年產(chǎn)xx靶材項(xiàng)目商業(yè)計(jì)劃書(shū)

1、泓域咨詢/年產(chǎn)xx靶材項(xiàng)目商業(yè)計(jì)劃書(shū)年產(chǎn)xx靶材項(xiàng)目商業(yè)計(jì)劃書(shū)泓域咨詢/規(guī)劃設(shè)計(jì)/投資分析 報(bào)告說(shuō)明超大規(guī)模集成電路制造過(guò)程中要反復(fù)用到的濺射（Sputtering）工藝屬于物理氣相沉積（PVD）技術(shù)的一種，是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在高真空中經(jīng)過(guò)加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開(kāi)固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。該靶材項(xiàng)目計(jì)劃總投資6377.74萬(wàn)元，其中：固定資產(chǎn)投資5033.52萬(wàn)元，占項(xiàng)目總投資的78.92%；流動(dòng)資金1344.22萬(wàn)元，占項(xiàng)目總

2、投資的21.08%。達(dá)產(chǎn)年?duì)I業(yè)收入9125.00萬(wàn)元，總成本費(fèi)用6926.40萬(wàn)元，稅金及附加117.66萬(wàn)元，利潤(rùn)總額2198.60萬(wàn)元，利稅總額2619.52萬(wàn)元，稅后凈利潤(rùn)1648.95萬(wàn)元，達(dá)產(chǎn)年納稅總額970.57萬(wàn)元；達(dá)產(chǎn)年投資利潤(rùn)率34.47%，投資利稅率41.07%，投資回報(bào)率25.85%，全部投資回收期5.37年，提供就業(yè)職位128個(gè)。濺射靶材是利用物理氣相沉積技術(shù)制備電子薄膜材料的被轟擊材料，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、太陽(yáng)能電池、平板顯示、信息存儲(chǔ)等領(lǐng)域，其中半導(dǎo)芯片用濺射靶材技術(shù)要求最高，具有規(guī)模化生產(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量也相對(duì)較少，主要分布在美國(guó)、日本等國(guó)家和地區(qū)。第一章 項(xiàng)目概

3、述一、項(xiàng)目概況（一）項(xiàng)目名稱及背景年產(chǎn)xx靶材項(xiàng)目靶材是濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材。是制備晶圓、面板、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。靶材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)息息相關(guān)，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進(jìn)，靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。鍍膜靶材是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡(jiǎn)單說(shuō)的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長(zhǎng)的激光與不同的靶材相互作用時(shí)，會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的

4、靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等)，即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。（二）項(xiàng)目選址xxx工業(yè)園對(duì)周圍環(huán)境不應(yīng)產(chǎn)生污染或?qū)χ車h(huán)境污染不超過(guò)國(guó)家有關(guān)法律和現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)的允許范圍，不會(huì)引起當(dāng)?shù)鼐用竦牟粷M，不會(huì)造成不良的社會(huì)影響。（三）項(xiàng)目用地規(guī)模項(xiàng)目總用地面積20316.82平方米（折合約30.46畝）。（四）項(xiàng)目用地控制指標(biāo)該工程規(guī)劃建筑系數(shù)70.73%，建筑容積率1.66，建設(shè)區(qū)域綠化覆蓋率7.58%，固定資產(chǎn)投資強(qiáng)度165.25萬(wàn)元/畝。（五）土建工程指標(biāo)項(xiàng)目?jī)粲玫孛娣e20316.82平方米，建筑物基底占地面積14370.09平方米，總建筑面積33725.92平方米，其中：

5、規(guī)劃建設(shè)主體工程23209.37平方米，項(xiàng)目規(guī)劃綠化面積2556.06平方米。（六）設(shè)備選型方案項(xiàng)目計(jì)劃購(gòu)置設(shè)備共計(jì)69臺(tái)（套），設(shè)備購(gòu)置費(fèi)1612.10萬(wàn)元。（七）節(jié)能分析1、項(xiàng)目年用電量1267926.38千瓦時(shí)，折合155.83噸標(biāo)準(zhǔn)煤。2、項(xiàng)目年總用水量5814.51立方米，折合0.50噸標(biāo)準(zhǔn)煤。3、“年產(chǎn)xx靶材項(xiàng)目投資建設(shè)項(xiàng)目”，年用電量1267926.38千瓦時(shí)，年總用水量5814.51立方米，項(xiàng)目年綜合總耗能量（當(dāng)量值）156.33噸標(biāo)準(zhǔn)煤/年。達(dá)產(chǎn)年綜合節(jié)能量57.82噸標(biāo)準(zhǔn)煤/年，項(xiàng)目總節(jié)能率20.57%，能源利用效果良好。（八）環(huán)境保護(hù)項(xiàng)目符合x(chóng)xx工業(yè)園發(fā)展規(guī)劃，符合x(chóng)

6、xx工業(yè)園產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整規(guī)劃和國(guó)家的產(chǎn)業(yè)發(fā)展政策；對(duì)產(chǎn)生的各類污染物都采取了切實(shí)可行的治理措施，嚴(yán)格控制在國(guó)家規(guī)定的排放標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)，項(xiàng)目建設(shè)不會(huì)對(duì)區(qū)域生態(tài)環(huán)境產(chǎn)生明顯的影響。（九）項(xiàng)目總投資及資金構(gòu)成項(xiàng)目預(yù)計(jì)總投資6377.74萬(wàn)元，其中：固定資產(chǎn)投資5033.52萬(wàn)元，占項(xiàng)目總投資的78.92%；流動(dòng)資金1344.22萬(wàn)元，占項(xiàng)目總投資的21.08%。（十）資金籌措該項(xiàng)目現(xiàn)階段投資均由企業(yè)自籌。（十一）項(xiàng)目預(yù)期經(jīng)濟(jì)效益規(guī)劃目標(biāo)預(yù)期達(dá)產(chǎn)年?duì)I業(yè)收入9125.00萬(wàn)元，總成本費(fèi)用6926.40萬(wàn)元，稅金及附加117.66萬(wàn)元，利潤(rùn)總額2198.60萬(wàn)元，利稅總額2619.52萬(wàn)元，稅后凈利潤(rùn)1648.9

7、5萬(wàn)元，達(dá)產(chǎn)年納稅總額970.57萬(wàn)元；達(dá)產(chǎn)年投資利潤(rùn)率34.47%，投資利稅率41.07%，投資回報(bào)率25.85%，全部投資回收期5.37年，提供就業(yè)職位128個(gè)。（十二）進(jìn)度規(guī)劃本期工程項(xiàng)目建設(shè)期限規(guī)劃12個(gè)月?？茖W(xué)組織施工平行流水作業(yè)，交叉施工，使施工機(jī)械等資源發(fā)揮最大的使用效率，做到現(xiàn)場(chǎng)施工有條不紊，忙而不亂。選派組織能力強(qiáng)、技術(shù)素質(zhì)高、施工經(jīng)驗(yàn)豐富、最優(yōu)秀的工程技術(shù)人員和施工隊(duì)伍投入本項(xiàng)目施工。二、項(xiàng)目評(píng)價(jià)1、本期工程項(xiàng)目符合國(guó)家產(chǎn)業(yè)發(fā)展政策和規(guī)劃要求，符合x(chóng)xx工業(yè)園及xxx工業(yè)園靶材行業(yè)布局和結(jié)構(gòu)調(diào)整政策；項(xiàng)目的建設(shè)對(duì)促進(jìn)xxx工業(yè)園靶材產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)、技術(shù)結(jié)構(gòu)、組織結(jié)構(gòu)、產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的調(diào)

8、整優(yōu)化有著積極的推動(dòng)意義。2、xxx科技發(fā)展公司為適應(yīng)國(guó)內(nèi)外市場(chǎng)需求，擬建“年產(chǎn)xx靶材項(xiàng)目”，本期工程項(xiàng)目的建設(shè)能夠有力促進(jìn)xxx工業(yè)園經(jīng)濟(jì)發(fā)展，為社會(huì)提供就業(yè)職位128個(gè)，達(dá)產(chǎn)年納稅總額970.57萬(wàn)元，可以促進(jìn)xxx工業(yè)園區(qū)域經(jīng)濟(jì)的繁榮發(fā)展和社會(huì)穩(wěn)定，為地方財(cái)政收入做出積極的貢獻(xiàn)。3、項(xiàng)目達(dá)產(chǎn)年投資利潤(rùn)率34.47%，投資利稅率41.07%，全部投資回報(bào)率25.85%，全部投資回收期5.37年，固定資產(chǎn)投資回收期5.37年（含建設(shè)期），項(xiàng)目具有較強(qiáng)的盈利能力和抗風(fēng)險(xiǎn)能力。改革開(kāi)放40年來(lái)，民間投資和民營(yíng)經(jīng)濟(jì)由小到大、由弱變強(qiáng)，已日漸成為推動(dòng)我國(guó)經(jīng)濟(jì)發(fā)展、優(yōu)化產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)、繁榮城鄉(xiāng)市場(chǎng)、擴(kuò)大社

