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1、第七章多晶體織構(gòu)的測(cè)定【教學(xué)內(nèi)容】1織構(gòu)及其表示方法。2絲織構(gòu)指數(shù)的測(cè)定。3正極圖與反極圖的獲得與分析?!局攸c(diǎn)掌握內(nèi)容】1極射赤面投影法。2絲織構(gòu)指數(shù)的測(cè)定。3正極圖與反極圖的測(cè)定與分析?!玖私鈨?nèi)容】織構(gòu)的種類和表示方法。【教學(xué)難點(diǎn)】極射赤面投影法?!窘虒W(xué)目標(biāo)】1了解利用X射線衍射分析方法測(cè)定多晶體織構(gòu)的意義、原理和方法。2培養(yǎng)學(xué)生善于利用織構(gòu)測(cè)定方法解決實(shí)際問(wèn)題的能力?!窘虒W(xué)方法】以課堂教學(xué)為主,并通過(guò)一定的習(xí)題練習(xí),使學(xué)生了解X射線衍射分析方法在多晶體形變的各種織構(gòu)的測(cè)定方法。多晶體材料在制備、合成及加工等工藝過(guò)程形成擇優(yōu)取向,即各晶粒的取向朝一個(gè)或幾個(gè)特定方向偏聚的現(xiàn)像,這種組織狀態(tài)稱為
2、織構(gòu)。如材料經(jīng)拉拔、軋制、擠壓、旋壓等壓力加工后,由于塑性變形中晶粒方位轉(zhuǎn)動(dòng)、變形而形成形變織構(gòu);退火后又產(chǎn)生不同冷加工狀態(tài)的退火織構(gòu)(或再結(jié)晶織構(gòu)):鑄造材料具有某些晶向垂直于模壁的組織特點(diǎn),電鍍、真空蒸鍍、濺射等方法制備的薄膜材料也表現(xiàn)出特殊的擇優(yōu)取向。不僅金屬、在陶瓷、天然巖石、天然和人造纖維材料中都存在織構(gòu),所以說(shuō)擇優(yōu)取向在多晶材料中幾乎是無(wú)所不在的。織構(gòu)使多晶體材料的物理、力學(xué)、化學(xué)性能發(fā)生各向異性,這種性質(zhì)有時(shí)是有害的,如冷軋鋼板的擇優(yōu)取向使用它制成的沖壓件出現(xiàn)“制耳”和厚度不均勻以致折皺的疵??;而有時(shí)又是有益的,如冷軋硅鋼片經(jīng)適當(dāng)退火得到的“高斯織構(gòu)”有利于減小磁損,織構(gòu)還可以作
3、為一些材料的強(qiáng)化方法加以利用。因而測(cè)定織構(gòu)并給它一定的指標(biāo)是材料研究的一個(gè)重要方面,多處來(lái)X射線衍射是揭示材料織構(gòu)特征的主要方法。近年來(lái)背散射電子衍射(EBSD)法在結(jié)構(gòu)測(cè)定上亦得到廣泛應(yīng)用。本章介紹織構(gòu)的分類以及其表達(dá)和測(cè)定方法。因要涉及晶體空間方位關(guān)系的表示,需先介紹一種特殊的投影方法極射赤面投影法。第一節(jié)極射赤面投影法極射赤面投影法:為了在平面上表達(dá)三維晶體中晶面、晶向的方位以及它們之間的角度關(guān)系,目前最常用方法是極射赤面投影。一、極射赤面投影法的特點(diǎn)極射赤面投影(見(jiàn)圖7-1)法的特點(diǎn)如下:1被投影的晶體置于一參考球的球心O,并假定晶體的所有晶向、晶面都通過(guò)該球心。2投影線為射線,取參考
