工作轉(zhuǎn)速快.研磨效率高.（3）操作時(shí)兩手要拿穩(wěn)義齒.用力得當(dāng).防止義齒在高速拋光下脫手飛出造成損壞。（4）操作時(shí)要遵循由粗磨逐漸到細(xì)磨的原則.細(xì)磨時(shí)要改變方向.使前后磨痕交叉成直角.使研磨均勻。（5）在細(xì)磨時(shí).毛刷、布輪等工具一定要潤(rùn)濕.并不斷加磨光糊劑.不能干磨。否則易因摩擦產(chǎn)熱.造成基托表面焦化.破壞表面形態(tài)。18.簡(jiǎn)述全口義齒修復(fù)后常見的問(wèn)題的原因及處理疼痛：基托邊緣過(guò)長(zhǎng) 磨短、磨圓鈍基托的邊緣 牙槽嵴有明

29、顯骨突、硬區(qū)、組織倒凹 緩沖組織面的壓力和消除組織倒凹 人工牙量相對(duì)過(guò)大、或義齒不穩(wěn)定 采取選小號(hào)義牙、擴(kuò)大外展隙、減徑或減數(shù)；查找早接觸點(diǎn)的確切部位選磨。 垂直距離過(guò)高、基托變形 可采用稍稀石膏.輕者可通過(guò)調(diào)磨降低高度.重者應(yīng)重作義齒。固位不理想：義齒固位尚好.說(shuō)話或打哈欠時(shí)義齒易脫位：主要原因是基托邊緣過(guò)長(zhǎng)、系帶區(qū)基托未形成相應(yīng)的切跡.或基托邊緣過(guò)短、過(guò)銳.牙齒排列過(guò)分偏向頰或舌側(cè)。 可以采用磨短過(guò)長(zhǎng)基托.緩沖系帶區(qū).重襯結(jié)合加長(zhǎng)基托邊緣的方法解決。偏離了中性區(qū)的牙齒排列應(yīng)考慮重作牙齒。 吃飯時(shí)義齒易脫位：頜位關(guān)系記錄有問(wèn)題.義齒不平衡所致 選磨或重做咬唇頰、咬舌：牙列缺失后長(zhǎng)時(shí)間未及時(shí)修

30、復(fù)造成頰脂肪墊處的黏膜內(nèi)陷或舌體變大；人工牙排列的覆蓋、舌側(cè)的反覆蓋偏小或?qū)θ泻?；初戴義齒時(shí)使用不當(dāng)；上下頜基托遠(yuǎn)中端在咬合時(shí)間隙過(guò)小 在上頜義齒基托頰側(cè)放燙軟的印模膏.并以雕刻刀加熱固定在基托上以外撐內(nèi)陷的頰側(cè)黏膜.磨改上下牙尖的斜面.上下后牙的頰舌側(cè)軸面。咀嚼功能不良：上下頜義齒接觸點(diǎn)少.垂直距離低 在口內(nèi)直接用自凝造牙粉加高上頜或下頜義齒、或重作義齒。通過(guò)調(diào)禾增加接觸點(diǎn)進(jìn)而增加接觸面積。發(fā)音障礙：口腔部狹窄；舌的活動(dòng)范圍減小 堅(jiān)持訓(xùn)練；可適當(dāng)磨改上下義齒牙列舌側(cè)軸面以增加氣道半徑。惡心：咽部敏感；后緣過(guò)長(zhǎng)或不密合 可磨短上頜義齒后緣基托；重襯。心理因素造成的不適：患者對(duì)全口義齒的期望值過(guò)

31、高 耐心解釋全口義齒選擇題A1型題1、上頜后部牙槽嵴骨吸收的方向?yàn)锳向上、向后 B向上、向外 C向上、向內(nèi)D向后、向外 E向上、向前2、下頜后部牙槽嵴骨吸收的方向?yàn)锳向下、向后 B向下、向外C向下、向內(nèi) D向后、向外E向下、向前3、全口義齒修復(fù)應(yīng)在拔牙多少時(shí)間后進(jìn)行A一周 B三周 C一個(gè)月D三個(gè)月 E六個(gè)月4、無(wú)牙頜頜患者下頜下于正中關(guān)系位時(shí)上下頜牙槽嵴頂間的距離稱為A開口度 B息止合間隙 C垂直距離D頜間距離 E覆合5、全口義齒的固位和支持有利的粘膜情況是A厚、松軟 B厚、韌 C薄D薄、干燥 E B或D6、口腔前庭內(nèi)相當(dāng)于原中切牙近中交界線的延長(zhǎng)線上的是A舌系帶 B唇系帶 C頰系帶D口輪匝肌

