無(wú)牙頜解剖標(biāo)志_第1頁(yè)
無(wú)牙頜解剖標(biāo)志_第2頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

1、無(wú)牙頜解剖標(biāo)志 上頜 1.上唇系帶(上唇系帶(maxillary labial frenum)上頜正中唇側(cè)粘膜從牙齦交界處上頜正中唇側(cè)粘膜從牙齦交界處到上唇粘膜之間的粘膜皺襞,是到上唇粘膜之間的粘膜皺襞,是口輪匝肌在上頜骨的附著處??谳喸鸭≡谏项M骨的附著處。 取印模時(shí)患者作唇的自主運(yùn)取印模時(shí)患者作唇的自主運(yùn)動(dòng),并做肌功能修整,基托動(dòng),并做肌功能修整,基托在此區(qū)應(yīng)形成相應(yīng)的切跡。在此區(qū)應(yīng)形成相應(yīng)的切跡。2.上頰系帶(上頰系帶(maxillary buccal frenum) 位于上頜第一前磨牙附近,呈扇形,位于上頜第一前磨牙附近,呈扇形,能固定口角,協(xié)助頰肌將食物移向后能固定口角,協(xié)助頰肌將食物

2、移向后方。方。基托在此區(qū)應(yīng)形成相應(yīng)的切跡。基托在此區(qū)應(yīng)形成相應(yīng)的切跡。3.顴突(顴突(zygomatic process)是顴骨下緣的延長(zhǎng)是顴骨下緣的延長(zhǎng),行向上行向上頜第一磨牙的骨性隆起。頜第一磨牙的骨性隆起。它把加在磨牙上的咀嚼壓力它把加在磨牙上的咀嚼壓力分散到眶外側(cè)緣和顴弓。分散到眶外側(cè)緣和顴弓。應(yīng)在此處延長(zhǎng)基托來(lái)分擔(dān)咬合壓力,擴(kuò)大義齒的支持范圍。應(yīng)在此處延長(zhǎng)基托來(lái)分擔(dān)咬合壓力,擴(kuò)大義齒的支持范圍。 排列人工牙時(shí),應(yīng)把第一磨牙排列在該處排列人工牙時(shí),應(yīng)把第一磨牙排列在該處4.上頜結(jié)節(jié)(上頜結(jié)節(jié)(maxillary tuberosity )是上頜牙槽嵴兩側(cè)遠(yuǎn)端的是上頜牙槽嵴兩側(cè)遠(yuǎn)端的圓形骨

3、突。圓形骨突。在上頜結(jié)節(jié)外側(cè)、頰肌上頜起始后緣的后方在上頜結(jié)節(jié)外側(cè)、頰肌上頜起始后緣的后方?jīng)]有肌附著,基托邊緣能夠向上方延長(zhǎng),發(fā)沒(méi)有肌附著,基托邊緣能夠向上方延長(zhǎng),發(fā)揮封閉作用產(chǎn)生固位力。揮封閉作用產(chǎn)生固位力。制作義齒時(shí),基托必須完全覆蓋此區(qū)。制作義齒時(shí),基托必須完全覆蓋此區(qū)。5.翼上頜切跡(翼上頜切跡(pterygomaxillary notch)上頜結(jié)節(jié)和蝶骨翼突愈合而成,表上頜結(jié)節(jié)和蝶骨翼突愈合而成,表面有粘膜覆蓋,形成軟組織凹陷,面有粘膜覆蓋,形成軟組織凹陷,是上頜全口義齒兩側(cè)后緣的界限。是上頜全口義齒兩側(cè)后緣的界限。 基托邊緣應(yīng)向上延長(zhǎng),發(fā)揮封閉作用產(chǎn)基托邊緣應(yīng)向上延長(zhǎng),發(fā)揮封閉作用