9、會(huì)就業(yè)的重要力量。從投資總量占比看，2012年以來(lái)，民間投資占全國(guó)固定資產(chǎn)投資比重已連續(xù)5年超過(guò)60%，最高時(shí)候達(dá)到65.4%；尤其是在制造業(yè)領(lǐng)域，目前民間投資的比重已經(jīng)超過(guò)八成，民間投資已經(jīng)成為投資的主力軍。民間投資是我國(guó)制造業(yè)發(fā)展的主要力量，約占制造業(yè)投資的85%以上，黨中央、國(guó)務(wù)院一直高度重視民間投資的健康發(fā)展。為貫徹黨的十九大精神，落實(shí)國(guó)務(wù)院對(duì)促進(jìn)民間投資的一系列工作部署，工業(yè)和信息化部與發(fā)展改革委、科技部、財(cái)政部等15個(gè)相關(guān)部門和單位聯(lián)合印發(fā)了關(guān)于發(fā)揮民間投資作用推進(jìn)實(shí)施制造強(qiáng)國(guó)戰(zhàn)略的指導(dǎo)意見(jiàn)，圍繞中國(guó)制造2025，明確了促進(jìn)民營(yíng)制造業(yè)企業(yè)健康發(fā)展的指導(dǎo)思想、主要任務(wù)和保障措施，旨在

10、釋放民間投資活力，引導(dǎo)民營(yíng)制造業(yè)企業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)，加快制造強(qiáng)國(guó)建設(shè)。發(fā)揮市場(chǎng)機(jī)制，轉(zhuǎn)變政府職能。緊緊圍繞使市場(chǎng)在資源配置中起決定性作用和更好發(fā)揮政府作用，著力加強(qiáng)供給側(cè)改革，提高供給體系質(zhì)量和效率，統(tǒng)籌使用經(jīng)濟(jì)、法律和政策手段，加強(qiáng)對(duì)產(chǎn)業(yè)的引導(dǎo)和規(guī)范，促進(jìn)產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)優(yōu)化升級(jí)。實(shí)施負(fù)面清單管理，進(jìn)一步消除制約科學(xué)發(fā)展的體制性障礙，不斷激發(fā)和提升市場(chǎng)主體的發(fā)展活力。三、主要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)主要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)一覽表序號(hào)項(xiàng)目單位指標(biāo)備注1占地面積平方米20316.8230.46畝1.1容積率1.661.2建筑系數(shù)70.73%1.3投資強(qiáng)度萬(wàn)元/畝165.251.4基底面積平方米14370.091.5總建筑面積平方米337

11、25.921.6綠化面積平方米2556.06綠化率7.58%2總投資萬(wàn)元6377.742.1固定資產(chǎn)投資萬(wàn)元5033.522.1.1土建工程投資萬(wàn)元2441.002.1.1.1土建工程投資占比萬(wàn)元38.27%2.1.2設(shè)備投資萬(wàn)元1612.102.1.2.1設(shè)備投資占比25.28%2.1.3其它投資萬(wàn)元980.422.1.3.1其它投資占比15.37%2.1.4固定資產(chǎn)投資占比78.92%2.2流動(dòng)資金萬(wàn)元1344.222.2.1流動(dòng)資金占比21.08%3收入萬(wàn)元9125.004總成本萬(wàn)元6926.405利潤(rùn)總額萬(wàn)元2198.606凈利潤(rùn)萬(wàn)元1648.957所得稅萬(wàn)元1.668增值稅萬(wàn)元303

12、.269稅金及附加萬(wàn)元117.6610納稅總額萬(wàn)元970.5711利稅總額萬(wàn)元2619.5212投資利潤(rùn)率34.47%13投資利稅率41.07%14投資回報(bào)率25.85%15回收期年5.3716設(shè)備數(shù)量臺(tái)（套）6917年用電量千瓦時(shí)1267926.3818年用水量立方米5814.5119總能耗噸標(biāo)準(zhǔn)煤156.3320節(jié)能率20.57%21節(jié)能量噸標(biāo)準(zhǔn)煤57.8222員工數(shù)量人128 第二章 項(xiàng)目投資單位一、項(xiàng)目承辦單位基本情況（一）公司名稱xxx有限責(zé)任公司（二）公司簡(jiǎn)介順應(yīng)經(jīng)濟(jì)新常態(tài)，需要公司積極轉(zhuǎn)變發(fā)展方式，實(shí)現(xiàn)內(nèi)涵式增長(zhǎng)。為此，公司要求各級(jí)單位通過(guò)創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)、結(jié)構(gòu)優(yōu)化、產(chǎn)業(yè)升級(jí)、提升產(chǎn)品和

13、服務(wù)質(zhì)量、提高效率和效益等路徑，努力實(shí)現(xiàn)“做實(shí)、做強(qiáng)、做大、做好、做長(zhǎng)”的發(fā)展理念。本公司奉行“客戶至上，質(zhì)量保障”的服務(wù)宗旨，樹(shù)立“一切為客戶著想” 的經(jīng)營(yíng)理念，以高效、優(yōu)質(zhì)、優(yōu)惠的專業(yè)精神服務(wù)于新老客戶。 公司根據(jù)自身發(fā)展的需要，擬在項(xiàng)目建設(shè)地建設(shè)項(xiàng)目，同時(shí)，為公司后期產(chǎn)品的研制開(kāi)發(fā)預(yù)留發(fā)展余地，項(xiàng)目建成投產(chǎn)后，不僅大幅度提升項(xiàng)目承辦單位項(xiàng)目產(chǎn)品產(chǎn)業(yè)化水平，為新產(chǎn)品研發(fā)打下良好基礎(chǔ)，有力促進(jìn)公司經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益的提高，將帶動(dòng)區(qū)域內(nèi)相關(guān)行業(yè)發(fā)展，形成配套的產(chǎn)業(yè)集群，為當(dāng)?shù)亟?jīng)濟(jì)發(fā)展做出應(yīng)有的貢獻(xiàn)。公司是強(qiáng)調(diào)項(xiàng)目開(kāi)發(fā)、設(shè)計(jì)和經(jīng)營(yíng)服務(wù)的科技型企業(yè)，嚴(yán)格按照高新技術(shù)企業(yè)規(guī)范財(cái)務(wù)制度。截止2017年

14、底，公司經(jīng)濟(jì)狀況無(wú)不良資產(chǎn)發(fā)生，并嚴(yán)格控制企業(yè)高速發(fā)展帶來(lái)的高資產(chǎn)負(fù)債率。同時(shí)，為了創(chuàng)新需要及時(shí)的資金作保證，公司對(duì)研究開(kāi)發(fā)經(jīng)費(fèi)的投入和使用制定了相應(yīng)制度，每季度審核一次開(kāi)發(fā)經(jīng)費(fèi)支出情況，適時(shí)平衡各開(kāi)發(fā)項(xiàng)目經(jīng)費(fèi)使用，最大限度地保證開(kāi)發(fā)項(xiàng)目的資金落實(shí)。貫徹落實(shí)創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)發(fā)展戰(zhàn)略，堅(jiān)持問(wèn)題導(dǎo)向，面向未來(lái)發(fā)展，服務(wù)公司戰(zhàn)略，制定科技創(chuàng)新規(guī)劃及年度實(shí)施計(jì)劃，進(jìn)行核心工藝和關(guān)鍵技術(shù)攻關(guān)，建立了包括項(xiàng)目立項(xiàng)審批、實(shí)施監(jiān)督、效果評(píng)價(jià)、成果獎(jiǎng)勵(lì)等方面的技術(shù)創(chuàng)新管理機(jī)制。二、公司經(jīng)濟(jì)效益分析上一年度，xxx科技發(fā)展公司實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入5505.44萬(wàn)元，同比增長(zhǎng)11.24%（556.40萬(wàn)元）。其中，主營(yíng)業(yè)業(yè)務(wù)靶材生