32、的起始部 E上頜義齒切跡7、腭小凹位于A切牙乳突前方 B腭皺與切牙乳突之間C腭皺后方 D上頜牙槽嵴后緣E軟硬腭交界處.腭中縫兩側(cè)8、上頜義齒后堤區(qū)位于A磨牙后墊 B腭小凹前方 C前顫動(dòng)線之前D前后顫動(dòng)線之間 E后顫動(dòng)線之后9、后堤區(qū)的作用是A基托后緣定位 B邊緣封閉作用C支持作用 D排牙標(biāo)志 E緩沖作用10、切牙乳突的作用是A排列上頜中切牙的參考標(biāo)志B確定合平面的標(biāo)志C確定基托伸展范圍的標(biāo)志D確定牙槽嵴頂?shù)臉?biāo)志 E確定后堤區(qū)的標(biāo)志11、上頜中切牙的唇面通常位于切牙乳突中點(diǎn)前A1-4mm B5-7mm C8-10mm D11-15mm E16-20mm12、上頜義齒基托不需要緩沖的部位是A切牙乳

33、突 B顴突區(qū) C腭中縫D顫動(dòng)線 E上頜隆突13、切牙乳突是排列上牙切牙的解剖標(biāo)志.因?yàn)锳切牙乳突位于上頜腭中縫的前端B切牙乳突與上頜中切牙之間有較穩(wěn)定的關(guān)系C切牙乳突下方為切牙孔.排牙時(shí)要防止此處壓迫D切牙乳突的位置變化較小E兩個(gè)上中切牙的交界線應(yīng)以切牙乳突為準(zhǔn)14、下頜義齒的基托需要緩沖的部位是A磨牙后墊 B下頜舌骨嵴 C頰系帶D頰側(cè)翼緣區(qū) E舌側(cè)翼緣區(qū)15、不利于義齒固位的解剖形態(tài)是A牙槽嵴豐滿 B牙弓寬大 C粘膜厚韌D腭蓋高聳 E系帶附著近牙槽嵴頂16、不屬于邊緣封閉區(qū)的是A上頜后堤區(qū) B下頜磨牙后墊區(qū)C牙槽嵴粘膜與唇頰粘膜的反折處D能承擔(dān)部分咀嚼壓力的區(qū)域E能阻止空氣進(jìn)入基托與所覆蓋組

34、織之間的區(qū)域17、屬于緩沖的部位是A切牙乳突區(qū) B磨牙后墊區(qū) C后堤區(qū)D牙槽嵴頂區(qū) E頰側(cè)翼緣區(qū)18、根據(jù)無(wú)牙頜各部分組織結(jié)構(gòu)特點(diǎn)及全口義齒的關(guān)系.無(wú)牙頜被分為以下四區(qū).除了A主承托區(qū) B副承托區(qū) C邊緣封閉區(qū)D后堤區(qū) E緩沖區(qū)19、全口義齒與唇頰肌作用關(guān)系最密切的表面是A禾平面 B磨光面 C咬合面 D組織面E吸附面20、全口義齒的固位是指A咀嚼時(shí)義齒不脫落 B大張口時(shí)義齒不脫落C說(shuō)話時(shí)義齒不脫落 D抬頭時(shí)義齒不脫落E從口內(nèi)取下義齒時(shí)有阻力21、全口義齒的固位力不包括A吸附力 B附著力 C粘著力 D磨擦力E大氣壓力22、與大氣壓力的產(chǎn)生關(guān)系最密切的是A基托面積 B牙槽嵴高度 C邊緣封閉D后堤區(qū)