4、產(chǎn)生固位力。生固位力。6.切牙乳頭(切牙乳頭(incisive papilla)位于中切牙腭側(cè)的正中線上的位于中切牙腭側(cè)的正中線上的軟組織突起,是上頜重要的、軟組織突起,是上頜重要的、穩(wěn)定的標(biāo)志。穩(wěn)定的標(biāo)志。切牙乳突是上頜全口義齒排牙的重要標(biāo)志切牙乳突是上頜全口義齒排牙的重要標(biāo)志下方為切牙孔,有鼻腭神經(jīng)和血管通過(guò),故基托組織面須適當(dāng)緩沖。下方為切牙孔,有鼻腭神經(jīng)和血管通過(guò),故基托組織面須適當(dāng)緩沖。7.腭皺(腭皺(palatal rugae)上頜正中線前端硬腭上,左上頜正中線前端硬腭上,左右側(cè)各有右側(cè)各有34條前后橫行排條前后橫行排列的波浪形凸起粘膜。列的波浪形凸起粘膜。 有輔有輔助發(fā)音的作用。

5、助發(fā)音的作用。 制作義齒時(shí)在基托磨光制作義齒時(shí)在基托磨光面以蠟仿造腭皺形態(tài)面以蠟仿造腭皺形態(tài)8.腭小凹(腭小凹(palatal fovea)口內(nèi)粘液腺導(dǎo)管的開(kāi)口,位口內(nèi)粘液腺導(dǎo)管的開(kāi)口,位于上腭中縫后部的兩側(cè)。于上腭中縫后部的兩側(cè)。上頜全口義齒的后緣應(yīng)在腭小凹后上頜全口義齒的后緣應(yīng)在腭小凹后2mm處。處。 顫動(dòng)線位于腭小凹的稍前部顫動(dòng)線位于腭小凹的稍前部9.上頜腺體上頜腺體上頜后方上頜后方23的硬腭和軟腭粘膜下一對(duì)三角形腺體。的硬腭和軟腭粘膜下一對(duì)三角形腺體。該腺體沒(méi)有移動(dòng)性,具有彈性,該腺體沒(méi)有移動(dòng)性,具有彈性,所以取印膜時(shí)應(yīng)充分加壓;在所以取印膜時(shí)應(yīng)充分加壓;在正中縫和牙齦處,粘膜下缺少正

6、中縫和牙齦處,粘膜下缺少腺體組織,彈性小,基托在此腺體組織,彈性小,基托在此處應(yīng)緩沖。處應(yīng)緩沖。矢狀面組織切片圖矢狀面組織切片圖10.顫動(dòng)線(顫動(dòng)線(vibrating line)位于軟腭與硬腭的交界部位于軟腭與硬腭的交界部位。發(fā)位。發(fā)“阿阿”音時(shí)軟腭升音時(shí)軟腭升高,發(fā)音結(jié)束后又復(fù)歸原高,發(fā)音結(jié)束后又復(fù)歸原位,故又稱位,故又稱“阿阿”線。線。 堵住鼻孔用鼻子出氣會(huì)使軟腭向下堵住鼻孔用鼻子出氣會(huì)使軟腭向下降,能明確觀察到顫動(dòng)線。降,能明確觀察到顫動(dòng)線。 該線通常作為決定義齒基托后緣的標(biāo)志,分前、后顫動(dòng)該線通常作為決定義齒基托后緣的標(biāo)志,分前、后顫動(dòng)線,兩者之間為后堤區(qū),寬約線,兩者之間為后堤區(qū),

7、寬約212mm 。 下頜 1.下唇系帶(下唇系帶(mandibular labial frenum)下頜正中唇側(cè)粘膜從牙齦交界下頜正中唇側(cè)粘膜從牙齦交界處到下唇粘膜之間的粘膜皺襞,處到下唇粘膜之間的粘膜皺襞,是口輪匝肌在下頜骨的附著處。是口輪匝肌在下頜骨的附著處。 它隨唇肌的運(yùn)動(dòng)而活動(dòng),活動(dòng)度小于上頜,基它隨唇肌的運(yùn)動(dòng)而活動(dòng),活動(dòng)度小于上頜,基托在此區(qū)應(yīng)形成相應(yīng)的切跡。托在此區(qū)應(yīng)形成相應(yīng)的切跡。2.下頰系帶(下頰系帶(mandibular buccal frenum)刃狀結(jié)締組織,起于下頜前磨牙刃狀結(jié)締組織,起于下頜前磨牙牙齦交界線下,呈扇形,其活動(dòng)牙齦交界線下,呈扇形,其活動(dòng)度大,抗力強(qiáng)。度