4、球面上一點(diǎn)B為投影點(diǎn),投影面是垂直于通過(guò)B點(diǎn)的參考球直徑的任一平面,圖中取與參考球相切的平面。過(guò)參考球心O且平行于投影面的平面與球O相交成一大圓(NESW),連接B點(diǎn)與大圓上各點(diǎn)的直徑與投影面交點(diǎn)所構(gòu)成的圓稱基圓(圓O,即大圓的投影),晶體的所有投影點(diǎn)都在此投影基圓內(nèi)。3晶面與晶向的投影用下述方法獲得:取晶向(若求晶面投影則取其法線)延長(zhǎng)與參考球相交,交點(diǎn)稱露出點(diǎn),如圖7-1中之P,從投影點(diǎn)B出發(fā)到P點(diǎn)作投射線,此射線與投影面的交點(diǎn)即晶向或晶面投影點(diǎn),亦稱極點(diǎn),如圖7-1中P點(diǎn)。若露出點(diǎn)在右半球面上,則其極點(diǎn)將投射到基圓之外,此時(shí)可將投射點(diǎn)移到左半球BO直徑另一端,投影面也相應(yīng)易位,再行投影,
5、所得極點(diǎn)用與前者不同的符號(hào)標(biāo)注。另外,一個(gè)平面還可用它的延伸面與參考球相交的跡徑來(lái)代表,這個(gè)跡徑是個(gè)大圓,顯然它的投影是以基圓直徑為弦的大圓弧。順便指出,若平面不通過(guò)參考球心則與參考球相交成小圓,投影亦為一小圓。二、烏氏網(wǎng)為確定極射面投影圖上極點(diǎn)的位置以及測(cè)量極點(diǎn)間的夾角關(guān)系,需為其建立一個(gè)坐標(biāo)網(wǎng),這就是烏氏網(wǎng)。烏氏網(wǎng)就像地球的經(jīng)緯線,由刻劃在參考球上的網(wǎng)絡(luò)投影而來(lái)(見(jiàn)圖7-2a)。取參考球一直徑NS為南北極,通過(guò)球心O并垂直于NS的大圓為赤道,平行于赤道大圓的一系列等角距離的平面與參考球相交形成緯線,通過(guò)NS軸等距離平面形成經(jīng)線。若以赤道平面上一點(diǎn)為投射點(diǎn),投影面平行于NS軸就得到如圖7-2
6、b所示的烏氏網(wǎng);若以N或S為投射點(diǎn),而投影面平行于赤道平面,則得到如圖7-2c所示的極網(wǎng)。烏氏網(wǎng)和極網(wǎng)的基圓直徑可做成任意尺寸,其網(wǎng)格的角間距多為20。烏氏網(wǎng)是確定晶體方位和測(cè)量晶向晶面間夾角的工具,在應(yīng)用中要注意一些基本原則和方法。1被測(cè)量的晶體投影圖的基圓直徑應(yīng)與烏氏網(wǎng)相同,投影圖畫(huà)在透明紙上,將其與烏網(wǎng)疊放并中心重合。2某極點(diǎn)M的位置可用它的經(jīng)度()和緯度()表示(圖7-2a)。二極點(diǎn)間的夾角測(cè)定:轉(zhuǎn)動(dòng)投影圖,使二極點(diǎn)處于同一經(jīng)線大圓(包括基圓)或赤道上,二點(diǎn)間緯度差或赤道上經(jīng)度差即為極點(diǎn)間夾角,如圖7-3所示。3求與已知極點(diǎn)成等夾角的軌跡(圖7-4):轉(zhuǎn)動(dòng)投影圖使已知極點(diǎn)P位于烏氏網(wǎng)的