35、寬度 E粘膜厚度23、與全口義齒固位無(wú)關(guān)的是A基托面積 B牙槽嵴形態(tài) C粘膜性質(zhì)D唾液性質(zhì) E禾平衡24、與全口義齒穩(wěn)定無(wú)關(guān)的是A咬合關(guān)系 B人工牙排列位置C禾平衡 D基托密合 E磨光面形態(tài)25、適度擴(kuò)大基托面積.可以達(dá)到以下目的.除了A減小單位面積受力 B增加義齒強(qiáng)度C增大義齒吸附力 D增大大氣壓力的作用E利于組織保健26、選擇上頜無(wú)牙頜印模托盤的標(biāo)準(zhǔn)包括A中部蓋過(guò)腭小凹后2mmB短于唇頰粘膜皺襞2mmC長(zhǎng)于唇頰粘膜皺襞2mmDA+B EA+C27、無(wú)牙頜的印模方法中錯(cuò)誤的是A用印模膏取一次性印模B用印模膏取初印模 C用印模膏做個(gè)別托盤D用舊義齒做個(gè)別托盤E用藻酸鹽印模材取終印模28、灌注無(wú)

36、牙頜石膏模型時(shí).基厚度不應(yīng)少于A 2mm B 4mm C 6mm D 8mm E 10mm29、在石膏模型上制作后堤區(qū)時(shí).深度為A<05mm B 1-1.5mm C 約2mm D 4-5mmE 6-10mm30、在石膏模型上制作后堤區(qū)時(shí).最寬處的寬度為A 1mm B 3mm C 5mm D 8mm E 10mm31、符合下頜托盤選擇要求的是A邊緣應(yīng)與唇頰溝等高B舌側(cè)與口底等高C寬度與下頜牙槽嵴等寬D后緣蓋過(guò)磨牙后墊 E以上均是32、不符合無(wú)牙頜印模要求的是A印模細(xì)致、清晰 B邊緣盡量伸展C邊緣要圓鈍.有一定厚度 D組織受壓均勻E采取功能性印模33、制作個(gè)別托盤適用于以下情況.除了A所有取

37、無(wú)牙頜印模的情況B無(wú)合適成品托盤時(shí)C牙槽峭低平.兩側(cè)吸收不一致D牙槽嵴過(guò)于豐滿 E取研究模型時(shí)34、關(guān)于取印模時(shí)邊緣整塑.錯(cuò)誤的是A為了使義齒有良好的邊緣封閉B可用印模膏做 C制作個(gè)別托盤后不需要D可由醫(yī)師牽拉患者面頰部 E可以分區(qū)做35、下頜基托一般應(yīng)蓋過(guò)磨牙后墊的A全部 B 前2/3 C 前1/3-1/2 D 前1/4 E 前緣36、確定確定頜位關(guān)系是指A恢復(fù)面部適宜的垂直距離B確定正確的頜間距離C恢復(fù)面部生理生理形態(tài)D恢復(fù)髁突的生理后位和面部下1/3高度E糾正下頜習(xí)慣性前伸37、垂直距離通常指A眼裂至口角的距離 B鼻底至口角的距離C口角至頦底的距離 D鼻底至頦底的距離E上下牙槽嵴項(xiàng)間的距

38、離38、垂直距離等于息止頜位垂直距離減去A 1mm B 2mm C 5-6mm D 7-8mm E 9-10mm39、恢復(fù)適當(dāng)?shù)拇怪本嚯x的作用不包括A避免下頜前伸 B面部比例和諧C肌張力正常 D發(fā)揮最大咀嚼效能E有益于顳下頜關(guān)節(jié)健康40、確定正中關(guān)系綜合癥不正確的方法是A吞咽法 B后牙咬合法 C自主咬合法D肌監(jiān)控儀法 E卷舌法41、臨床上用于記錄頜位關(guān)系的是A基托 B暫基托 C禾堤 D禾托 E蠟基托42、禾堤平面與上唇下緣的關(guān)系是A唇上2mm B與唇平齊 C唇下2mmD唇下3mm E唇下4mm43、前牙區(qū)禾堤平面應(yīng)平行于A上唇 B瞳孔連線 C鼻底D鼻翼耳屏線 E眶耳平面44、后牙區(qū)禾堤平面應(yīng)平