8、大,抗力強(qiáng)。基托在此區(qū)應(yīng)形成相應(yīng)的切跡。基托在此區(qū)應(yīng)形成相應(yīng)的切跡。3.頰側(cè)翼緣區(qū)(頰側(cè)翼緣區(qū)(buccal flange area)又稱頰棚區(qū),位于下頜后弓又稱頰棚區(qū),位于下頜后弓區(qū),在下頜頰系帶至咬肌下區(qū),在下頜頰系帶至咬肌下段前緣之間。段前緣之間。牙槽嵴吸收嚴(yán)重時(shí),此區(qū)較牙槽嵴吸收嚴(yán)重時(shí),此區(qū)較為平坦,骨小梁排列與為平坦,骨小梁排列與牙合牙合力力方向幾乎呈直角。方向幾乎呈直角。 基托可較大范圍伸展,穩(wěn)定義齒基托可較大范圍伸展,穩(wěn)定義齒4.舌系帶(舌系帶(lingual frenum) 連接口底與舌腹的粘膜皺襞,連接口底與舌腹的粘膜皺襞,位于口底中線部,活動(dòng)度較位于口底中線部,活動(dòng)度較大。

9、大。 取印模時(shí)應(yīng)囑患者將舌向后取印模時(shí)應(yīng)囑患者將舌向后上方,取功能狀態(tài)印模上方,取功能狀態(tài)印?;写颂幾髑雄E利于固位?;写颂幾髑雄E利于固位。 5.下頜隆突(下頜隆突(torus mandibularis) 6.磨牙后墊(磨牙后墊(retromolar pad) 位于下頜最后磨牙牙槽嵴遠(yuǎn)端的粘膜位于下頜最后磨牙牙槽嵴遠(yuǎn)端的粘膜軟墊,覆蓋在磨牙后三角上,由疏松軟墊,覆蓋在磨牙后三角上,由疏松的結(jié)締組織構(gòu)成,含黏液腺。的結(jié)締組織構(gòu)成,含黏液腺。下頜全口義齒后緣應(yīng)蓋過(guò)磨牙下頜全口義齒后緣應(yīng)蓋過(guò)磨牙后墊后墊12或全部起封閉作用。或全部起封閉作用。 磨牙后墊的形態(tài)和位置比較穩(wěn)定,作為排人工牙時(shí)的解剖標(biāo)志

10、:磨牙后墊的形態(tài)和位置比較穩(wěn)定,作為排人工牙時(shí)的解剖標(biāo)志:垂直向:垂直向:下頜第一磨牙的頜平面與磨牙后墊的下頜第一磨牙的頜平面與磨牙后墊的12處等高;處等高;前后向:前后向:下頜第二磨牙應(yīng)位于磨牙后墊前緣;下頜第二磨牙應(yīng)位于磨牙后墊前緣;頰舌向:頰舌向:磨牙后墊頰面、舌面向前與下頜尖牙磨牙后墊頰面、舌面向前與下頜尖牙 的近中面形成一個(gè)三角形。的近中面形成一個(gè)三角形。7.舌下腺(舌下腺(sublingual glands) 位于舌系帶兩側(cè),在下頜骨舌位于舌系帶兩側(cè),在下頜骨舌面的舌下腺凹內(nèi)??呻S下頜舌面的舌下腺凹內(nèi)??呻S下頜舌骨肌的運(yùn)動(dòng)上升或下降。骨肌的運(yùn)動(dòng)上升或下降。 與此區(qū)相應(yīng)的義齒舌側(cè)基托

11、邊緣不應(yīng)過(guò)長(zhǎng),否則舌運(yùn)與此區(qū)相應(yīng)的義齒舌側(cè)基托邊緣不應(yīng)過(guò)長(zhǎng),否則舌運(yùn)動(dòng)時(shí)易將下頜全口義齒推起動(dòng)時(shí)易將下頜全口義齒推起8.下頜舌骨嵴(下頜舌骨嵴(mylohyoid ridges)位于下頜骨后部的舌面,從第三位于下頜骨后部的舌面,從第三磨牙斜向前磨牙區(qū),由寬變窄。磨牙斜向前磨牙區(qū),由寬變窄。是下頜舌骨肌在下頜骨的附著處,肌纖維向前向下止是下頜舌骨肌在下頜骨的附著處,肌纖維向前向下止于舌骨,起降下頜和拉舌骨向前的作用。即使最大程于舌骨,起降下頜和拉舌骨向前的作用。即使最大程度收縮時(shí),也允許義齒邊緣延長(zhǎng)超過(guò)下頜舌骨嵴度收縮時(shí),也允許義齒邊緣延長(zhǎng)超過(guò)下頜舌骨嵴 表面覆蓋粘膜較薄,下方有不同表面覆蓋粘膜

12、較薄,下方有不同程度的倒凹,基托組織面應(yīng)緩沖。程度的倒凹,基托組織面應(yīng)緩沖。9.舌側(cè)翼緣區(qū)(舌側(cè)翼緣區(qū)(lingual flange area) 是與下頜全口義齒舌側(cè)基托接觸是與下頜全口義齒舌側(cè)基托接觸部位的解剖標(biāo)志,從前向后包括部位的解剖標(biāo)志,從前向后包括舌系帶、舌下腺、下頜舌骨肌、舌系帶、舌下腺、下頜舌骨肌、舌腭肌、翼內(nèi)肌、咽上縮肌。舌腭肌、翼內(nèi)肌、咽上縮肌。 舌側(cè)翼緣區(qū)后部是下頜全口義齒固位的重要部舌側(cè)翼緣區(qū)后部是下頜全口義齒固位的重要部位,此區(qū)基托應(yīng)有足夠的伸展。位,此區(qū)基托應(yīng)有足夠的伸展。無(wú)牙頜的分區(qū)1.主承托區(qū)主承托區(qū)2.副承托區(qū)副承托區(qū)3.邊緣封閉區(qū)邊緣封閉區(qū)4.緩沖區(qū)緩沖區(qū)5.

13、后堤區(qū)后堤區(qū)1. 主承托區(qū)(主承托區(qū)(primary stress-bearing area)垂直于頜力受力)垂直于頜力受力方向的區(qū)域。包括牙槽嵴頂、腭部穹隆區(qū)、頰棚區(qū)等,該區(qū)方向的區(qū)域。包括牙槽嵴頂、腭部穹隆區(qū)、頰棚區(qū)等,該區(qū)不易出現(xiàn)骨吸收,能承擔(dān)咀嚼壓力。不易出現(xiàn)骨吸收,能承擔(dān)咀嚼壓力。2. 副承托區(qū)(副承托區(qū)(secondary stress-bearing area)與)與牙合牙合力受力方向力受力方向成角度的區(qū)域。包括上下頜牙槽嵴頂?shù)拇?、頰和舌腭側(cè)(不包括成角度的區(qū)域。包括上下頜牙槽嵴頂?shù)拇?、頰和舌腭側(cè)(不包括硬區(qū)),與頰舌的界限在粘膜和口腔前庭黏膜反折線,支持能力硬區(qū)),與頰舌的界限

14、在粘膜和口腔前庭黏膜反折線,支持能力較差,不能承受較大壓力,只協(xié)助主承托區(qū)承受咀嚼壓力。較差,不能承受較大壓力,只協(xié)助主承托區(qū)承受咀嚼壓力。3.緩沖區(qū)(緩沖區(qū)(relief area)無(wú)牙頜上的顴突、上頜結(jié)節(jié)的頰側(cè)、切)無(wú)牙頜上的顴突、上頜結(jié)節(jié)的頰側(cè)、切牙乳突、下頜隆突、頜舌骨嵴,牙槽嵴上的骨尖、骨棱等部位。牙乳突、下頜隆突、頜舌骨嵴,牙槽嵴上的骨尖、骨棱等部位。這些部位粘膜較薄,基托相應(yīng)部位應(yīng)磨除少許做緩沖處理。這些部位粘膜較薄,基托相應(yīng)部位應(yīng)磨除少許做緩沖處理。 4. 邊緣封閉區(qū)(邊緣封閉區(qū)(border seal area)義齒邊緣接觸的軟組織部分,)義齒邊緣接觸的軟組織部分,如黏膜皺襞、系帶附著

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