7、赤道線WE上,在P點(diǎn)兩側(cè)求出二等角距點(diǎn)Q、R、PQ=PR=某確定角度(如300),以QR為直徑作圓(圓心P),此小圓即為與P點(diǎn)成300角的點(diǎn)的軌跡。若夾角較大(500),使Q、R中之一點(diǎn)落于基圓之外,則可過(guò)P點(diǎn)作一經(jīng)線大圓,在P點(diǎn)二側(cè)的大圓上求出與其夾角為500的二點(diǎn)M、T,將其與赤道上的一點(diǎn)共三點(diǎn)求圓P“,此圓即為欲求的軌跡。若夾角為900的點(diǎn)F的經(jīng)線大圓NFS即為此軌跡。NFS還可視為一平面的跡線,P點(diǎn)為其法線的投影點(diǎn)(見(jiàn)圖7-4)。4極點(diǎn)的轉(zhuǎn)動(dòng):通過(guò)在烏氏網(wǎng)上的運(yùn)作,可將極點(diǎn)繞確定軸轉(zhuǎn)動(dòng)到新的位置。轉(zhuǎn)動(dòng)軸垂直于投影面,軸的投影即為基圓圓心,只需將極點(diǎn)P在它所在的圓周上向指定方向轉(zhuǎn)過(guò)預(yù)定有
8、角度到達(dá)P即可(如圖7-5所示)。轉(zhuǎn)動(dòng)軸平行于投影面:軸的投影為基圓直徑,轉(zhuǎn)動(dòng)投影圖,使轉(zhuǎn)動(dòng)軸與烏氏網(wǎng)的NS軸重合,待轉(zhuǎn)動(dòng)的點(diǎn)沿它所在的緯線向指定方向轉(zhuǎn)動(dòng)預(yù)定的角度(如圖7-6中A1A2)若需轉(zhuǎn)至投影圖背面,則應(yīng)用不同符號(hào)標(biāo)明(如圖B1B1),或反向延長(zhǎng)到基圓圓心另一側(cè)的等半徑處(圖B1B2)。轉(zhuǎn)動(dòng)軸與投影面成任意傾角:如軸的投影為B1點(diǎn)(見(jiàn)圖7-7),欲使A1繞B1順時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)400,其轉(zhuǎn)動(dòng)步驟如下:將B1點(diǎn)置于烏氏網(wǎng)的赤道線上;將A1、B1二點(diǎn)同時(shí)繞NS軸轉(zhuǎn)動(dòng),直至B1點(diǎn)到達(dá)投影基圓的圓心,稱其為B2,A1點(diǎn)也沿自身所在的緯線轉(zhuǎn)過(guò)相同的角度到達(dá)A2;A2繞B2(即基圓圓心)按預(yù)定方向和角度轉(zhuǎn)
9、過(guò)400角到達(dá)A3;B2按步驟中的逆向轉(zhuǎn)回到其原投影位置B1,A3沿其所在緯線NS轉(zhuǎn)過(guò)與B2相同的角度到達(dá)A4,A4即為A1繞B1轉(zhuǎn)動(dòng)400角后的新位置。5投影面的轉(zhuǎn)換。利用極點(diǎn)轉(zhuǎn)動(dòng)的方法可將晶面或晶向向新的投影面投影。如圖7-8所示,P、Q、K投影在以O(shè)為極點(diǎn)的平面上,現(xiàn)欲將P、Q二點(diǎn)投影在以K為極點(diǎn)的投影面上,其作法是將K通過(guò)烏氏網(wǎng)的運(yùn)作轉(zhuǎn)到投影基圓的中心,P、Q隨之作相同的旋轉(zhuǎn)達(dá)到新位置P1、Q1,這就是以K為投影面時(shí),P、Q點(diǎn)的極點(diǎn)位置。三、單晶體的標(biāo)準(zhǔn)投影圖在極射赤面投影中,用一個(gè)點(diǎn)就能代表晶體中的一組晶向或晶面,這對(duì)于處理晶體的取向問(wèn)題是非常方便的。對(duì)具有一定點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)的單晶體,選擇
10、某一個(gè)低指數(shù)的重要晶面作為投影面,將各晶面向此面投影,就得到單晶體的標(biāo)準(zhǔn)投影圖,圖7-9所示是立方晶體的(001)、(011)和(111)標(biāo)準(zhǔn)投影圖,它分別以(001)、(011)、(111)為投影面。在圖中用一些大圓弧和直線聯(lián)系了一系列晶面的極點(diǎn),表明這些晶面的法線在同一平面上,這個(gè)平面的法線則是這些晶面的交線,我們說(shuō)這些相交于一直線的晶面屬于同一晶帶,稱晶帶面或共帶面,其交線即為晶帶軸(用uvw表示)。晶帶軸指數(shù)與晶帶面指數(shù)(hkl)間的關(guān)系為hu+kv+lw=0(7-1)即晶帶定律。對(duì)立方晶系,其晶面間夾角公式為(7-2)式中,h1k1l1、h2k2l2為二相交晶面的晶面指數(shù);為二晶面間
11、夾角??梢?jiàn),立方晶系的晶面間夾角與點(diǎn)陣常數(shù)無(wú)關(guān)。同時(shí),由晶體學(xué)原理可以證明立方晶體中的晶面與和它同指數(shù)的晶向垂直,如(111)晶面與111晶向垂直,所以立方晶體的標(biāo)準(zhǔn)投影圖同時(shí)也是晶向的標(biāo)準(zhǔn)投影圖,其中重要方向,通常也是重要的晶帶軸。圖7-9的標(biāo)準(zhǔn)投影圖中給出了主要結(jié)晶學(xué)方向的極點(diǎn)位置,它一目了然地表明了所有重要晶面的相對(duì)取向和對(duì)稱性特點(diǎn),若需高指數(shù)晶面的方位,可查閱更為詳細(xì)的標(biāo)準(zhǔn)投影圖,其中晶面指數(shù)的m值(m=h2+k2+l2)可達(dá)到51(如711)。對(duì)非立方晶系,因晶面間夾角與實(shí)際晶體的點(diǎn)陣常數(shù)有關(guān),故沒(méi)有普遍適用的標(biāo)準(zhǔn)投影圖,如六方晶系的標(biāo)準(zhǔn)投影圖只能適用于特定的軸比c/a。第二節(jié)織構(gòu)的
12、種類和表示方法織構(gòu)按其擇優(yōu)取向分布的特點(diǎn)分為兩大類:(1)絲織構(gòu)這是一種晶粒取向軸對(duì)稱分布的織構(gòu),存在于拉、軋或擠壓成形的絲、棒材及各種表面鍍層中。其特點(diǎn)是多晶體中各種晶粒的某晶向uvw與絲軸或鍍層表面法線平行,則以u(píng)vw為指數(shù),如鐵絲有110織構(gòu),鋁絲有111織構(gòu)。對(duì)多晶體也可采用極射赤面投影表示其中晶粒取向的分布情況,以一宏觀坐標(biāo)面為投影面(如與絲軸平行或垂直的平面),將晶體中的某一確定的晶向或晶面向此宏觀坐標(biāo)面投影,這樣的極射赤面投影圖稱該晶向或晶面的極圖。圖7-10是不同取向狀態(tài)的極圖的示意圖(圖示為001極圖)。在理想的多晶體中,001面在空間不同方位出現(xiàn)的幾率是相同的,極圖上極點(diǎn)的
13、分布就是均勻的(圖7-10a);當(dāng)有絲織構(gòu)時(shí)(設(shè)有111絲織構(gòu)),其001面法線將相對(duì)絲軸(F.A./111呈旋轉(zhuǎn)對(duì)稱分布),即偏聚在與絲軸相距54.740的一緯線環(huán)帶上。(2)板織構(gòu)這種織構(gòu)存在于軋制、旋壓等方法成形的板、片狀構(gòu)件內(nèi),其特點(diǎn)是材料中各晶粒的某晶向uvw與軋制方向(R.D)平行,稱軋向,各晶粒的某晶面hkl與軋制表面平行,稱軋面,uvwhkl即為板織構(gòu)的指數(shù)。如冷軋鋁板有112110織構(gòu),鐵合金中會(huì)出現(xiàn)001(100)立方織構(gòu)。圖7-10c為以軋面為投影面時(shí)立方織構(gòu)多晶材料的001極圖示意圖。材料中存在織構(gòu),其衍射效應(yīng)將明顯影響衍射強(qiáng)度。圖7-10中的極圖同樣可視為是某晶面倒易
14、球面上倒易點(diǎn)分布的極射赤面投影。這種倒易點(diǎn)分布不均勻的倒易球面與反射球相交,使衍射環(huán)由不連續(xù)的弧段構(gòu)成(見(jiàn)圖7-11)。若用衍射儀測(cè)量織構(gòu)試樣,則得到相對(duì)強(qiáng)度反常的衍射譜,如圖7-12所示。顯然,衍射強(qiáng)度正比于相應(yīng)方位的極點(diǎn)密度,所以強(qiáng)度測(cè)量是織構(gòu)測(cè)定的基礎(chǔ)。為確定織構(gòu)指數(shù)和反映材料中擇優(yōu)取向的分布,目前有三種方法:極圖、反極圖和三維取向分布函數(shù)。一、極圖多晶體中某hkl晶面族的倒易矢量(或晶面法線)在空間分布的極射赤面投影圖稱極圖。它取一宏觀坐標(biāo)面為投影面,對(duì)板織構(gòu)可取軋面,對(duì)絲織構(gòu)取與絲軸平行或垂直的平面。圖7-13是軋制純鋁111極圖,投影面為軋面。在極圖上用不同級(jí)別的等密度線表達(dá)極點(diǎn)密
15、度的分布,極點(diǎn)密度高的部位就是該晶面極點(diǎn)偏聚的方位。根據(jù)極圖可以確立織構(gòu)的類型和織構(gòu)的指數(shù),并比較擇優(yōu)取向的程度。以板織構(gòu)為例,取與試樣相同晶體結(jié)構(gòu)的單晶體標(biāo)準(zhǔn)投影圖(基圓與極圖相同),將描畫(huà)在透明紙上的極圖與它重合并相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng),使極圖上hkl極點(diǎn)高密度區(qū)與標(biāo)準(zhǔn)投影圖上hkl面族的極點(diǎn)位置重合,如不能重合,則換另一標(biāo)準(zhǔn)投影圖再對(duì),一旦對(duì)上,標(biāo)準(zhǔn)投影圖的中心給出軋面指數(shù)hkl,與軋向重合的點(diǎn)給出軋向指數(shù)uvw。圖7-13中的111極圖高密度區(qū)可與立方晶體(110)標(biāo)準(zhǔn)投影圖上的相應(yīng)極點(diǎn)對(duì)上,得出軋面指數(shù)為(110),軋向指數(shù)為112,故此織構(gòu)指數(shù)為112110。有的試樣用一張標(biāo)準(zhǔn)投影圖不能使所有極
16、點(diǎn)高密度區(qū)都得到吻合,需要與其他標(biāo)準(zhǔn)投影圖對(duì)照才能使所有高密度區(qū)都有所歸宿,顯然這種試樣具有雙織構(gòu)或多織構(gòu)。極圖多用于描述板織構(gòu),對(duì)絲織構(gòu)往往不需測(cè)定極圖。二、反極圖極圖是表達(dá)晶體中某一確定的結(jié)晶學(xué)方向(選定的hkl面法線方向)相對(duì)于試樣宏觀坐標(biāo)的投影分布。而織構(gòu)還可以用另一種方式表達(dá),即反極圖。反極圖表示某一選定的宏觀坐標(biāo)(如絲軸、板料的軋面法向N.D或軋向R.D等)相對(duì)于微觀晶軸的取向分布,因而反極圖是以單晶體的標(biāo)準(zhǔn)投影圖為基礎(chǔ)坐標(biāo)的,由于晶體的對(duì)稱性特點(diǎn)只需取其單位投影三角形,如立方晶體取由001、011、111構(gòu)成的標(biāo)準(zhǔn)投影三角形,見(jiàn)圖7-14。圖7-15是反極圖投影關(guān)系示意圖。多晶體
17、中各晶粒的晶軸(圖中實(shí)線)相對(duì)于某確定的宏觀坐標(biāo)(虛線)有各不相同的取向關(guān)系(圖7-15a),設(shè)想將此方位關(guān)系固定,然后將各晶軸方向都轉(zhuǎn)為一致,如圖7-15b,則與各晶粒“固結(jié)”的宏觀坐標(biāo)將在晶軸坐標(biāo)系中有一分布,若試樣是無(wú)序多晶,此分布是均勻的,當(dāng)存在擇優(yōu)取向時(shí),則呈不均勻分布。反極圖就是用軸密度來(lái)表示某宏觀坐標(biāo)軸密度相對(duì)結(jié)晶學(xué)坐標(biāo)的分布,圖7-16是擠壓鋁棒的軸向反極圖。圖7-17是冷軋黃銅板的R.D及N.D方向反極圖。圖上的線條為等軸密度線。根據(jù)反極圖給出的軸密度分布也可獲知材料的織構(gòu)指數(shù)。圖7-16表明,在001和111極點(diǎn)處有很高的棒軸密度說(shuō)明鋁棒中各晶粒的111或001方向與棒軸平
18、行,即擠壓鋁棒具有111、001雙織構(gòu);也就是說(shuō),軸向反極圖上的高軸密度區(qū)給出了絲織構(gòu)的指數(shù);要確定板織構(gòu)的指數(shù)則需至少兩張反極圖,在軋向反極圖上軸密度高的指數(shù)為軋向指數(shù)uvw,在軋面法向(N.D)反極圖上軸密度高的部位給出軋面指數(shù)(hkl),若反極圖上有兩個(gè)或兩個(gè)以上的高軸密度區(qū),則說(shuō)明材料有雙織構(gòu)或多織構(gòu),具體指數(shù)配合應(yīng)根據(jù)晶體學(xué)關(guān)系確定,即軋面應(yīng)屬于以軋為軸的晶帶。圖7-17的反極圖上各有兩個(gè)高軸密度區(qū),按照晶帶定律組合得出三組織構(gòu):(110)、001(110)、(111)。對(duì)板織構(gòu)材料還可制備橫向(T.D)的反極圖進(jìn)行核對(duì)。極圖和反極圖都是二維圖像表達(dá)晶體三維的取向分布,這就造成了它必
19、然的不足之處,特別是在織構(gòu)復(fù)雜和漫散的情況下可能會(huì)造成誤判。為了彌補(bǔ)極圖和反極圖的不完善,20世紀(jì)60年代后期H.J.Bunge和R.J.Roe各自提出用三個(gè)參數(shù)描述織構(gòu)的方法,即三維取向分布函數(shù)。三、三維取向分布函數(shù)(Orientation Distribution Function,ODF)在這種方法中,多晶體中晶粒相對(duì)于宏觀坐標(biāo)的取向用一組歐拉角表示。設(shè)O-ABC是宏觀直角坐標(biāo)系,對(duì)板狀材料:OA軋向(R.D),OB橫向(T.D),OC軋面法向(N.D);OXYZ是微觀晶軸坐標(biāo)系,對(duì)正交晶系OX100,OY010,OZ001。OXYZ相對(duì)于O-ABC的取向由一組相應(yīng)于歐拉角(、)的轉(zhuǎn)動(dòng)獲
20、得,見(jiàn)圖7-18。由這三個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)可以確定O-XYZ相對(duì)于O-ABC的方位,故多晶體中每個(gè)晶粒都可用一組歐拉角表示其取向(,)。建立直角坐標(biāo)系O-,每種取向?qū)?yīng)圖中一點(diǎn),將所有晶粒的(,)均標(biāo)注在該坐標(biāo)系內(nèi),就得到如圖7-19所示的取向分布圖。對(duì)于多晶材料不可能逐個(gè)測(cè)定各晶粒的方位,需用取向密度表示晶粒的取向分布情況(7-3)式中,為包含取向(,)的取向元;V/V為取向落在該取向元的晶粒體積V與試樣體積V之比;K為常數(shù)(82)。確切表達(dá)了織構(gòu)材料內(nèi)晶粒取向分布情況,稱取向分布函數(shù)(ODF)。ODF圖是立體的,不便于繪制和閱讀,通常以一組恒或恒截面圖來(lái)展示(見(jiàn)圖7-20),截面圖組清晰地給出了那些取
21、向上有峰值以及與之相應(yīng)的那些織構(gòu)組分的漫散情況。ODF本身已確切表達(dá)了晶粒的取向分布,但人們有時(shí)還希望知道材料的織構(gòu)指數(shù)。對(duì)板織構(gòu)可從ODF的取向峰值計(jì)算其指數(shù)hkluvw,晶軸正交的各晶系織構(gòu)指數(shù)計(jì)算式如下:(7-4)(7-5)ODF不能直接測(cè)定,需由一系列極圖數(shù)據(jù)來(lái)計(jì)算,其過(guò)程龐大復(fù)雜,但現(xiàn)已有成熟的計(jì)算機(jī)軟件可用,這些程序往往兼有由ODF獲得任何極圖和反極圖的功能。極圖和反極圖已成為常規(guī)的織構(gòu)表示方法,對(duì)絲織構(gòu)可直接測(cè)算織構(gòu)指數(shù)uvw。用軸向反極圖可進(jìn)一步描述其織構(gòu)的強(qiáng)烈程度,一般不需測(cè)定極圖;而板織構(gòu)則需用極圖或反極圖或ODF才能全面表達(dá)。本章介紹絲織構(gòu)指數(shù)的測(cè)算和極圖、反極圖的測(cè)定方
22、法,ODF的詳細(xì)原理及方法請(qǐng)閱讀有關(guān)的專門(mén)論述。第三節(jié)絲織構(gòu)指數(shù)的測(cè)定測(cè)定絲織構(gòu)的指數(shù)最簡(jiǎn)便的方法是拍攝試樣的平板針孔相。圖7-21是此法的倒易點(diǎn)陣圖解。圖示某hkl倒易球O,由于存在絲織構(gòu),球面上倒易點(diǎn)的偏聚部位是以絲軸F.A為旋轉(zhuǎn)對(duì)稱軸的環(huán)帶,其投影沿緯線圓分布。當(dāng)單色X射線垂直于絲軸入射,反射球C雖與倒易球面相交成圓(圓O),但只有與上述緯線圓相交處(其之一為D點(diǎn))才有衍射強(qiáng)度。若將底片垂直于入射線放置,在織構(gòu)極端集中的情況下得到排列在圓周上的點(diǎn)狀衍射花樣,但實(shí)際的織構(gòu)材料中晶粒取向總有一定的漫散,倒易點(diǎn)集中的緯線圓擴(kuò)展成帶(見(jiàn)圖7-21b),衍射圖像就如圖7-12所示由弧段構(gòu)成,弧段的
23、長(zhǎng)度可作為比較擇優(yōu)取向程度的依據(jù)。由圖7-21a的幾何關(guān)系,可求得hkl面法線與絲軸間的夾角a,從而推知與絲軸平行的晶向指數(shù)uvw。圖中QCO為入射線方向,CD為衍射線,衍射面法線CN,衍射平面QCDN垂直于底片,與底片交于OD,底片上OP平行于絲軸。PCN=是衍射平面與QCP平面(入射線與絲軸所在平面)的夾角,為求(=PCN),需求解球面三角形C-PNQ。根據(jù)球面三角形邊的余弦定理(7-6)由測(cè)量底片得及,并經(jīng)指標(biāo)化確定衍射環(huán)的指數(shù)hkl,按式(7-6)計(jì)算hkl面法線與絲軸的夾角。若試樣屬立方晶系,就可以從立方晶系晶面夾角表對(duì)照得出織構(gòu)指數(shù)uvw。用衍射儀也可直接測(cè)得圖7-22所示衍射環(huán)上
24、衍射強(qiáng)度的分布,從而求得織構(gòu)指數(shù)并求出取向度A。將絲試樣置于一可以入射線為軸轉(zhuǎn)動(dòng)的附件上,令絲軸平行于衍射儀軸放置,X射線垂直于絲軸入射,計(jì)數(shù)管位于2處不動(dòng),在試樣以入射線為軸轉(zhuǎn)動(dòng)的過(guò)程中連續(xù)記錄衍射強(qiáng)度的變化(見(jiàn)圖7-22a、b),由衍射強(qiáng)度的峰值處求得角,從而計(jì)算,確定織構(gòu)指數(shù)uvw,并可由峰的半高寬(Wi)總和計(jì)算取向度A(7-7)第四節(jié)極圖的測(cè)定極圖是多晶體某hkl面法線(或倒易矢量)在空間分布的極射赤面投影。為反映織構(gòu)引起的極點(diǎn)密度變化,將光源和計(jì)數(shù)管放置在2位置上不動(dòng),令試樣作全方位轉(zhuǎn)動(dòng),計(jì)數(shù)管記錄衍射強(qiáng)度的變化,再根據(jù)試樣轉(zhuǎn)動(dòng)的規(guī)律得出極點(diǎn)密度的分布。為完成試樣的轉(zhuǎn)動(dòng),將其放在可
25、繞三軸轉(zhuǎn)動(dòng)的專用極圖附件上,AA軸在試樣表面內(nèi)(轉(zhuǎn)角),BB軸是試樣表面法線(轉(zhuǎn)角),CC軸是衍射儀軸。繪制完整極圖需用透射法和背射法兩種測(cè)量,使處于試樣中所有方位上的hkl面都能進(jìn)入衍射位置,有效地獲得衍射強(qiáng)度。透射法時(shí)AA與CC重合,背射時(shí)AA垂直于CC,兩種方法的轉(zhuǎn)軸及X射線光路的配置見(jiàn)圖7-23。圖7-24表示測(cè)量過(guò)程中試樣的轉(zhuǎn)動(dòng)與相應(yīng)極點(diǎn)位置的關(guān)系。圖中球O為參考球,投射點(diǎn)B,投影面與參考球相切,為便于說(shuō)明,將其翻轉(zhuǎn)900置于紙面;試樣置于參考球心,軋面垂直于紙面,投影面平行于軋面。在透射法中,入射線衍射線分別在試樣兩側(cè),當(dāng)試樣處于測(cè)量的初始位置時(shí),試樣表面(軋面)平分入射線和衍射線
26、的夾角(見(jiàn)圖7-23a及圖7-24a),令此刻為=00,衍射面的極點(diǎn)位于投影基面上的P0點(diǎn),當(dāng)試樣以BB為軸旋轉(zhuǎn)一周,極點(diǎn)處于基圓上的各衍射面連續(xù)進(jìn)入衍射位置,所記錄的衍射強(qiáng)度則代表基圓上不同處極點(diǎn)的密度;隨后將試樣以AA為軸轉(zhuǎn)過(guò)角(可根據(jù)實(shí)際情況選為20、50、100等),進(jìn)入衍射位置的晶面的極點(diