重大關鍵核心技術研發(fā)項目資金申請報告

1、-重大關鍵核心技術研發(fā)工程資金申請報告工程名稱 高端微納光刻裝備研發(fā)與產業(yè)化工程承當單位 蘇州蘇大維格光電科技股份 工程負責人 陳林森 聯系826 工程主持部門 江蘇省開展和改革委員會申報日期 2021 年3月11日 江蘇省推進戰(zhàn)略性新興產業(yè)開展工作領導小組辦公室二一五年一月目錄一、工程的背景和必要性3一國內外現狀：3二技術開展趨勢：5三擬解決的關鍵技術和問題：6四對產業(yè)開展的作用與影響：7五市場分析：8二、工程法人根本情況9三、工程的技術根底13一成果來源及知識產權情況13二產學研合作情況15三已完成的研究開發(fā)工作及中試情況和鑒定年限17四技術或工藝特點以及與現

2、有技術或工藝比擬所具有的優(yōu)勢22五重大關鍵技術突破對行業(yè)技術進步的重要意義和作用24四、工程建立方案26一建立的主要內容、建立規(guī)模26二工藝技術路線與技術工藝特點27三設備選型及主要技術經濟指標28四產品市場預測30五建立地點、建立周期和進度安排、建立期管理等32五、工程投資34一工程總投資規(guī)模、資金來源、投資使用方案34二資金籌措方案35六、工程財務分析、經濟分析及主要指標36一財務分析36二風險分析38三經濟效益分析39四社會效益分析39八、資金申請報告附件41本工程符合?江蘇省“十二五培育和開展戰(zhàn)略性新興產業(yè)規(guī)劃?中產業(yè)開展重點：七高端裝備制造產業(yè) -智能制造裝備，同時也是二新材料產業(yè)中

3、的上游核心設備，負責工藝流程中前端制程，具有關鍵支撐作用。一、工程的背景和必要性國內外現狀和技術開展趨勢，擬解決的關鍵技術和問題，對產業(yè)開展的作用與影響，市場分析。一 國內外現狀：高端微納光刻裝備是開展微納新材料、半導體、MEMS、生物芯片、精細電路、平板顯示、固態(tài)照明等領域技術研發(fā)和產品生產的必要設備。目前，一場新型柔性功能材料的革命性改變正在發(fā)生：超薄柔性材料的功能化，成為推動行業(yè)開展的革命性力量，使得精細加工制造技術向微米-納米構造和智能制造開展。隨著移動互聯的高速開展，便攜、可穿戴光電子器件需要進一步解決節(jié)能、低本錢問題。柔性電子制造領域國家方案與政府投入：美國FDCASU方案、在20

4、21年美國“總統(tǒng)報告中將柔性電子制造作為先進制造11個優(yōu)先開展的尖端領域、2021年NASA制定柔性電子戰(zhàn)略、2021年成了柔性混合電子器件制造創(chuàng)新中心；歐盟第7研究框架、地平線方案的印刷技術在柔性塑料基底上進展制備、英國“拋石機方案、建立英國的未來方案將塑料電子作為制造業(yè)主要開展領域；德國投資數十億歐元建立柔性顯示生產線；韓國?韓國綠色IT國家戰(zhàn)略?2021年投資720億美金開展AMOLED；日本TRADIM方案在2021年成立先進印刷電子技術研發(fā)聯盟；我國電子信息制造業(yè)“十二五開展規(guī)劃，新型顯示器件、太陽能光伏等作為開展重點方向，國家自然科學基金12-5、13-5規(guī)劃中將柔性電子作為微納制

5、造重要研究領域。柔性光電功能材料具有數以千億計的潛在市場需求。在下一代裸眼3D顯示、大尺寸柔性觸控屏、OLED照明的納米襯底、可穿戴電子器件，具有微米級線寬-納米構造，現有的光刻設備達不到這種精度加工的要求。微納光刻裝備是高端技術密集型微納產業(yè)中的核心設備，負責工藝流程中前端制程。這些產業(yè)的開展，離不開微納光刻裝備。高端微納光刻設備，對于科學研究中的工藝試驗研究、新品研發(fā)、產品生產，實現跨越開展都具有重大意義。目前高端微納光刻裝備領域的研發(fā)和產業(yè)化工作開展較好的公司在國外，如德國Heidelberg Instruments、瑞典Micronic、以色列Orbotech、美國Applied Ma

6、terial，能夠對市場需求和設備研發(fā)制造形成良性的循環(huán)，另外，韓國、日本等一些研發(fā)型公司也在進展該項工作的推進。我國科研院所在微納光刻領域的研究，主要模式是采購國外科研型設備，進展工藝和器件的開發(fā)，對高端裝備技術的研究開展較少。國內產業(yè)環(huán)境的開展，產品創(chuàng)新對高端微納直寫光刻與加工裝備具有大量需求；與國外企業(yè)相比，在技術溝通、效勞響應能力方面具有優(yōu)勢；國內還缺乏“微納級別的高端智能激光直寫光刻裝備的研發(fā)與制造企業(yè)，蘇大維格公司通過國家863方案的重點工程的資助，掌握了微納直寫裝備的核心技術，擁有人才團隊，依托于國家發(fā)改委批準的“國家地方聯合工程研究中心，公司在高端微納智能裝備的研發(fā)具有，同時公

7、司也是創(chuàng)業(yè)板上市公司在產業(yè)化上也有優(yōu)勢。值得一提的是，本公司蘇大維格在國家863方案和江蘇省攀登方案支持下，在高端微納光刻設備的研發(fā)上卓有成效，積累了假設干光機電關鍵技術，激光智能SLM干預直寫儀器等設備填補行業(yè)空白，在100nm特征尺寸的直寫系統(tǒng)上，研發(fā)成功HoloScanV、HoloMakerIII和iGrapher200等系列化的儀器設備，具有行業(yè)領先水平，在國內著名高等研究院所應用，并出口日本、以色列等國。獲2021年國家科技進步二等獎，省科技進步一等獎。二技術開展趨勢：微納米技術產業(yè)作為先導性領域，對我國新興產業(yè)的創(chuàng)新開展中具有不可或缺的先導作用，高端微納光刻裝備是進展微納技術的科學

8、研究、新器件、新功能材料的研發(fā)與應用的核心儀器，具有關鍵支撐作用。舉例說明，“光電轉換效率提升是新型光電器件LED，太陽能、新型照明、低耗能材料研究的核心問題，除了材料自身的光電特性之外，微納構造分布與高效制備是推進高性能器件研制的重要方向，例如，在LED領域，納米圖形化技術是提升器件發(fā)光效率的重要途徑，目標到達每瓦150流明以上，納圖形理論和實驗研究是重點領域；薄膜太陽能電池的效率提升需納米陷光構造襯底的制備；在平板立體顯示領域，納米線柵構造、3D位相延遲片偏振片、濾光片是提升顯示光能利用率的重要研究方向；在光電子、微機電系統(tǒng)器件等科學研究領域，需要有高分辨、高效、3D曝光的多功能圖形化手段

9、和檢測儀器，尤其在大尺寸納米構造器件的無損檢測是急需解決的重大問題；在國防領域，超大幅面光柵的研制，需要有更好的檢測儀器。在納米印刷研究和開發(fā)領域，高端圖形化與檢測是提供無油墨納米色彩圖像品質的必由之路。因此，該類型的高端微納圖形化儀器設備的研制，可打破國外技術壟斷，具有重大戰(zhàn)略意義。微納圖形直寫與檢測儀器設備的研制，對于科學研究中的工藝試驗研究、新品研發(fā)中的圖形快速制備與檢測，實現跨越開展具有重大意義。三擬解決的關鍵技術和問題：1. 紫外大視場平場成像光學系統(tǒng)研制：光學系統(tǒng)是微納光刻裝備的根底性關鍵部件，對裝備的總體性能具有重要影響。針對各種不同影響，設備的光學系統(tǒng)將做相應的設計和研制。本公

10、司在紫外位相-空間混合調制的微納光學系統(tǒng)具有自主知識產權，是高效微納米圖形光刻的有效解決手段。2. 自動化多軸控制技術：基于可編程多軸控制器的自動化控制技術，是精細光刻設備運行的關鍵技術。通過編寫程序實現設備光、機、電的協調運行，實現設備的預期功能?？刂萍夹g包含了同步曝光技術、數據分割和上載技術、圖像處理技術、高速多軸平臺閉環(huán)控制技術等。本公司在基于PMAC、ACS等的控制器的控制技術有了長期研發(fā)根底，研發(fā)了飛行曝光技術、Z-校正自動聚焦技術、積分曝光技術等，為設備功能多樣化開發(fā)積累了經歷。3. 微納數據處理技術：大幅面微納構造圖形的數據是海量的，例如，以數據解析分辨率為0.25um計算，10

11、00mm×1000mm圖形的數據量將到達16TB。微納構造數據，采用具有行業(yè)共性的GDSII、DXF、GERBER、CIF等格式。數據處理技術，流程是：數據格式轉換-數據圖形化-圖形數據切割和組合。光刻是數據分批分隊列上載到光刻設備，通過控制軟件將圖形光刻輸出。4. 工藝開發(fā)和優(yōu)化：針對具體應用方向，需要對光刻工藝進展探索和研究，通過測試和分析結果，對工藝的控制參數、部件參數進展優(yōu)化，最終滿足應用需求。四對產業(yè)開展的作用與影響：“十二五期間，國家和江蘇省鼓勵新興產業(yè)開展，江蘇省及蘇州地方將納米技術產業(yè)作為主導開展產業(yè)，迫切需要研究并解決產業(yè)開展中缺乏上游微納制造技術的共性問題。202

12、1年，國家開展改革委深入貫徹落實創(chuàng)新驅動戰(zhàn)略，以加快經濟構造戰(zhàn)略轉型為主攻方向，以改革創(chuàng)新促開展，切實推動高技術產業(yè)和戰(zhàn)略性新興產業(yè)平穩(wěn)安康開展。其中的一個重點就是深入推進新型平板顯示、高性能醫(yī)學診療設備等重大創(chuàng)新開展工程建立，擴大節(jié)能環(huán)保、信息惠民、衛(wèi)星導航、智能制造等領域的示范應用，重點突破深刻影響產業(yè)開展的關鍵核心技術，推動傳統(tǒng)產業(yè)改造升級，加快培育新的經濟增長點。高端微納光刻裝備是上述領域上游所需的核心設備，具有關鍵支撐作用。中國版工業(yè)4.0規(guī)劃?中國制造業(yè)開展綱要(2021 2025)?即將于2021 年出臺。作為牽頭制定中國制造業(yè)2025規(guī)劃的部門，工信部已著手研究制定裝備制造領域

13、相關專項規(guī)劃，規(guī)劃重點實施領域為新一代信息技術產業(yè)、生物醫(yī)藥與生物制造產業(yè)、高端裝備制造產業(yè)、新能源產業(yè)等四大產業(yè)領域。本工程突破大尺度幅面、納米構造及納米精度、微納構造器件與材料的低本錢制造關鍵技術，開發(fā)高端微納制造裝備，滿足提升產業(yè)創(chuàng)新能力，促進區(qū)域經濟開展方面的需求，建立微納構造器件功能設計、微納米柔性制造關鍵技術與裝備、材料應用及加工檢測創(chuàng)新平臺。對區(qū)域納米技術創(chuàng)新體系的完善，對相關產業(yè)轉型升級、高技術企業(yè)孵化、高端人才培養(yǎng)與引進具有重大作用。高端微納光刻裝備對多個產業(yè)的開展具有重要作用：1. 平板顯示和觸控屏：用于光掩模版制備、大幅面觸摸屏電路圖形化光刻，例如55寸的大尺寸電容觸控屏