39、行于A上唇 B瞳孔連線 C鼻底 D鼻翼耳屏線E眶耳平面45、在禾堤上畫出的口角線為A上頜側(cè)切牙遠(yuǎn)中標(biāo)志線B上頜尖牙遠(yuǎn)中標(biāo)志線C下頜尖牙遠(yuǎn)中標(biāo)志線D上頜第一前磨牙遠(yuǎn)中標(biāo)志線E下頜第一前磨牙遠(yuǎn)中標(biāo)志線46、微笑時(shí)的唇高線位于上頜中切牙的A切緣 B切1/3 C切1/2 D切2/3 E齦緣47、微笑時(shí)的唇低線位于下頜中切牙的A切緣 B切1/3 C切1/2 D切2/3 E齦緣48、塑料牙與瓷牙比較.正確的說(shuō)法是A塑料牙質(zhì)輕.咀嚼效能高B瓷牙耐磨.但咀嚼效能低C瓷牙的塑料基托組合好.但易崩裂D塑料牙調(diào)禾方便 E塑料牙不易變色49、解剖式人工牙的牙尖斜度為A 45° B 40°C 30&

40、#176;D 20°E 0°56、非解剖式人工牙的牙尖斜度為A 45° B 40° C 30° D 20° E 0°50、全口義齒人工后牙的近遠(yuǎn)中總長(zhǎng)度應(yīng)等于該側(cè)A尖牙近中面至磨牙后墊前緣的距離B尖牙遠(yuǎn)中面至磨牙后墊前緣的距離C尖牙遠(yuǎn)中面至磨牙后墊1/3處的距離D尖牙遠(yuǎn)中面至磨牙后墊1/2的距離E尖牙遠(yuǎn)中面至磨牙后墊后緣的距離51、全口義齒人工牙的排列要兼顧哪三個(gè)方面A美觀.功能和組織保健B美觀.堅(jiān)固和舒適C美觀.衛(wèi)生和舒適 D美觀.堅(jiān)固E美觀.切割便利和舒適52、全口義齒的前牙要排列成淺覆合、淺覆蓋的目的是為了A美觀 B排

41、牙方便C易于取得前伸合平衡D發(fā)音清晰 E與天然牙一致53、人工牙排列要有平衡禾的主要原因是A增大接觸面積 B提高咀嚼效率高C有利于義齒穩(wěn)定 D使義齒美觀E糾正偏側(cè)咀嚼習(xí)慣54、以下排牙措施中正確的是A上頜后牙頰尖位于牙槽嵴頂上B上頜后牙頰尖位于牙槽嵴舌側(cè)C上頜后牙舌尖位于牙槽嵴舌側(cè)D上頜后牙舌尖位于牙槽嵴頂上E上頜后牙舌尖位于牙槽內(nèi)頰側(cè)55、上頜前牙頸部的唇舌向傾斜方向?yàn)锳中切牙向唇側(cè)、側(cè)切牙、尖牙向腭側(cè)B中切牙、側(cè)切牙向唇側(cè).尖牙向腭側(cè)C中切牙、側(cè)切牙向腭側(cè).尖牙向唇側(cè)D中切牙向腭側(cè).側(cè)切牙、尖牙向唇側(cè)E中切牙、側(cè)切牙和尖牙均向腭側(cè)56、上頜前牙的遠(yuǎn)中向傾斜角度為A中切牙=側(cè)切牙=尖牙B中切

42、牙>側(cè)切牙>尖牙C中切牙>尖牙>側(cè)切牙D側(cè)切牙>尖牙>中切牙E尖牙>側(cè)切牙>中切牙57、上頜第一磨牙舌尖與禾平面的距離是A近中舌尖0mm.遠(yuǎn)中舌尖05mmB近中舌尖0mm.遠(yuǎn)中舌尖1mmC近中舌尖0mm.遠(yuǎn)中舌尖15mmD近中舌尖1mm.遠(yuǎn)中舌尖05mmE近中舌尖1mm.遠(yuǎn)中舌尖2mm58、選擇人工前牙不必考慮的因素是A口角線、笑線的位置B患者面型及合弓型 C患者膚色和年齡D患者健康狀況 E患者的性別59、解剖式后牙的排列方法中錯(cuò)誤的是A44頰尖與禾平面接觸B55牙長(zhǎng)軸與禾平面垂直C66近中舌尖接觸禾平面D77頸部向腭側(cè)和遠(yuǎn)中傾斜E77近中鄰面與