15、產(chǎn)及銷售收入為4824.94萬(wàn)元，占營(yíng)業(yè)總收入的87.64%。上年度營(yíng)收情況一覽表序號(hào)項(xiàng)目第一季度第二季度第三季度第四季度合計(jì)1營(yíng)業(yè)收入1156.141541.521431.411376.365505.442主營(yíng)業(yè)務(wù)收入1013.241350.981254.481206.234824.942.1靶材(A)334.37445.82413.98398.061592.232.2靶材(B)233.04310.73288.53277.431109.742.3靶材(C)172.25229.67213.26205.06820.242.4靶材(D)121.59162.12150.54144.75578.992

16、.5靶材(E)81.06108.08100.3696.50386.002.6靶材(F)50.6667.5562.7260.31241.252.7靶材(.)20.2627.0225.0924.1296.503其他業(yè)務(wù)收入142.91190.54176.93170.13680.50根據(jù)初步統(tǒng)計(jì)測(cè)算，公司實(shí)現(xiàn)利潤(rùn)總額1227.26萬(wàn)元，較去年同期相比增長(zhǎng)278.18萬(wàn)元，增長(zhǎng)率29.31%；實(shí)現(xiàn)凈利潤(rùn)920.44萬(wàn)元，較去年同期相比增長(zhǎng)195.48萬(wàn)元，增長(zhǎng)率26.97%。上年度主要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)項(xiàng)目單位指標(biāo)完成營(yíng)業(yè)收入萬(wàn)元5505.44完成主營(yíng)業(yè)務(wù)收入萬(wàn)元4824.94主營(yíng)業(yè)務(wù)收入占比87.64%營(yíng)業(yè)收

17、入增長(zhǎng)率（同比）11.24%營(yíng)業(yè)收入增長(zhǎng)量（同比）萬(wàn)元556.40利潤(rùn)總額萬(wàn)元1227.26利潤(rùn)總額增長(zhǎng)率29.31%利潤(rùn)總額增長(zhǎng)量萬(wàn)元278.18凈利潤(rùn)萬(wàn)元920.44凈利潤(rùn)增長(zhǎng)率26.97%凈利潤(rùn)增長(zhǎng)量萬(wàn)元195.48投資利潤(rùn)率37.92%投資回報(bào)率28.44%財(cái)務(wù)內(nèi)部收益率27.25%企業(yè)總資產(chǎn)萬(wàn)元13964.47流動(dòng)資產(chǎn)總額占比萬(wàn)元38.43%流動(dòng)資產(chǎn)總額萬(wàn)元5366.61資產(chǎn)負(fù)債率28.34% 第三章 投資背景及必要性分析一、靶材項(xiàng)目背景分析濺射靶材是利用物理氣相沉積技術(shù)制備電子薄膜材料的被轟擊材料，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、太陽(yáng)能電池、平板顯示、信息存儲(chǔ)等領(lǐng)域，其中半導(dǎo)芯片用濺射靶材技

18、術(shù)要求最高，具有規(guī)?；a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量也相對(duì)較少，主要分布在美國(guó)、日本等國(guó)家和地區(qū)。中國(guó)濺射靶材行業(yè)起步較晚，目前仍然屬于一個(gè)較新的行業(yè)，受益于國(guó)家戰(zhàn)略的支持，已經(jīng)開(kāi)始出現(xiàn)少量專業(yè)從事高純?yōu)R射靶材研發(fā)和生產(chǎn)的企業(yè)(如江豐電子，有研新材等)，并成功開(kāi)發(fā)出一批高端應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材，為高純?yōu)R射靶材大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化提供了良好的研發(fā)基礎(chǔ)和市場(chǎng)化條件。靶材全球市場(chǎng)預(yù)計(jì)16-19復(fù)合增速13%。2016年全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)容量達(dá)113.6億美元，相比于2015年的94.8億美元增長(zhǎng)20%。預(yù)測(cè)2016-2019年均復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)13%，到2019年全球高純?yōu)R射靶材市場(chǎng)規(guī)模將超過(guò)163億美元。2016年全球靶材市

19、場(chǎng)的下游結(jié)構(gòu)中，半導(dǎo)體占比10%、平板顯示占34%、太陽(yáng)能電池占21%、記錄媒體占29%，靶材性能要求依次降低。市場(chǎng)集中度高，日、美占據(jù)80%高端靶材市場(chǎng)。濺射靶材由于其高技術(shù)、高投資、高客戶壁壘，具有規(guī)?；a(chǎn)能力企業(yè)較少，以霍尼韋爾、日礦金屬、東曹、普萊克斯等為代表的靶材龍頭企業(yè)2017年占據(jù)全球約80%靶材市場(chǎng)。美、日等跨國(guó)企業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈較為完整，囊括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用各個(gè)環(huán)節(jié)，主導(dǎo)高端的半導(dǎo)體靶材市場(chǎng)；韓國(guó)、新加坡及中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)擅長(zhǎng)磁記錄及光學(xué)薄膜領(lǐng)域，原料多從國(guó)外進(jìn)口；中國(guó)靶材產(chǎn)業(yè)正處于起步階段，逐步切入以原料以進(jìn)口為主的全球主流半導(dǎo)體、顯示、光伏等龍頭企業(yè)客戶。預(yù)計(jì)

20、2018-2020年國(guó)內(nèi)顯示靶材需求增速維持20-25%增速。中國(guó)大陸從上世紀(jì)80年代開(kāi)始進(jìn)入液晶顯示領(lǐng)域，在政府政策導(dǎo)向和產(chǎn)業(yè)扶植下，我國(guó)大陸液晶顯示產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展，成為平板顯示行業(yè)發(fā)展速度最快的地區(qū)。2016年中國(guó)平板顯示器件產(chǎn)業(yè)整體規(guī)模達(dá)到1500億元，同比增長(zhǎng)25.99%；2012-2016年國(guó)內(nèi)平板顯示增速基本保持在25%以上。此外考慮到國(guó)內(nèi)LCD國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程加速、再加上OLED滲透率有望快速提升，預(yù)計(jì)2018-2020年國(guó)內(nèi)平板顯示產(chǎn)業(yè)增速將至少維持在20-25%；對(duì)應(yīng)到國(guó)內(nèi)顯示靶材的需求也將相應(yīng)增加。靶材應(yīng)用的戰(zhàn)略高地17-20年全球半導(dǎo)體增速有望超預(yù)期，17年國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體增速24.

21、81%。半導(dǎo)體靶材性能要求位居各類應(yīng)用之首。半導(dǎo)體行業(yè)所需濺射靶材主要用于晶圓制造材料和封裝測(cè)試材料。芯片制造對(duì)濺射靶材純度要求很高，通常需達(dá)99.9995%（5N5）甚至99.9999%（6N）以上。2017全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)超預(yù)期增速21.62%，從下游需求結(jié)構(gòu)看，17年增長(zhǎng)主要源于半導(dǎo)體的主要應(yīng)用是集成電路中的存儲(chǔ)器，增速達(dá)到61.49%，增量來(lái)源于人工智能、大數(shù)據(jù)、汽車電子等領(lǐng)域?qū)Ω咝阅苄酒枨罂焖偬嵘?。?5年開(kāi)始國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)維持20%左右增速，漸成常態(tài)。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)從臺(tái)灣向國(guó)內(nèi)轉(zhuǎn)移的趨勢(shì)比較確定，國(guó)內(nèi)政策、資金、稅收等各方面也在扶持半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)基金第一期規(guī)模1,387億

22、元。，至少帶動(dòng)省市地方基金共4,651億元，拉動(dòng)國(guó)內(nèi)企業(yè)內(nèi)生增長(zhǎng)和海外并購(gòu)。未來(lái)第二期基金計(jì)劃啟動(dòng)，也將持續(xù)拉動(dòng)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)增長(zhǎng)。2011-2016全球半導(dǎo)體用靶材年復(fù)合增長(zhǎng)率3.17%，預(yù)計(jì)2018-2020國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體靶材需求增速在20%左右。國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(SEMI)全球半導(dǎo)體用濺射靶材銷售額從2011年的10.1億美元到2016年為11.7億美元，年均復(fù)合增長(zhǎng)率為3.17%，其中晶圓制造用濺射靶材年均復(fù)合增長(zhǎng)率為2.07%，封裝測(cè)試用濺射靶材年均復(fù)合增長(zhǎng)率為4.65%。2016年我國(guó)集成電路用濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模約14億元，年增速達(dá)20%。供給端，隨著國(guó)產(chǎn)濺射靶材技術(shù)成熟，尤其是國(guó)產(chǎn)濺

23、射靶材具備一定性價(jià)比優(yōu)勢(shì)，并且符合濺射靶材國(guó)產(chǎn)化的政策導(dǎo)向；需求端，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向國(guó)內(nèi)轉(zhuǎn)移的趨勢(shì)已基本確立，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)崛起將推動(dòng)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體靶材需求的提升。預(yù)計(jì)2018-2020年我國(guó)濺射靶材的市場(chǎng)規(guī)模有望持續(xù)擴(kuò)大，復(fù)合增速將維持在2016年20%左右增速水平。2011-2016全球太陽(yáng)能用靶材增速保持20%以上。太陽(yáng)能光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展給太陽(yáng)能電池用濺射靶材市場(chǎng)帶來(lái)了可觀的成長(zhǎng)空間，2016年全球太陽(yáng)能電池用濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模23.4億美元，在全球靶材市場(chǎng)中占比約21%。2011-2016年全球太陽(yáng)能靶材規(guī)模增速一直保持在20%以上。國(guó)內(nèi)靶材需求和供給反差懸殊，國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程加速。2015國(guó)內(nèi)靶

24、材需求全球占比近25%，年速約20%；但國(guó)內(nèi)靶材企業(yè)市場(chǎng)份額不到2%，供需比例反差明顯。隨著國(guó)內(nèi)濺射靶材技術(shù)的成熟和高純鋁生產(chǎn)技術(shù)的提高，我國(guó)靶材生產(chǎn)成本優(yōu)勢(shì)明顯，靶材原料之一高純鋁的國(guó)內(nèi)進(jìn)出口量差距也在逐步縮小。隨著2019年國(guó)家進(jìn)口靶材免稅期結(jié)束，國(guó)內(nèi)靶材企業(yè)優(yōu)勢(shì)更加突出。預(yù)計(jì)2018-2020年國(guó)內(nèi)靶材需求將維持20%以上高速增長(zhǎng)，市場(chǎng)份額有望進(jìn)一步擴(kuò)大。二、靶材項(xiàng)目建設(shè)必要性分析靶材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)息息相關(guān)，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進(jìn)，靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。鍍膜靶材是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上

25、形成各種功能薄膜的濺射源。簡(jiǎn)單說(shuō)的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長(zhǎng)的激光與不同的靶材相互作用時(shí)，會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等)，即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。各種類型的濺射薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀(jì)90年代以來(lái)，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導(dǎo)體集成電路制造過(guò)程中，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替

26、鋁膜布線：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展，有的已經(jīng)用于電腦及計(jì)算機(jī)的顯示器制造;在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲(chǔ)器的存儲(chǔ)容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對(duì)所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來(lái)越高的要求，需求數(shù)量也逐年增加。日本。就美國(guó)而言.約有50家中小規(guī)模的靶材制造商及經(jīng)銷商，其中最大的公司員工大約有幾百人。不過(guò)為了能更接近使用者，以便提供更完善的售后服務(wù)，全球主要靶材制造商通常會(huì)在客戶所在地設(shè)立分公司。近段時(shí)間，亞洲的一些國(guó)家和地區(qū)，如臺(tái)灣.韓國(guó)和新加坡，就建立了越來(lái)越多制造薄膜元件或產(chǎn)品的工廠，如IC、液晶顯示器及光碟制造廠。對(duì)靶材廠

27、商而言，這是相當(dāng)重要的新興市場(chǎng)。中國(guó)靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展也是與日俱增，不斷的擴(kuò)大自己的規(guī)模和生產(chǎn)技術(shù)，國(guó)內(nèi)一線生產(chǎn)制造靶材的品牌已經(jīng)達(dá)到國(guó)外最頂尖的技術(shù)水平。2010年，日本三菱公司就在中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)建立了光碟塒靶材的生產(chǎn)基地，可以滿足臺(tái)灣50%的靶材需要。BCC(BusinessCommunicationsCompany，商業(yè)咨詢公司)最新的統(tǒng)計(jì)報(bào)告指出，全球靶材市場(chǎng)將以8.8%的年平均增長(zhǎng)率(AAGR)在今后的5年內(nèi)持續(xù)增長(zhǎng)，估計(jì)銷售額將從1999年的7.2億美元增加到2004年的11億美元。靶材是一種具有高附加價(jià)值的特種電子材料，主要使用在微電子，顯示器，存儲(chǔ)器以及光學(xué)鍍膜等產(chǎn)業(yè)上，用以濺射用于尖

28、端技術(shù)的各種薄膜材料。BCC的報(bào)告顯示：全球的上述產(chǎn)業(yè)在1999年使用了2.88百萬(wàn)公斤靶材。換算為面積，則濺射了363百萬(wàn)平方米的薄膜。而若以單位靶材來(lái)計(jì)算，全球在1999年則大約使用了37400單位的靶材。這里所要指出的是，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的不同，靶材的形狀與大小也有所差異，其直徑從15Gm到3m都有，而上述的統(tǒng)計(jì)資料，則是平均化后的結(jié)果。在所有應(yīng)用產(chǎn)業(yè)中，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是最苛刻的。如今12英寸(300衄口)的硅晶片已制造出來(lái).而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對(duì)靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細(xì)晶粒，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。靶材的結(jié)晶粒子直徑和均勻性已

29、被認(rèn)為是影響薄膜沉積率的關(guān)鍵因素。另外，薄膜的純度與靶材的純度關(guān)系極大，過(guò)去99.995%(4N5)純度的銅靶，或許能夠滿足半導(dǎo)體廠商0.35pm工藝的需求，但是卻無(wú)法滿足如今0.25um的工藝要求，而未米的0.18um藝甚至0.13m工藝，所需要的靶材純度將要求達(dá)到5甚至6N以上。平面顯示器(FPD)這些年來(lái)大幅沖擊以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機(jī)市場(chǎng)，亦將帶動(dòng)ITO靶材的技術(shù)與市場(chǎng)需求。如今的iTO靶材有兩種.一種是采用納米狀態(tài)的氧化銦和氧化錫粉混合后燒結(jié)，一種是采用銦錫合金靶材。銦錫合金靶材可以采用直流反應(yīng)濺射制造ITO薄膜，但是靶表面會(huì)氧化而影響濺射率，并且不易得到大尺寸

30、的臺(tái)金靶材。如今一般采取第一種方法生產(chǎn)ITO靶材，利用LIRF反應(yīng)濺射鍍膜.靶材具有沉積速度快.且能精確控制膜厚，電導(dǎo)率高，薄膜的一致性好，與基板的附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)l。但是靶材制作困難，這是因?yàn)檠趸熀脱趸a不容易燒結(jié)在一起。一般采用ZrO2、Bi2O3、CeO等作為燒結(jié)添加劑，能夠獲得密度為理論值的93%98%的靶材，這種方式形成的ITO薄膜的性能與添加劑的關(guān)系極大。在儲(chǔ)存技術(shù)方面，高密度、大容量硬盤的發(fā)展，需要大量的巨磁阻薄膜材料，CoFCu多層復(fù)合膜是如今應(yīng)用廣泛的巨磁阻薄膜結(jié)構(gòu)。磁光盤需要的TbFeCo合金靶材還在進(jìn)一步發(fā)展，用它制造的磁光盤具有存儲(chǔ)容量大，壽命長(zhǎng)，可反復(fù)無(wú)接觸擦寫(xiě)的特點(diǎn)

31、。如今開(kāi)發(fā)出來(lái)的磁光盤，具有TbFeCo/Ta和TbFeCo/Al的層復(fù)合膜結(jié)構(gòu)，TbFeCo/AI結(jié)構(gòu)的Kerr旋轉(zhuǎn)角達(dá)到58，而TbFeCofFa則可以接近0.8。經(jīng)過(guò)研究發(fā)現(xiàn)，低磁導(dǎo)率的靶材高交流局部放電電壓l抗電強(qiáng)度?；阪N銻碲化物的相變存儲(chǔ)器(PCM)顯示出顯著的商業(yè)化潛力,是NOR型閃存和部分DRAM市場(chǎng)的一項(xiàng)替代性存儲(chǔ)器技術(shù)，不過(guò),在實(shí)現(xiàn)更快速地按比例縮小的道路上存在的挑戰(zhàn)之一,便是缺乏能夠生產(chǎn)可進(jìn)一步調(diào)低復(fù)位電流的完全密閉單元。降低復(fù)位電流可降低存儲(chǔ)器的耗電量,延長(zhǎng)電池壽命和提高數(shù)據(jù)帶寬,這對(duì)于當(dāng)前以數(shù)據(jù)為中心的、高度便攜式的消費(fèi)設(shè)備來(lái)說(shuō)都是很重要的特征。 第四章 市場(chǎng)研究分析

32、一、靶材行業(yè)分析靶材是濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材。是制備晶圓、面板、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。高純度濺射靶材主要應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積（PhysicalVaporDeposition，PVD）工藝。PVD鍍膜目前主要有三種形式，分別是濺射鍍膜、蒸發(fā)鍍膜以及離子鍍膜。為推動(dòng)國(guó)內(nèi)靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展，增強(qiáng)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新能力和國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力，帶動(dòng)傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)改造和產(chǎn)品升級(jí)換代，我國(guó)制定了一系列靶材行業(yè)相關(guān)支持政策。靶材行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用等環(huán)節(jié)。其中，靶材制造和濺射鍍膜環(huán)節(jié)是整個(gè)靶材產(chǎn)業(yè)鏈中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。靶材產(chǎn)業(yè)下游包括半導(dǎo)體、光伏電池、平板顯示器等等，其

33、中，半導(dǎo)體芯片行業(yè)用的金屬靶材，主要種類包括：銅、鉭、鋁、鈦、鈷和鎢等高純靶材，以及鎳鉑、鎢鈦等合金類的靶材。銅靶和鉭靶通常配合起來(lái)使用。靶材主要應(yīng)用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。其中，在靶材應(yīng)用領(lǐng)域中，半導(dǎo)體芯片對(duì)靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面都設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn)，需要掌握生產(chǎn)過(guò)程中的關(guān)鍵技術(shù)并經(jīng)過(guò)長(zhǎng)期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品。因此，半導(dǎo)體芯片對(duì)靶材的要求是最高的，價(jià)格也最為昂貴。半導(dǎo)體芯片行業(yè)是金屬濺射靶材的主要應(yīng)用領(lǐng)域之一，也是對(duì)靶材的成分、組織和性能要求最高的領(lǐng)域。目前晶圓的制造正朝著更小的制程方向發(fā)展，銅導(dǎo)線工藝的應(yīng)用量在逐步增大，因此，銅和鉭靶材的需

34、求將有望持續(xù)增長(zhǎng)。鋁靶和鈦靶通常配合起來(lái)使用。目前，在汽車電子芯片等需要110nm以上技術(shù)節(jié)點(diǎn)來(lái)保證其穩(wěn)定性和抗干擾性的領(lǐng)域，仍需大量使用鋁、鈦靶材。目前，全球的靶材制造行業(yè)，特別是高純度的靶材市場(chǎng)，呈現(xiàn)寡頭壟斷格局，主要由幾家美日大企業(yè)把持，如日本的三井礦業(yè)、日礦金屬、日本東曹、住友化學(xué)、日本愛(ài)發(fā)科，以及美國(guó)霍尼韋爾、普萊克斯等。日礦金屬是全球最大的靶材供應(yīng)商，靶材銷售額約占全球市場(chǎng)的30%，霍尼韋爾在并購(gòu)JohnsonMattey、整合高純鋁、鈦等原材料生產(chǎn)廠后，占到全球市約20%的份額，此外，東曹和普萊克斯分別占20%和10%。目前，國(guó)內(nèi)靶材廠商主要聚焦在低端產(chǎn)品領(lǐng)域，在半導(dǎo)體、平板顯示

35、器和太陽(yáng)能電池等市場(chǎng)還無(wú)法與國(guó)際巨頭全面競(jìng)爭(zhēng)。但是，依靠國(guó)內(nèi)的巨大市場(chǎng)潛力和利好的產(chǎn)業(yè)政策，以及產(chǎn)品價(jià)格優(yōu)勢(shì)，它們已經(jīng)在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)占有一定的市場(chǎng)份額，并逐步在個(gè)別細(xì)分領(lǐng)域搶占了部分國(guó)際大廠的市場(chǎng)空間。近年來(lái)，我國(guó)政府制定了一系列產(chǎn)業(yè)政策，如863計(jì)劃、02專項(xiàng)基金等來(lái)加速濺射靶材供應(yīng)的本土化進(jìn)程，推動(dòng)國(guó)產(chǎn)靶材在多個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)從無(wú)到有的跨越。這些都從國(guó)家戰(zhàn)略高度扶植并推動(dòng)著濺射靶材產(chǎn)業(yè)的發(fā)展壯大。二、靶材市場(chǎng)分析預(yù)測(cè)超大規(guī)模集成電路制造過(guò)程中要反復(fù)用到的濺射（Sputtering）工藝屬于物理氣相沉積（PVD）技術(shù)的一種，是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在高真空中經(jīng)過(guò)加

36、速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開(kāi)固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。一般來(lái)說(shuō)，濺射靶材主要由靶坯、背板等部分構(gòu)成，其中，靶坯是高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料，屬于濺射靶材的核心部分，在濺射鍍膜過(guò)程中，靶坯被離子撞擊后，其表面原子被濺射飛散出來(lái)并沉積于基板上制成電子薄膜；由于高純度金屬?gòu)?qiáng)度較低，而濺射靶材需要安裝在專用的機(jī)臺(tái)內(nèi)完成濺射過(guò)程，機(jī)臺(tái)內(nèi)部為高電壓、高真空環(huán)境，因此，超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過(guò)不同的焊接工藝進(jìn)行接合，背板起到主要起到固定濺射靶材的作用，且需要具備良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱

37、性能。在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中，半導(dǎo)體芯片對(duì)濺射靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面都設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn)，需要掌握生產(chǎn)過(guò)程中的關(guān)鍵技術(shù)并經(jīng)過(guò)長(zhǎng)期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品，因此，半導(dǎo)體芯片對(duì)濺射靶材的要求是最高的，價(jià)格也最為昂貴；相較于半導(dǎo)體芯片，平面顯示器、太陽(yáng)能電池對(duì)于濺射靶材的純度和技術(shù)要求略低一籌，但隨著靶材尺寸的增大，對(duì)濺射靶材的焊接結(jié)合率、平整度等指標(biāo)提出了更高的要求。此外，濺射靶材需要安裝在濺射機(jī)臺(tái)內(nèi)完成濺射過(guò)程，濺射機(jī)臺(tái)專用性強(qiáng)，對(duì)濺射靶材的形狀、尺寸和精度也設(shè)定了諸多限制。高純度乃至超高純度的金屬材料是生產(chǎn)高純?yōu)R射靶材的基礎(chǔ)，以半導(dǎo)體芯片用濺射靶材為例，若濺射靶材雜質(zhì)含量

38、過(guò)高，則形成的薄膜無(wú)法達(dá)到使用所要求的電性能，并且在濺射過(guò)程中易在晶圓上形成微粒，導(dǎo)致電路短路或損壞，嚴(yán)重影響薄膜的性能。通常情況下，高純金屬提純分為化學(xué)提純和物理提純，為了獲得更高純度的金屬材料，最大限度地去除雜質(zhì)，需要將化學(xué)提純和物理提純結(jié)合使用。在將金屬提純到相當(dāng)高的純度后，往往還需配比其他金屬元素才能投入使用，在這個(gè)過(guò)程中，需要經(jīng)過(guò)熔煉、合金化和鑄造等步驟：通過(guò)精煉高純金屬，去除氧氣、氮?dú)獾榷嘤鄽怏w；再加入少量合金元素，使其與高純金屬充分結(jié)合并均勻分布；最后將其鑄造成沒(méi)有缺陷的錠材，滿足生產(chǎn)加工過(guò)程中對(duì)金屬成份、尺寸大小的要求。濺射靶材制造環(huán)節(jié)首先需要根據(jù)下游應(yīng)用領(lǐng)域的性能需求進(jìn)行工藝

39、設(shè)計(jì)，然后進(jìn)行反復(fù)的塑性變形、熱處理，需要精確地控制晶粒、晶向等關(guān)鍵指標(biāo)，再經(jīng)過(guò)焊接、機(jī)械加工、清洗干燥、真空包裝等工序。濺射靶材制造所涉及的工序精細(xì)且繁多，工序流程管理及制造工藝水平將直接影響到濺射靶材的質(zhì)量和良品率。濺射鍍膜是指物體被離子撞擊時(shí)，被濺射飛散出，因被濺射飛散的物體附著于目標(biāo)基板上而制成薄膜的過(guò)程，濺射靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料。此環(huán)節(jié)是在濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈條中對(duì)生產(chǎn)設(shè)備及技術(shù)工藝要求最高的環(huán)節(jié)，濺射薄膜的品質(zhì)對(duì)下游產(chǎn)品的質(zhì)量具有重要影響。在濺射鍍膜過(guò)程中，濺射靶材需要安裝在機(jī)臺(tái)中完成濺射反應(yīng)，濺射機(jī)臺(tái)專用性強(qiáng)、精密度高，市場(chǎng)長(zhǎng)期被美國(guó)、日本跨國(guó)集團(tuán)壟斷，主要設(shè)備提供商包括

40、AMAT（美國(guó)）、ULVAC（日本）、ANELVA（日本）、Varian（美國(guó)）等行業(yè)內(nèi)知名企業(yè)。終端應(yīng)用是針對(duì)各類市場(chǎng)需求利用封裝好的元器件制成面向最終用戶的產(chǎn)品，包括汽車電子、智能手機(jī)、平板電腦、家用電器等終端消費(fèi)電子產(chǎn)品。通常情況下，在半導(dǎo)體靶材濺射鍍膜后，需要將鍍膜硅片切割并進(jìn)行芯片封裝。封裝是指將電路用導(dǎo)線連接到外部接頭處，以便與其他器件連接的工序，不僅能夠起到保護(hù)芯片的作用，還將芯片與外界隔離，防止空氣中的雜質(zhì)對(duì)芯片電路造成腐蝕而損害導(dǎo)電性能。此外，終端應(yīng)用也包括制備太陽(yáng)能電池、光學(xué)鍍膜、工具改性、高檔裝飾用品等，此環(huán)節(jié)技術(shù)面較寬，呈現(xiàn)多樣化特征。全球范圍內(nèi)，濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)參

41、與企業(yè)數(shù)量基本呈金字塔型分布，高純?yōu)R射靶材制造環(huán)節(jié)技術(shù)門檻高、設(shè)備投資大，具有規(guī)?；a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量相對(duì)較少，主要分布在美國(guó)、日本等國(guó)家和地區(qū)，其中，部分企業(yè)同時(shí)開(kāi)展金屬提純業(yè)務(wù)，將產(chǎn)業(yè)鏈延伸到上游領(lǐng)域；部分企業(yè)只擁有濺射靶材生產(chǎn)能力，高純度金屬需要上游企業(yè)供應(yīng)。濺射靶材最高端的應(yīng)用是在超大規(guī)模集成電路芯片制造領(lǐng)域，這個(gè)領(lǐng)域只有美國(guó)和日本的少數(shù)公司（日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯等）從事相關(guān)業(yè)務(wù)，是一個(gè)被跨國(guó)公司壟斷的行業(yè)。作為濺射靶材客戶端的濺射鍍膜環(huán)節(jié)具有規(guī)?；a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量相對(duì)較多，但質(zhì)量參差不齊，美國(guó)、歐洲、日本、韓國(guó)等知名企業(yè)居于技術(shù)領(lǐng)先地位，品牌知名度高、市場(chǎng)影響力大，通

42、常會(huì)將產(chǎn)業(yè)鏈擴(kuò)展至下游應(yīng)用領(lǐng)域，利用技術(shù)先導(dǎo)優(yōu)勢(shì)和高端品牌迅速占領(lǐng)終端消費(fèi)市場(chǎng)，如IBM、飛利浦、東芝、三星等。終端應(yīng)用環(huán)節(jié)是整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈中規(guī)模最大的領(lǐng)域，其產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)與生產(chǎn)分散在各個(gè)行業(yè)領(lǐng)域，同時(shí)，此環(huán)節(jié)具有突出的勞動(dòng)密集性特點(diǎn)，參與企業(yè)數(shù)量最多，機(jī)器設(shè)備投資一般，主要分布在日本、中國(guó)臺(tái)灣和中國(guó)大陸等，并逐漸將生產(chǎn)工廠向人力成本低的國(guó)家和地區(qū)轉(zhuǎn)移。濺射靶材產(chǎn)業(yè)分布具有一定的區(qū)域性特征，美國(guó)、日本跨國(guó)集團(tuán)產(chǎn)業(yè)鏈完整，囊括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用各個(gè)環(huán)節(jié)，具備規(guī)?；a(chǎn)能力，在掌握先進(jìn)技術(shù)以后實(shí)施壟斷和封鎖，主導(dǎo)著技術(shù)革新和產(chǎn)業(yè)發(fā)展；韓國(guó)、新加坡及中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)在磁記錄及光學(xué)薄膜領(lǐng)域有

43、所特長(zhǎng)。另外由于上述地區(qū)芯片及液晶面板產(chǎn)業(yè)發(fā)展較早，促使服務(wù)分工明確，可以為產(chǎn)業(yè)鏈下游的品牌企業(yè)提供如焊接、清洗、包裝等專業(yè)代工服務(wù)，將上游基礎(chǔ)材料和下游終端應(yīng)用對(duì)接，起到承上啟下的作用，并在一定程度上推動(dòng)上游濺射靶材的產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和市場(chǎng)擴(kuò)展。但是上述地區(qū)的靶材服務(wù)廠商缺少核心技術(shù)及裝備，不能夠在金屬的提純、組織的控制等核心技術(shù)領(lǐng)域形成競(jìng)爭(zhēng)力濺射靶材的材料即靶坯依然依賴美國(guó)和日本的進(jìn)口。超高純金屬材料及濺射靶材在我國(guó)還屬于較新的行業(yè)，以芯片制造廠商、液晶面板制造企業(yè)為代表的下游濺射鍍膜和終端用戶正在加大力度擴(kuò)展產(chǎn)能。從全球來(lái)看，芯片及液晶面板行業(yè)制造向中國(guó)大陸轉(zhuǎn)移趨勢(shì)愈演愈烈，中國(guó)正在迎來(lái)這一領(lǐng)域

44、的投資高峰。為此高端濺射靶材的應(yīng)用市場(chǎng)需求正在快速增長(zhǎng)。由于濺射鍍膜工藝起源于國(guó)外，所需要的濺射靶材產(chǎn)品性能要求高、專業(yè)應(yīng)用性強(qiáng)，因此，長(zhǎng)期以來(lái)全球?yàn)R射靶材研制和生產(chǎn)主要集中在美國(guó)、日本少數(shù)幾家公司，產(chǎn)業(yè)集中度相當(dāng)高。以霍尼韋爾（美國(guó)）、日礦金屬（日本）、東曹（日本）等跨國(guó)集團(tuán)為代表的濺射靶材生產(chǎn)商較早涉足該領(lǐng)域，經(jīng)過(guò)幾十年的技術(shù)積淀，憑借其雄厚的技術(shù)力量、精細(xì)的生產(chǎn)控制和過(guò)硬的產(chǎn)品質(zhì)量居于全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)的主導(dǎo)地位，占據(jù)絕大部分市場(chǎng)份額。這些企業(yè)在掌握濺射靶材生產(chǎn)的核心技術(shù)以后，實(shí)施極其嚴(yán)格的保密措施，限制技術(shù)擴(kuò)散，同時(shí)不斷進(jìn)行橫向擴(kuò)張和垂直整合，將業(yè)務(wù)觸角積極擴(kuò)展到濺射鍍膜的各個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域，

45、牢牢把握著全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)的主動(dòng)權(quán)，并引領(lǐng)著全球?yàn)R射靶材行業(yè)的技術(shù)進(jìn)步。受到發(fā)展歷史和技術(shù)限制的影響，濺射靶材行業(yè)在我國(guó)起步較晚，目前仍然屬于一個(gè)較新的行業(yè)。與國(guó)際知名企業(yè)生產(chǎn)的濺射靶材相比，我國(guó)濺射靶材研發(fā)生產(chǎn)技術(shù)還存在一定差距，市場(chǎng)影響力相對(duì)有限，尤其在半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域，全球高純?yōu)R射靶材市場(chǎng)依然被美國(guó)、日本的濺射靶材生產(chǎn)廠商所控制或壟斷。隨著濺射靶材朝著更高純度、更大尺寸的方向發(fā)展，我國(guó)濺射靶材生產(chǎn)企業(yè)只有不斷進(jìn)行研發(fā)創(chuàng)新，具備較強(qiáng)的產(chǎn)品開(kāi)發(fā)能力，研制出適用不同應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材產(chǎn)品，才能在全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)中占得一席之地。半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽(yáng)能電池等下游工業(yè)

46、對(duì)產(chǎn)品的品質(zhì)和穩(wěn)定性等方面有較高的要求，為了嚴(yán)格控制產(chǎn)品質(zhì)量，下游客戶尤其是全球知名廠商在選擇供應(yīng)商時(shí)，供應(yīng)商資格認(rèn)證壁壘較高，且認(rèn)證周期較長(zhǎng)。我國(guó)高純?yōu)R射靶材企業(yè)要進(jìn)入國(guó)際市場(chǎng)，首先要通過(guò)部分國(guó)際組織和行業(yè)協(xié)會(huì)為高純?yōu)R射靶材設(shè)置的行業(yè)性質(zhì)量管理體系標(biāo)準(zhǔn)，例如，應(yīng)用于汽車電子的半導(dǎo)體廠商普遍要求上游濺射靶材供應(yīng)商能夠通過(guò)ISO/TS16949質(zhì)量管理體系認(rèn)證，應(yīng)用于電器設(shè)備的濺射靶材生產(chǎn)商需要滿足歐盟制定的RoHS強(qiáng)制性標(biāo)準(zhǔn)；其次，半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽(yáng)能電池等下游知名客戶均建立了十分完善的客戶認(rèn)證體系，在高純?yōu)R射靶材供應(yīng)商滿足行業(yè)性質(zhì)量管理體系認(rèn)證的基礎(chǔ)上，下游客戶往往還會(huì)根據(jù)自身的質(zhì)

47、量管理要求再對(duì)供應(yīng)商進(jìn)行合格供應(yīng)商認(rèn)證。認(rèn)證過(guò)程主要包括技術(shù)評(píng)審、產(chǎn)品報(bào)價(jià)、樣品檢測(cè)、小批量試用、批量生產(chǎn)等幾個(gè)階段，認(rèn)證過(guò)程相當(dāng)苛刻，從新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)到實(shí)現(xiàn)大批量供貨，整個(gè)過(guò)程一般需要2-3年時(shí)間。為了降低供應(yīng)商開(kāi)發(fā)與維護(hù)成本，保證產(chǎn)品質(zhì)量的持續(xù)性，濺射靶材供應(yīng)商在通過(guò)下游客戶的資格認(rèn)證后，下游客戶會(huì)與濺射靶材供應(yīng)商保持長(zhǎng)期穩(wěn)定的合作關(guān)系，不會(huì)輕易更換供應(yīng)商，并在技術(shù)合作、供貨份額等方面向優(yōu)質(zhì)供應(yīng)商傾斜。近年來(lái)，受益于國(guó)家從戰(zhàn)略高度持續(xù)地支持電子材料行業(yè)的發(fā)展及應(yīng)用推廣，我國(guó)國(guó)內(nèi)開(kāi)始出現(xiàn)不少專業(yè)從事高純?yōu)R射靶材研發(fā)和生產(chǎn)的企業(yè)，并成功開(kāi)發(fā)出一批能適應(yīng)高端應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材，為高純?yōu)R射靶材大規(guī)模產(chǎn)

48、業(yè)化提供了良好的研發(fā)基礎(chǔ)和市場(chǎng)化條件。通過(guò)將濺射靶材研發(fā)成果產(chǎn)業(yè)化，積極參與濺射靶材的國(guó)際化市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)，我國(guó)濺射靶材生產(chǎn)企業(yè)在技術(shù)和市場(chǎng)方面都取得了長(zhǎng)足的進(jìn)步，改變了高純?yōu)R射靶材長(zhǎng)期依賴進(jìn)口的不利局面。目前，包括長(zhǎng)沙鑫康在內(nèi)的一些國(guó)內(nèi)企業(yè)已經(jīng)掌握了高純?yōu)R射靶材生產(chǎn)的關(guān)鍵技術(shù)，積累了較為豐富的產(chǎn)業(yè)經(jīng)驗(yàn)，擁有了一定的市場(chǎng)知名度，獲得了全球知名客戶的認(rèn)可。 第五章 產(chǎn)品規(guī)劃及建設(shè)規(guī)模一、產(chǎn)品規(guī)劃項(xiàng)目主要產(chǎn)品為靶材，根據(jù)市場(chǎng)情況，預(yù)計(jì)年產(chǎn)值9125.00萬(wàn)元。進(jìn)入二十一世紀(jì)以來(lái)，隨著我國(guó)國(guó)民經(jīng)濟(jì)的快速持續(xù)發(fā)展，經(jīng)濟(jì)建設(shè)提出了走新型工業(yè)化發(fā)展道路的目標(biāo)，國(guó)家出臺(tái)并實(shí)施了加快經(jīng)濟(jì)發(fā)展的一系列政策，對(duì)于相關(guān)行

49、業(yè)來(lái)說(shuō)，調(diào)整產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)、提高管理水平、籌措發(fā)展資金、參與國(guó)際分工，都將起到積極的推動(dòng)作用，尤其是隨著我國(guó)國(guó)民經(jīng)濟(jì)逐漸融入全球經(jīng)濟(jì)大循環(huán)，各行各業(yè)面臨市場(chǎng)國(guó)際化，相應(yīng)企業(yè)將面對(duì)極具技術(shù)優(yōu)勢(shì)、管理優(yōu)勢(shì)、品牌優(yōu)勢(shì)的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手，市場(chǎng)份額將會(huì)形成新的分配格局。二、建設(shè)規(guī)模（一）用地規(guī)模該項(xiàng)目總征地面積20316.82平方米（折合約30.46畝），其中：凈用地面積20316.82平方米（紅線范圍折合約30.46畝）。項(xiàng)目規(guī)劃總建筑面積33725.92平方米，其中：規(guī)劃建設(shè)主體工程23209.37平方米，計(jì)容建筑面積33725.92平方米；預(yù)計(jì)建筑工程投資2441.00萬(wàn)元。（二）設(shè)備購(gòu)置項(xiàng)目計(jì)劃購(gòu)置設(shè)備共計(jì)6

50、9臺(tái)（套），設(shè)備購(gòu)置費(fèi)1612.10萬(wàn)元。（三）產(chǎn)能規(guī)模項(xiàng)目計(jì)劃總投資6377.74萬(wàn)元；預(yù)計(jì)年實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入9125.00萬(wàn)元。 第六章 選址分析一、項(xiàng)目選址該項(xiàng)目選址位于xxx工業(yè)園。園區(qū)規(guī)劃面積50平方公里，啟動(dòng)區(qū)面積為10平方公里，處于多條高速公路交織地帶，是貴州省東西、南北交通節(jié)點(diǎn)城市，也是陸路出海通道必經(jīng)之地。鐵路與公路交通極其便利。目前園區(qū)內(nèi)已成為全省重要的經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng)極，是發(fā)揮自身資源優(yōu)勢(shì)與產(chǎn)業(yè)集群效應(yīng)的重要平臺(tái)。區(qū)內(nèi)地勢(shì)平坦，交通便利，建區(qū)幾年來(lái)，區(qū)內(nèi)基礎(chǔ)設(shè)施完善、配套，形成了高標(biāo)準(zhǔn)的街路網(wǎng)，中心基礎(chǔ)設(shè)施已完成“七通一平”（上水、下水、電、氣、熱、通訊、路通、地勢(shì)平），是業(yè)主投資辦

51、廠的理想場(chǎng)所。園區(qū)推動(dòng)新型工業(yè)化和信息化兩化融合發(fā)展。鼓勵(lì)產(chǎn)業(yè)園區(qū)制訂信息化行業(yè)解決方案，提高行業(yè)信息化應(yīng)用的深度和廣度。大力實(shí)施企業(yè)信息化登高計(jì)劃，積極開(kāi)展企業(yè)信息化試點(diǎn)，支持企業(yè)信息化外包服務(wù)。推動(dòng)產(chǎn)業(yè)園區(qū)信息基礎(chǔ)設(shè)施建設(shè)，依托云計(jì)算服務(wù)平臺(tái)，建立公共基礎(chǔ)數(shù)據(jù)庫(kù)、經(jīng)濟(jì)運(yùn)行監(jiān)測(cè)、運(yùn)營(yíng)管理、產(chǎn)業(yè)服務(wù)、信用管理等公共信息服務(wù)平臺(tái)發(fā)展，共享信息化成果。對(duì)周圍環(huán)境不應(yīng)產(chǎn)生污染或?qū)χ車h(huán)境污染不超過(guò)國(guó)家有關(guān)法律和現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)的允許范圍，不會(huì)引起當(dāng)?shù)鼐用竦牟粷M，不會(huì)造成不良的社會(huì)影響。近年來(lái)，項(xiàng)目承辦單位培養(yǎng)了一大批精通各個(gè)工藝流程的優(yōu)秀技術(shù)工人；企業(yè)的人才培養(yǎng)和建設(shè)始終走在當(dāng)?shù)叵嚓P(guān)行業(yè)的前列，具有顯著的人

52、才優(yōu)勢(shì)；項(xiàng)目承辦單位還與多家科研院所建立了長(zhǎng)期的緊密合作關(guān)系，并建立了向科研開(kāi)發(fā)傾斜的獎(jiǎng)勵(lì)機(jī)制，每年都拿出一定數(shù)量的專項(xiàng)資金用于對(duì)重點(diǎn)產(chǎn)品及關(guān)鍵工藝開(kāi)發(fā)的獎(jiǎng)勵(lì)。二、用地控制指標(biāo)該項(xiàng)目均按照項(xiàng)目建設(shè)地建設(shè)用地規(guī)劃許可證及建設(shè)用地規(guī)劃設(shè)計(jì)要求進(jìn)行設(shè)計(jì)，同時(shí)，嚴(yán)格按照項(xiàng)目建設(shè)地建設(shè)規(guī)劃部門與國(guó)土資源管理部門提供的界址點(diǎn)坐標(biāo)及用地方案圖布置場(chǎng)區(qū)總平面圖。該項(xiàng)目均按照項(xiàng)目建設(shè)地建設(shè)用地規(guī)劃許可證及建設(shè)用地規(guī)劃設(shè)計(jì)要求進(jìn)行設(shè)計(jì)，同時(shí)，嚴(yán)格按照項(xiàng)目建設(shè)地建設(shè)規(guī)劃部門與國(guó)土資源管理部門提供的界址點(diǎn)坐標(biāo)及用地方案圖布置場(chǎng)區(qū)總平面圖。三、地總體要求本期工程項(xiàng)目建設(shè)規(guī)劃建筑系數(shù)70.73%，建筑容積率1.66，建設(shè)

53、區(qū)域綠化覆蓋率7.58%，固定資產(chǎn)投資強(qiáng)度165.25萬(wàn)元/畝。土建工程投資一覽表序號(hào)項(xiàng)目單位指標(biāo)備注1占地面積平方米20316.8230.46畝2基底面積平方米14370.093建筑面積平方米33725.922441.00萬(wàn)元4容積率1.665建筑系數(shù)70.73%6主體工程平方米23209.377綠化面積平方米2556.068綠化率7.58%9投資強(qiáng)度萬(wàn)元/畝165.25四、節(jié)約用地措施采用大跨度連跨廠房，方便生產(chǎn)設(shè)備的布置，提高廠房面積的利用率，有利于節(jié)約土地資源；原料及輔助材料倉(cāng)庫(kù)采用簡(jiǎn)易貨架，提高了庫(kù)房的面積和空間利用率，從而有效地節(jié)約土地資源。投資項(xiàng)目建設(shè)認(rèn)真貫徹執(zhí)行專業(yè)化生產(chǎn)的原則

54、，除了主要生產(chǎn)過(guò)程和關(guān)鍵工序由項(xiàng)目承辦單位實(shí)施外，其他附屬商品采取外協(xié)（外購(gòu)）的方式，從而減少重復(fù)建設(shè)，節(jié)約了資金、能源和土地資源。五、總圖布置方案1、按照建（構(gòu)）筑物的生產(chǎn)性質(zhì)和使用功能，項(xiàng)目總體設(shè)計(jì)根據(jù)物流關(guān)系將場(chǎng)區(qū)劃分為生產(chǎn)區(qū)、辦公生活區(qū)、公用設(shè)施區(qū)等三個(gè)功能區(qū)，要求功能分區(qū)明確，人流、物流便捷流暢，生產(chǎn)工藝流程順暢簡(jiǎn)捷；這樣布置既能充分利用現(xiàn)有場(chǎng)地，有利于生產(chǎn)設(shè)施的聯(lián)系，又有利于外部水、電、氣等能源的接入，管線敷設(shè)短捷，相互聯(lián)系方便。達(dá)到工藝流程（經(jīng)營(yíng)程序）順暢、原材料與各種物料的輸送線路最短、貨物人流分道、生產(chǎn)調(diào)度方便的標(biāo)準(zhǔn)要求。項(xiàng)目承辦單位項(xiàng)目建設(shè)場(chǎng)區(qū)主干道寬度6.00米，次干道寬

55、度3.00米，人行道寬度采用1.20米。道路路緣石轉(zhuǎn)彎半徑，一般需通行消防車的為12.00米，通行其它車輛的為9.00米、6.00米。道路均采用砼路面，道路類型為城市型。車間布置方案需要達(dá)到“物料流向最經(jīng)濟(jì)、操作控制最有利、檢測(cè)維修最方便”的要求。undefined2、場(chǎng)區(qū)綠化設(shè)計(jì)要達(dá)到“營(yíng)造嚴(yán)謹(jǐn)開(kāi)放的交流環(huán)境，催人奮進(jìn)的工作環(huán)境，舒適宜人的休閑環(huán)境，和諧統(tǒng)一的生態(tài)環(huán)境”之目的。投資項(xiàng)目采用雨、污分流制排水系統(tǒng)，分別匯集后排入項(xiàng)目建設(shè)區(qū)不同污水管網(wǎng)。項(xiàng)目所在地供水水源來(lái)自項(xiàng)目建設(shè)地自來(lái)水廠，給水壓力0.30Mpa，供水能力充足，水質(zhì)符合國(guó)家現(xiàn)行的生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)。undefined3、投資項(xiàng)

56、目生產(chǎn)給水的對(duì)象主要是各類清洗設(shè)備，其余輔助設(shè)備、空壓機(jī)及廠房?jī)?nèi)水冷制冷機(jī)組等均采取冷卻循環(huán)用水。電源設(shè)備選用隔爆型dBT4級(jí)防爆電器，照明導(dǎo)線穿鋼管敷設(shè)，其他環(huán)境按一般建筑物設(shè)計(jì)；進(jìn)入易燃易爆區(qū)域的各類電纜采用防火性能較高的阻燃電纜；場(chǎng)內(nèi)配電采用放射式配電方式，室外電纜直埋或電纜溝敷設(shè)，直埋埋深1.00米，過(guò)路及穿墻以鋼管保護(hù)。車間照明分為普通照明、值班照明、事故照明和局部照明；普通照明是整個(gè)照明系統(tǒng)應(yīng)用最多的系統(tǒng)，根據(jù)不同廠房對(duì)照度的要求，對(duì)燈具按照“合理、美觀、有效、節(jié)能”的原則進(jìn)行布置。高大空間的主體工程頂燈采用金屬鹵化物燈，車間沿生產(chǎn)線吊架上設(shè)置雙管熒光燈，檢測(cè)室采用熒光燈，車間局部采用節(jié)能燈，金屬鹵化物燈燈具為塊板式節(jié)能燈具，并帶電容補(bǔ)償，熒光燈采用高效反射燈具。4、場(chǎng)外運(yùn)輸主要為原材料的供給以及產(chǎn)品的外運(yùn)；產(chǎn)品的遠(yuǎn)距離運(yùn)輸由汽車或鐵路運(yùn)輸解決，項(xiàng)