14、電路制備等。2. TV超薄背光源BLU：平板電腦、液晶顯示器、電視機的超薄化趨勢，用于超薄導光板的熱壓模具制備例如70寸微透鏡金屬壓印模具。3. 高密度柔性電路、IC載板：10m以下線寬工藝，是下一代集成電路3D封裝必須的關鍵技術，目前需要0.25微米分辨率的高精度直寫光刻設備。4. MEMS芯片：MEMS芯片制備，需要解決厚膠圖形化光刻工藝。5. 公共平安：特殊微納構造的視讀特征，是實現證卡平安、產品保護、金融平安等領域公共平安的有效手段。6. 科研、國家工程需求：微納加工技術，是諸多科研領域的共性技術，小型微納光刻設備，可用于高等院所的實驗室，特殊定制的微納光刻裝備，可以效勞于國家重大工程

15、。五市場分析：柔性電子技術已經并將開辟出許多創(chuàng)新的電子產品應用領域，從而，帶來一場電子信息技術革命。據IDTechEx預測，2021年柔性電子的市場銷售額將高達49.3億美元，2021年為469.4億美元，2028年為3010億美元。柔性電子制造技術和裝備是穿戴式電子、新能源、高端顯示、物聯網和智能家居領域開展的關鍵技術，可提供原創(chuàng)性柔性電子器件、知識產權和關鍵技術，能為新興市場培育、高層次人才培養(yǎng)提供新機遇，效勞并推動相關信息產業(yè)的跨越開展。二、工程法人根本情況工程法人的所有制、主營業(yè)務，近三年的銷售收入、利潤、稅收、固定資產、資產負債率、銀行信用等級、企業(yè)技術開發(fā)、經營管理、資金籌集、市場

16、開拓等情況。企業(yè)名稱：蘇州蘇大維格光電科技股份企業(yè)性質： 股份制企業(yè)，深交所創(chuàng)業(yè)板上市公司代碼：300331企業(yè)地址：蘇州工業(yè)園區(qū)新昌路68號；資本：9300萬人民幣主營業(yè)務：激光光刻直寫系統(tǒng)與納米壓印裝備、LED納米圖形光刻設備、OGS掩膜和灰度光刻設備；光學鐳射膜：定制光學鐳射印材、防偽解決方案和材料；平板顯示照明：超薄導光板、大尺寸電容觸控屏非ITO；光掩模板。公司已于2021年6月在深交所創(chuàng)業(yè)板上市股票代碼：300331，銀行信用等級：AA級近三年財務情況： 萬元年度銷售收入利潤稅收固定資產資產負債率202121871.82459.281871.355030.3319.16%20212

17、4572.321936.681084.9412388.616.83%202127661.863012.932021.4614087.2417.50%公司建有國家級研究平臺“數碼激光成像與顯示國家地方聯合工程研究中心國家發(fā)改委批準，2021年，設有“江蘇省微納柔性制造工程技術研究中心2021年，省政府批準，擁有6000平米用于工程研究和產品中試的實驗室。圖1 公司場地具有面向新型顯示、照明和成像領域的微納制造工程研發(fā)與檢測條件。設有四個研發(fā)方向：先進光學顯示器件、微納制造技術與裝備、柔性材料與器件和納米印刷技術。公司建有江蘇省院士工作站和全國博士后工作站。圖2 國家工程中心和院士工作站公司擁有國

18、際一流創(chuàng)的新團隊，江蘇省科技創(chuàng)新團隊。重大成果獲得：國家科學技術進步二等獎2021年度、江蘇省科技進步一等獎2021年度，2007年度、第十二屆、十四屆“中國優(yōu)秀專利獎2021年，2021年、第七屆江蘇省專利金獎等獎項。為此，公司榮獲首屆江蘇省企業(yè)技術創(chuàng)新獎全省19家企業(yè)。圖3 重大科技獲獎公司擁有授權創(chuàng)造專利49項，其中與本工程相關自主研發(fā)設備和技術已獲得創(chuàng)造專利16項。公司建立了以市場為導向、自主創(chuàng)新為推動力的經營管理制度，從產品設計、品質管理、客戶溝通與效勞、到產品質量體系認證、新品導入與跟蹤，有完整的管理制度，力圖與國際體系接軌。形成了一個研發(fā)、設計、裝備改良、制程提升、各戶認證的快速

19、反響能力。對于新品導入工程，成立工程領導小組，以董事長為負責人，總經理執(zhí)行人的工程領導組，協調與處理工程研發(fā)、市場實施過程中的各種問題。業(yè)內第一個研發(fā)成功并批量化14寸0.5mm厚度LED超薄導光板卷對卷產線，實現產業(yè)應用； · 創(chuàng)造并實現消色差光學膜的高效光刻方法； · 創(chuàng)造了“寬幅衍射光變圖像高速光刻方法與設備：解決了微納構造工業(yè)化制備的行業(yè)難題； · 率先建立了“微納柔性制造生產線，從“微納構造設計、材料特性研究、重大裝備研發(fā)和成果產業(yè)化工藝鏈； · 第一個研制成功“3D光變圖像全息制版系統(tǒng)實現了全息圖像的微納構造表達，并推進了立體圖像的工業(yè)化應用