43、66遠(yuǎn)中鄰面接觸60、全口義齒試戴的時(shí)間是在A義齒完成后 B確定完頜位關(guān)系后C排好人工牙后 D排列完前牙后E排列完前后牙后61、試戴時(shí).可采用如下方法判斷垂直距離是否正確.除了A戴入義齒后.是否不敢張口B面部比例是否自然協(xié)調(diào)C鼻唇溝.頦唇溝深度是否舒適D說(shuō)話時(shí)上下牙之間是否有碰擊聲E面容是否蒼老62、全口義齒初戴時(shí).如果出現(xiàn)前牙開合.其原因不可能是A禾關(guān)系錯(cuò)誤 B人工牙變位C上下頜基托遠(yuǎn)端有早接觸D后牙區(qū)咬合高 E患者不會(huì)用義齒咬合63、義齒初戴時(shí)出現(xiàn)哪一情況需要返工重作？A就位困難 B下頜偏向一側(cè) C發(fā)音不清D粘膜壓痛 E基托邊緣過(guò)長(zhǎng)64、義齒初戴時(shí)出現(xiàn)疼痛的原因不包括A組織面有塑料小瘤 B

44、垂直距離過(guò)低C骨突處緩沖不夠 D基托邊緣過(guò)長(zhǎng)E咬合不平衡65、義齒初戴時(shí).給患者的醫(yī)囑中錯(cuò)誤的是A會(huì)有異物感、發(fā)音不清等.要堅(jiān)持戴用B先進(jìn)食小塊軟食 C避免咬硬物D可能有疼痛.要堅(jiān)持戴用E盡量用兩則后牙同時(shí)咀嚼66、義齒正確的使用方法是A白天和晚上睡覺時(shí)都要戴義齒B初戴義齒后盡量白天和晚上都戴C晚上將義齒取下.浸泡在溫開水中D晚上將義齒取下.浸泡在冷水中E晚上盡量戴用或浸泡在冷水中67、選擇后牙牙尖形態(tài)主要考慮：A對(duì)頜牙的情況B舊義齒的牙尖高度C病人的意愿D支持組織的條件E價(jià)格因素68、全口義齒適應(yīng)的患者是( )A牙體缺損 B牙體缺失 C牙列缺損 D牙列缺失 E以上都不對(duì)69、全口義齒基托與唾

45、液或黏膜與唾液之間產(chǎn)生的吸力稱為：()。A大氣壓力 B粘著力 C附著力 D摩擦力 E內(nèi)阻力70、下列哪項(xiàng)不作為排牙的必需條件。A人工牙排在唇頰肌向內(nèi)的力和舌肌向外的力大體相等的部位B人工牙盡可能排在牙槽嵴頂上 C按一定規(guī)律排列.形成合適的補(bǔ)償曲線.橫禾曲線 D有禾平衡E根據(jù)患者的要求排牙71、以下對(duì)無(wú)牙頜印模范圍的要求哪項(xiàng)不正確：( )A包括整個(gè)牙槽嵴 B邊緣伸展到唇、頰、舌溝處 C上頜后緣伸展到腭小凹處D上頜兩側(cè)后緣伸展到翼上頜切跡頰側(cè)蓋過(guò)上頜結(jié)節(jié) E下頜后緣蓋過(guò)磨牙后墊72、全口義齒排牙的原則是：（ ）A牙合 平面平分頜間距離 B牙弓與頜弓一致 C前牙排牙淺覆牙合 D后牙排出牙合 曲線 E

46、以上都是73、塑料義齒磨光時(shí).正確的操作是 。A打磨從粗到細(xì)、先平后光。 B間斷打磨以免產(chǎn)熱過(guò)多C不要破壞基托外形 D隨時(shí)變換打磨部位 E以上均是74、以下不是用于膠聯(lián)聚合設(shè)備的是：（ ）A壓榨器 B浸蠟器 C沖蠟器 D聚合器 E注塑機(jī) 75、不是合理的排牙的是()。A人工牙排在唇頰肌向內(nèi)的力和舌肌向外的力大體相等的部位B人工牙盡可能排在牙槽嵴頂上 C按一定規(guī)律排列,形成合適的補(bǔ)償曲線,橫禾曲線 D有禾平衡E完全根據(jù)患者的要求排牙76、平衡禾是指()。A正中禾時(shí)有廣泛均勻的接觸 B前伸禾時(shí),前后牙均有接觸 C側(cè)方禾時(shí),工作側(cè)和非工作側(cè)均有接觸 DB與C EA與B與C77、全口義齒試戴時(shí),發(fā)現(xiàn)(

47、 )肯定需要重作。A惡心 B中線不對(duì) C垂直距離過(guò)高D發(fā)音不清 E牙色不協(xié)調(diào)78、全口義齒的緩沖區(qū)不包括()。A切牙乳突區(qū) B下頜舌骨嵴區(qū) C翼上頜切跡 D上頜硬區(qū) E顴突區(qū)79、全口義齒排牙時(shí)上頜第一磨牙近中舌尖應(yīng)()。A接觸禾平面 B離開禾平面0.5mm C離開禾平面1.0mm D離開禾平面1.5mm E離開禾平面0.1mm80、上頜全口義齒牙槽嵴與硬區(qū)之間的區(qū)域是()。A主承托區(qū) B副承托區(qū) C緩沖區(qū)D邊緣伸展區(qū) E邊緣封閉區(qū)81、采取印模時(shí)作主動(dòng)肌功能修整的方法是在印模未凝固之前()。A輕輕拉上唇向上內(nèi)數(shù)次B輕輕拉下唇向上內(nèi)數(shù)次C輕輕拉頰部向前下內(nèi)、下頰部向前上內(nèi)數(shù)次 D囑患者相繼發(fā)出

48、“喔”、“嘿”等音 E以上均不對(duì)82、加熱固化型塑料的填塞應(yīng)在塑料調(diào)和后的：（ ）A濕沙期 B稀糊期 C粘絲期 D面團(tuán)期 E橡膠期83、下頜基托一般應(yīng)蓋過(guò)磨牙后墊的()。A全部 B2/3 C1/3l/2D1/4 E止于磨牙后墊前緣84、以下哪種原因和修復(fù)體產(chǎn)生氣泡無(wú)關(guān)（ ）A單體比例不當(dāng) B塑料填塞不足 C熱處理時(shí)升溫過(guò)快 D在密閉容器內(nèi)調(diào)拌 E填塞塑料后加壓不足85、全口義齒修復(fù)中作用于基托與黏膜之間的力,應(yīng)稱之為()。A粘固力 B吸引力 C粘著力D黏附力 E吸附力86、調(diào)拌石膏的水粉比例應(yīng)按:( ) A30毫升：100克 B40毫升：100克 C4550毫升：100克 D5565毫升：10

49、0克 E70毫升：100克87、與全口義齒后緣無(wú)關(guān)的解剖標(biāo)志是()。A腭小凹 B顫動(dòng)線 C頰側(cè)翼緣區(qū) D翼上頜切跡 E磨牙后墊88、頜面部主要解剖與修復(fù)無(wú)關(guān)的是：（ ）A眶耳平面 B切牙乳頭 C耳屏鼻翼線 D耳垂 E頦點(diǎn)89、以下措施肯定可以提高全口義齒固位和穩(wěn)定,除了()。A盡量擴(kuò)大基托面積 B準(zhǔn)確的印模 C有利的磨光面形態(tài)D合理的排牙 E指導(dǎo)患者正確使用義齒90、全口義齒就位困難的原因有：()。A倒凹過(guò)大 B義齒變形 C義齒戴錯(cuò) DA與B EA與B與C91、確定頜位關(guān)系是指：（  ）。A恢復(fù)面部適宜的垂直距離 B確定正確的頜間距離 C恢復(fù)面部生理形態(tài) D恢復(fù)正中頜位的垂直關(guān)系和水平關(guān)系E糾正下頜習(xí)慣性前伸92、雙側(cè)上頜結(jié)節(jié)明顯突向頰側(cè),倒凹大者,全口義齒修復(fù)時(shí)要()。A患者先自行按摩,使突出骨質(zhì)吸收,去除倒凹 B減小此處基托伸展范圍C基托組織面緩沖