20、； · 創(chuàng)造“定位激光轉移紙張印刷第一色概念，實現產業(yè)化； · 第一個研發(fā)成功數字化“數碼激光全息制版系統(tǒng)，國內外廣泛使用； · 提出并實現了導模共振納米光子晶體變色薄膜。三、工程的技術根底成果來源及知識產權情況，產學研合作情況，已完成的研究開發(fā)工作及中試情況和鑒定年限，技術或工藝特點以及與現有技術或工藝比擬所具有的優(yōu)勢，該項技術的突破對行業(yè)技術進步的重要意義和作用。一成果來源及知識產權情況核心技術來源于蘇大維格公司的技術積累和產學研合作，公司在高精度激光微納米直寫和加工技術方面開展了長期研發(fā)創(chuàng)新，主要包括微光學元器件開發(fā)、納米精度光機構造研發(fā)、4-6軸

21、運動控制技術、CCD影像檢測處理技術、海量圖形數據處理和傳輸技術等，為本工程開發(fā)積累了大量核心和關鍵技術。依托單位是本行業(yè)內惟一建有國家工程研究中心“數碼激光成像與顯示國家地方聯合工程研究中心國家發(fā)改委批準，2021年，說明了行業(yè)領先地位。目前，我國唯一具有大面積微納金屬模具制備能力、能夠實現大尺寸納米尺度圖形掩模、配套納米壓印全制程、擁有自主知識產權，目前支持42尺寸微納透明導電材料。依托單位在微納制造裝備的應用根底研究、技術創(chuàng)新、材料研發(fā)和高端裝備研制方面，形成了完整的創(chuàng)新鏈，并已在多個產業(yè)實現規(guī)模應用。本工程經過國家重大863專項的支持，已經完成了技術攻關，即將進入產業(yè)化階段。在激光直寫

22、和加工技術領域，獲得創(chuàng)造專利授權16項：專利名稱專利號光學加工系統(tǒng)和方法ZL 202110114482.4光學加工系統(tǒng)和方法ZL 202110076397.3光學加工系統(tǒng)和方法ZL 202110076272.0一種步進式光學加工系統(tǒng)和加工方法ZL 202110323729.9一種透明導電膜及其制作方法ZL 202110533228.9一種光刻裝置和光刻方法ZL 202110503788.X一種金屬母板的制作方法ZL 202110287422.3一種導光膜制作裝置ZL 202110224529.3一種卷對卷紫外納米壓印裝置及方法ZL 202110224532.5并行光刻直寫系統(tǒng)ZL 202110

23、170978.4用于紫外激光干預光刻直寫系統(tǒng)的光學鏡頭ZL 202110028297.1多視角圖形輸入的三維圖形直寫方法ZL 202110028296.7一種彩色濾光片的制作方法與裝置ZL 202110123711.2一種精細數字化微納米壓印的方法ZL 200710132387.6對光滑外表進展微米構造光刻蝕的方法及裝置ZL 200610037797.8衍射光變圖像的高速激光直寫方法和系統(tǒng)ZL 200510095775.2受理創(chuàng)造專利17項。專利名稱申請?zhí)栆环N導光膜制作裝置PCT/CN2021/079736APPARATUS FOR MANUFACTURING LIGHT GUIDE FILM

24、US13583290一種紫外固化微納米構造拼版裝置及拼版工藝202110152954.X三維激光打印方法與系統(tǒng)202110166341.1分束器件、多光束干預光路系統(tǒng)202110234223.X納米圖形化襯底制備裝置與方法202110236124.5一種標簽簽注方法與系統(tǒng)202110291009.8連續(xù)可調構造光照明的超分辨顯微成像方法與系統(tǒng)PCT/CN2021/087883超薄觸控傳感器及其制作方法202110037667.9一種三維碼及其制作方法202110042021.5一種激光直寫系統(tǒng)與光刻方法202110042111.9一種變色燙印膜及其制造方法202110062088.X掩膜版及其

25、制備方法和圖形化方法202110224727.8彩色動態(tài)圖的激光打印裝置及方法202110448548.2一種無掩膜激光直寫疊加曝光方法202110621284.6一種多視角像素指向型背光模組及裸眼3D顯示裝置202110852242.3基于大面積多臺階二元光學元件的激光直寫方法2021 10012577.9軟件著作權4項：登記號軟件名稱2021SR037129基于DXF的并行激光直寫加工圖形處理軟件V1.02021SR037127基于DirectX的空間光調制器圖形發(fā)生軟件V1.02021SR041635蘇大維格頻閃曝光直寫系統(tǒng)2021 SR017923HoloMakerIIIC Syste

26、mV1.0獲獎清單如下：工程名稱獎勵名稱獲批時間大幅面微納圖形制造技術及產業(yè)化應用國家科技進步二等獎2021.12卷對卷納米壓印關鍵技術及應用江蘇省科學技術進步一等獎2021.2面向微納柔性制造的創(chuàng)新工程江蘇省企業(yè)技術創(chuàng)新獎2021.2衍射光變圖像高速制作方法與系統(tǒng)中國專利優(yōu)秀獎2021.11微光變圖像的激光直寫方法及裝置中國專利優(yōu)秀獎2021.11寬幅智能激光SLM光刻系統(tǒng)與應用江蘇省科學技術進步一等獎2021.5亞波長光學制造技術研究與應用教育部科學技術進步二等獎2021.1一種消色差變色銀衍射圖像的制作方法江蘇省專利金獎2021.12微構造制造的高效光刻技術與應用教育部技術創(chuàng)造二等獎20

27、21.1二產學研合作情況“十二五期間，在國家高技術研究863方案方案重大工程、國家自然基金重點工程的資助下，蘇州蘇大維格光電科技股份與相關業(yè)內企業(yè)和高校協同合作，攻克了“微納柔性制造工藝裝備、“3D成像納米印刷技術、“彩色全息顯示的根底問題方面關鍵根底問題和技術難題，取得國內外矚目的重大成果，引起國內外同行的高度關注。第一，前瞻性重大技術創(chuàng)新取得突破。從原理上，現有的技術手段如金剛石加工僅能加工柱光柵膜的模具不能加工全息原理的裸眼3D顯示，必須突破納米加工技術瓶頸。蘇大維格在高端微納裝備及關鍵技術方面取得重大研究進展，在國際上率先實現“四獨立變量微納構造快速制造、“大幅面微納混合光刻等新技術方

28、法，研發(fā)成功“納米級制造設備，使得中國在“大幅面微納構造制造方面擁有了自主高端裝備。先后獲國家科技進步二等獎2021、江蘇省科技一等獎2021和中國專利獎2021。因此，在納米加工設施、知識產權方面，為本項建議任務提供關鍵手段支撐。第二，需求牽引的組織模式創(chuàng)新。通過運行機制的創(chuàng)新，納米技術從實驗室走向產業(yè)應用，形成上下游的創(chuàng)新鏈，協同產業(yè)和高校共同推進在納米印刷3D圖像印刷、柔性電子微構造透明導電膜、平板顯示超薄導光板的產業(yè)應用，并取得重大進展，培育了1家上市公司2021年上市和5家國家高新技術企業(yè)。從根底環(huán)節(jié)創(chuàng)新、整個過程的技術工藝創(chuàng)新，直至推進產業(yè)應用，探索了產業(yè)鏈創(chuàng)新的成功路徑，為取得顛

29、覆性重大目標產品提供了組織上經歷。第三，以重大任務目標產品為目標的創(chuàng)新能力建立。蘇大維格公司組建了“國家地方聯合工程研究中心數碼激光成像顯示國家發(fā)改委2021年批準，6000平米研發(fā)場所，1萬平米中試平臺。在重大目標產品的取得突破，得到同行專家、領導和市場高度評價。華為科技、京東方科技、龍騰光電、蘇大維格光電等一批企業(yè)具備合作推進裸眼3D顯示關鍵技術和部件研制的根底能力。 為今后以重大任務位目標的組織實施，提供了更好的創(chuàng)新平臺和產業(yè)合作根底。第四、培養(yǎng)一支敢于承當風險和奉獻、能承當重大任務的團隊。通過協同合作和體制機制改革，培養(yǎng)了一支高素質的團隊，團隊成員以中青年成員為主，包括國家863方案重

30、大工程首席專家，千人方案人才、海外特聘教授和國內出色年輕人才構成的充滿活力創(chuàng)新與創(chuàng)新混合的團隊。在 “裸眼3D顯示的根底問題，“納米構造3D成像原理、“納米導光板研究方面做了大量工作，敢于突破和自主創(chuàng)新。三已完成的研究開發(fā)工作及中試情況和鑒定年限1、根據不同的行業(yè)應用需求和加工的尺度不同，已完成四種類型樣機的研發(fā)：1、高速激光圖形直寫光刻裝備應用樣機：iGrapher系列iGrapher專門用于精細電路、光掩模光罩MASK、微納構造無掩模光刻的“高端激光直寫設備(UV laser pattern generator)。幅面：8英寸-65英寸，應用90nm-130nm節(jié)點0.22um-0.5um

31、光學分辨率柔性電路和光掩膜板制備。iGrapher突破了一系列關鍵難題技術，實現了上述大幅面微圖形高速直寫功能，對光掩模文件、集成電路文件全兼容。iGrapher采用高速空間光調制器spatial light modulation，陣列圖形輸入模式可達8k幀，3D導航飛行曝光3D navigation flying exposure、納秒時序平鋪曝光parallelism、 nano-second patterning技術，專用于光掩模、柔性電子的微圖形線寬1um-10um、LIGA工藝、微納模具的高效光刻。2、多功能微圖形光刻設備工程樣機：MicrolabMicroLab100是一款適應微構

32、造圖形光刻的名副其實的小型微加工實驗室，系統(tǒng)操作方便在微納構造功能器件、生物與微納界面作用微流控、基因芯片、探針和光電子、微光學等研究中，MicroLab 是一種理想的、高性價比的微加工手段。尤其適合于小尺寸精細掩膜、CGH、微光學器件、光束整形、MEMS、衍射與折射光學陣列的研制。MicroLab100支持灰度光刻grayscale lithography，拖曳曝光形狀光闌積分曝光laser dragging，圖形化parallel patterning，3D形貌等高級加工，比方，閃耀槽型、微透鏡陣列、多臺階圖形、點陣圖形等，支持薄膠和厚膠工藝。支持DXF，GDSII，位圖文件。只

33、要有根本計算機背景和圖像知識，適當培訓后，就可以上機操作。支持24小時不連續(xù)運行，運行本錢低，占地4平方米，根本免維護。適合于科學研究、研究生培養(yǎng)之用途。3、大幅面微納金屬模具激光加工設備工程樣機：iEngraver大幅面激光精細微加工設備，用于超薄TV背光源金屬模具制備。可實現幅面1570寸。大尺寸精細導光板的模具光學性能為業(yè)內做好水平，精細模具加工設備與工藝成熟度得到充分驗證，加工的超薄導光板的光學效率、導光均齊度為業(yè)內最高水準。性能參數：最小微構造尺寸15um激光光源：30kHz10W機臺：花崗石機臺光學頭單次掃描面積：10mmx10mm - 15mmx15mm加工速率：4-10小時不同

34、模具尺寸和光學網點運動平臺：直線電機驅動定位精度：0.1um行程：根據型號確定軟件：光學設計文檔格式，或*.DXF；*.ARR配套：整套網點設計和處理工藝4、激光動態(tài)圖形簽注系統(tǒng)實現了不需要位移和旋轉的3D動態(tài)圖形的實時簽注方法和關鍵技術。采用曲面擴散片實現3D動態(tài)圖像簽注的景深變化，實現簽注的動態(tài)聚焦，同時設計不同棱角位置與棱角鍥角，通過軟件控制記錄圖形的位置，分別對應在相應鍥形棱鏡位置，一次性簽注將能獲得不同再現視角的角度與方向的效果。簽注效率高，適合工程化應用。能夠同時滿足變景深、多視角簽注的要求，提高了簽注圖形技術門檻。圖形簽注僅需5秒至10秒，能滿足激光簽注的工程化應用。在工業(yè)化應用

35、方面，可應用在銀行卡、護照、等證卡的個性化序列號和動態(tài)圖形的簽注，號牌激光平安防偽簽注，食品平安三維碼溯源簽注技術等公共平安領域上。2、完成場地建立：2000平方米場地。1、機械部件裝配間2、電氣部件裝配間3、總裝調試間4、部件、材料、成品倉庫5、員工培訓室6、生產調度室鑒定年限：本工程的鑒定年限為2021年3 月。四技術或工藝特點以及與現有技術或工藝比擬所具有的優(yōu)勢技術特點：1攻克了空間-位相調制的圖形化技術，微米-納米混合光場調制，從而能實現l/4構造分辨率的國際領先水平在355波長下，實現100nm構造；2納秒時序3D導航飛行曝光，實現大面積微納米構造的快速光刻，定位精度到達±

36、20nm；3海量數據處理和直寫軟件與硬件技術；支持40TB的數據處理。44-6軸的納米精度控制技術；5微納功能材料加工的工藝：力圖在國際上率先實現3D納米印刷技術，為柔性材料功能化提供關鍵技術手段。在應用工藝上，重點攻克在顯示、新型照明和觸控傳感材料低本錢制造技術，推進展業(yè)合作和潛在重大應用，與相關產業(yè)例如華為共同研發(fā)攻關“微納米構造手機功能光刻工藝研究。技術先進性優(yōu)勢：1、微納直寫光刻與加工設備，綜合了微納光學、精細機械、數控電氣、納米精度控制，利用計算機或工作站進展4-5軸的光機電聯合控制，高端技術的集成度高，設備自動化化運行，屬于高端智能裝備。2、該類加工裝備，加工宏觀尺寸到達米級，微構

37、造的尺寸到達亞微米級，部件運行精度、數據分辨率定義，均需到達100納米以下級別，實現大幅面、微構造、高精度特征的統(tǒng)一。3、海量數據：以0.1微米分辨率電路為例，200mmx200mm的電路的數據量為4.0TB, 一幅600mmX1000mm電路數據達60Tb,因此，這種精細電路圖形的海量處理技術和軟件、數據傳輸與壓縮、光電轉換和光刻模式等，具有極高難度。4、微納直寫光刻與加工設備，是多行業(yè)生產工藝流程中的關鍵核心裝備，用于提供光掩模板、微米線寬電路制備與模板、或進展直接圖形構造加工，比方超薄導光板模具，是微納功能材料裸眼3D顯示、柔性電路、觸控、器件背光源等等行業(yè)不可缺少的工具。工藝優(yōu)勢：本工

38、程申請單位，長期從事微納制造領域的研發(fā)創(chuàng)新和產業(yè)化，尤其在超精細大幅面光刻直寫等裝備制造方面具有10余年的工藝積累，公司是我國唯一具有整套微納米柔性制造產線的企業(yè)，具有國際領先水平。國內外同行和專家參觀后給予充分贊賞和肯定，為此，公司曾承當了國家863方案和電子開展基金等工程，并圓滿完成。在微納精細制造領域，工程申請單位無疑在國內同行中具有領先地位，并在國外同行中具有影響。工藝設備上：申請單位是我國唯一的具有獨立研制“高端激光直寫光刻與納米壓印設備企業(yè)，厚膠曝光設備800mmx1300mm，擁有自主研發(fā)的“大型紫外激光直寫設備iGrapher820-1500，1100mmx1300mm，支持5

39、.5代線光掩模板的制備，在光刻分辨率、CD和綜合寫入速率等，具有國際同行的先進水準。圖4 高端裝備實驗場地國內產業(yè)環(huán)境的開展，對高端微納裝備具有大量的需求；與國外企業(yè)相比，在技術溝通、效勞響應能力方面具有優(yōu)勢；國內還缺乏微納裝備企業(yè)，維格公司掌握了核心技術，擁有人才團隊，依托于“國家地方聯合工程研究中心，維格公司具有高端裝備產業(yè)化的優(yōu)勢。圖5 國家地方聯合工程中心配套生產條件五重大關鍵技術突破對行業(yè)技術進步的重要意義和作用我國的信息顯示、光電子等行業(yè)已有很大的產業(yè)根底，江蘇省納米產業(yè)在全國具有優(yōu)勢地位?！笆迤陂g，江蘇省大力開展戰(zhàn)略新興產業(yè)，重點開展新能源、新材料、高端制造、生物技術和新醫(yī)藥

40、、節(jié)能環(huán)保和新一代信息技術等六大新興產業(yè)。在這些產業(yè)中，新型顯示、固體照明、納米印刷與柔性光電子等是國家中長期科技開展規(guī)劃、江蘇省科技規(guī)劃中的重點開展領域，與“柔性微納材料與制造技術嚴密相關。蘇州工業(yè)園區(qū)布局了國際科技園、蘇州納米城等載體，提供了孵化等系列效勞，是蘇州納米技術產業(yè)化基地。蘇州納米城將占地約100公頃，規(guī)劃建筑面積約130萬平方米，于2021年11月啟動建立，重點開展納米新材料、納米光電子、微納制造、納米生物醫(yī)藥和納米環(huán)保等五大產業(yè)領域，以構建產業(yè)生態(tài)圈。蘇大維格在高端微納裝備上的自主研發(fā)能力，無疑提高了自身的競爭優(yōu)勢和可持續(xù)開展性，根本不依賴于國外的設備限制。為此，國家、省部相

41、關領導和業(yè)內專家屢次視察和調研本工程申請單位的高端裝備和平板顯示關鍵器件的研發(fā)和產業(yè)化進展和做法。國家發(fā)改委副主任朱之鑫、工信部副部長蘇波、科技部副部長曹健林等重要領導視察后，均給予充分肯定和鼓勵。 國家發(fā)改委的祁司長等領導視察，對申請單位在高端微納光刻設備和平板顯示領域研發(fā)創(chuàng)新和產業(yè)化給予肯定。工信部蘇波部長考察蘇大維格人大副委員長視察蘇大維格并題詞 科技部曹健林副部長視察維格公司圖6 領導肯定四、工程建立方案工程建立的主要內容、建立規(guī)模、采用的工藝路線與技術特點、設備選型及主要技術經濟指標、產品市場預測、建立地點、建立周期和進度安排、建立期管理等。一建立的主要內容、建立規(guī)模面向平板顯示和大

42、尺寸電容觸控屏、精細柔性電路、精細PCB及封裝、MEMS、公共平安、科研等不同行業(yè)應用，用3年時間建立達產業(yè)化階段，開發(fā)出相對應的、具有國際先進水平及滿足工廠產業(yè)需求的微納加工裝備，完成四種型號設備的研發(fā)及產業(yè)化：1、大幅面掩模版制版光刻設備：大型紫外高速圖形化直寫設備，用于55英寸以上平板顯示、大尺寸電容觸控屏生產用掩模版制備。主要技術指標：典型線寬2um，圖形化光刻速度4000mm2/min。 2、MEMS、封裝光刻機：中小型紫外圖形化直寫設備，用于6-8英寸MEMS、封裝等工藝制程，可適用于厚膠工藝?？捎糜诳蒲性核钠骷に囇芯亢托∨恐苽洹Ｖ饕夹g指標：典型線寬1um，精細圖

43、形的光刻速度500mm2/min，可適用厚膠光刻工藝大于10um。 3、精細柔性電路、PCB無掩模光刻機：高速無掩模曝光機，用于下一代10um以下精細電路生產。主要技術指標：最小線寬5um，光刻速度大于20000mm2/min。 4、背光模具光刻機：大幅面激光精細微加工設備，用于超薄TV背光源金屬模具制備。主要技術指標：導光構造最小尺寸15um，加工幅面大于70英寸。 建立期內新增場地建立2000平米，累計完成銷售1.25億元，利潤1664萬元，稅收1165萬元。工程建立完成后，形成年銷售規(guī)模大于1億元的高端微納光刻直寫裝備制造和銷售能力，同時帶動下游相關應用行業(yè)

44、，產生10億左右的經濟效益?；诠驹诟叨酥悄苎b備研發(fā)和應用的技術積累，整合資源，合理利用自有和外部資金、人才資源，建立高端成套微納光刻裝備的研發(fā)、產業(yè)化、銷售、效勞條件，面向國際市場，擴大面向多領域的產品線，建立國際一流的綜合性微納裝備公司，與德國Heidelberg Instruments、瑞典Micronic、以色列Orbotech等進展市場競爭，成為國際微納裝備領域的重要供給商。二工藝技術路線與技術工藝特點1、設備制造工藝路線：總體方案設計光、機、電分解設計設計綜合評審圖紙加工采購設備組裝編程調試測試檢驗交付。2、技術工藝特點：1） 技術和知識密集型工藝。2） 無化學試劑、無排放、無污

45、染。3） 低能耗。4） 場地占用面積小。三設備選型及主要技術經濟指標1、檢測設備選型1共焦顯微鏡：型號：奧林巴斯OLS4100主要技術指標：最高橫向分辨率0.12m、縱向分辨率1nm。2激光干預儀型號：雷尼紹XL-80主要技術指標：線性測量精度±0.5ppm、分辨率1nm。3激光功率計型號：Vega+3A/30A主要技術指標：10uw-3w/20mw-30w4自動圖形檢測儀型號：LI712主要技術指標：檢測分辨率0.5m；檢測速度0.19 sec/ cm2。5掃描電鏡型號：Sigma/VP主要技術指標：分辨率1.3nm 20KV、1.5nm 15KV、 2.8nm 1KV。2、技術經

46、濟指標還是要補充一下技術指標：1技術指標：1、大幅面掩模版制版光刻設備：主要技術指標：典型線寬2um，圖形化光刻速度4000mm2/min。 2、MEMS、封裝光刻機：主要技術指標：典型線寬1um，精細圖形的光刻速度500mm2/min，可適用厚膠光刻工藝大于10um。 3、精細柔性電路、PCB無掩模光刻機：主要技術指標：最小線寬5um，光刻速度大于20000mm2/min。 4、背光模具光刻機：主要技術指標：導光構造最小尺寸15um，加工幅面大于70英寸。(2)經濟指標工程面向不同行業(yè)市場需求，完成四種型號的高端微納制造裝備的研發(fā)和產業(yè)化，執(zhí)行期內累計完成銷售額

47、1.25億元，凈利潤1,665萬元，稅收1165萬元。四產品市場預測國內市場：1高?？蒲性核脱芯繕嬙欤鞔鬁y試加工平臺。目前已經成功推廣的代表性客戶有哈工大、南開大學、蘇州大學、中科院納米所、上海通用識別研究所等。而近年來，隨著各大高校和研究機構對微納學科加大投入，本工程將有更大的應用市場替代國外進口設備。2企業(yè)：由于目前國內的企業(yè)升級轉型自身的開展需求，也在研發(fā)與測試儀器上加大了投入，同時，企業(yè)端的客戶認證需要，對產品本身的測試要求提升。例如，在平板顯示行業(yè)，需要對各類材料的外表構造形貌的參數進展測量，在微加工行業(yè)，需要對加工的微構造的尺寸進展標定。據預測，僅國內就有數百臺的市場需求。為此

48、，本工程會根據客戶對儀器設備的具體要求，開發(fā)不同類型的儀器。確保能夠滿足行業(yè)應用需求，替代進口。國外市場：由于前期本公司已經開展了儀器設備產品開發(fā)工作，通過市場的反響可以看出，由于各國都將微納制造作為重點開展的領域，國外很多高校、企業(yè)都對本公司現有的納米圖形化儀器表現出高度關注。目前，現有的儀器設備已經出口日本、韓國、以色列的企業(yè)，作為研究工具。由于本公司在這方面領先的技術根底以及有力的價格競爭優(yōu)勢，國外市場也將作為今后本工程的目標市場。工程目標產品采取局部型號市場推廣，局部型號提供給合作公司新興產業(yè)應用方向進展產品培育的模式。合作公司的光導膜、大尺寸電容觸摸屏等產品，當前效勞的企業(yè)大于30家

49、。公司的技術積累和新品以及開發(fā)能力得到合作企業(yè)的好評和認可，并與業(yè)內一批企業(yè)形成長期嚴密合作關系。圖7 行業(yè)合作五建立地點、建立周期和進度安排、建立期管理等1、建立地點：建立地點位于蘇州蘇大維格光電科技股份新廠區(qū)蘇州工業(yè)園區(qū)新昌路68號。公司在蘇州工業(yè)園區(qū)擁有110畝建立用地。目前，建有4.5萬平米廠房。其中，本工程前期投入已建立了2000平米廠房，擬增加面積2000平米凈化面積。其中，黃光凈化區(qū)1500平米、檢測面積500平米。圖8 工程已建立場地2、建立工期和進度安排：工程完成期限：自工程下達之日起3年內完成。進度安排：第一年，完成4套工程樣機制造，二臺為紫外高速圖形直寫光刻設備，另二臺為

50、532nm綠光，大功率微納直接加工設備。以這些樣機作為實驗平臺，用于設備應用開發(fā)的性能測試與驗證、產品市場展示與應用，以及各個功能模塊的研發(fā)。建立高水平專業(yè)銷售團隊，儲藏人才隊伍。公司現有微納光刻設備產品，本年度實現銷售2500萬元。第二年，持續(xù)開拓新市場，開發(fā)面向3-4個行業(yè)的微納光刻設備。建立完整的設備銷售、量產和效勞團隊，實現設備在精細柔性電路、大尺寸液晶面板背光源等行業(yè)應用，實現銷售大于4000萬元。第三年，開拓TFT掩模版、MEMS等行業(yè)，實現高端光刻設備的規(guī)?；慨a，實現銷售收入大約6000萬元。工程建立完成后，形成年銷售規(guī)模大于1億元的高端微納光刻直寫裝備制造和銷售能力，同時帶動

51、下游相關應用行業(yè)，產生10億左右的經濟效益。3、建立期管理：公司已通過ISO 9001質量管理體系認證和ISO 14001環(huán)境管理體系認證。產品涉及大尺寸觸控屏、光掩模版、高端裝備、國家公共平安證卡和包裝印刷。公司地處中國-新加坡合作的蘇州工業(yè)園區(qū)科教創(chuàng)新區(qū)，因此，公司對產品品質與原材料環(huán)保極其關注，有嚴格的質量保障和檢測體系，購置了先進的檢測儀器，建有凈化車間和檢測分析實驗室，在原料、生產制程與過程管控等各個環(huán)節(jié)均建立了環(huán)?？刂瞥绦?。工程實施將嚴格按照質量管理體系建立標準化工藝流程。建立工程責任人以及工程進展報告制度。對于工程工程建立嚴格執(zhí)行“四制，即法人責任制、工程監(jiān)理制、工程招投標制、工

52、程合同制。本工程的建立將按照公司現有質量及環(huán)保體系嚴格管理。五、工程投資工程總投資規(guī)模，資金來源及籌措方案、投資使用方案、貸款歸還方案。一工程總投資規(guī)模、資金來源、投資使用方案本工程總投資10000萬元，前期已投入2000萬元企業(yè)自籌資金包括基建和裝配車間，局部樣機設備紫外激光直寫光刻設備、激光簽注設備、掃描光刻設備等。類別投資額萬元設備106根底建立(廠房、配電、污水、道路、裝修)727原材料227試制費940合計2000新增投資8000萬元，為企業(yè)自籌資金投入。申請專項經費補助2000萬元。類別金額(萬元)建筑工程費凈化1100設備購置及試制費1700其他工程和費用200鋪底流動資金500

53、0合計8000附: 主要設備購置清單萬元序號設備名稱設備型號擬引進國別單價臺數總價 1 共焦顯微鏡 lext4000  日本 75 2 140 2 激光干預儀 xl80  英國 1002 200 3 激光功率計 NOVA2  以色列 45 20 4 自動圖形檢測儀 lasertec x700  日本 1000 1 1000 5 掃描電鏡 zeiss

54、 EiGMA  日本 3001 300合計111660二資金籌措方案工程總投資10000萬元，前期企業(yè)自籌已投入2000萬元。新增投資8000萬元，來源于公司自籌資金。申請專項經費補助2000萬元。公司自籌資金來源于公司自有資金和利潤積累的再投入，公司股東會議一致通過該項出資方案。六、工程財務分析、經濟分析及主要指標內部收益率、投資利潤率、投資回收期、貸款歸還期等指標的計算和評估，工程風險分析，經濟效益和社會效益分析。一財務分析生產和銷售預測： 單位：萬元年度第一年第二年第三年第四年第五年合計年銷售量套5050486593306銷售單價(未稅)50.0080125154161570.14銷售收入(未稅)25004000600010,00015,00037,500.00生產本錢1,452.02,192.43,407.0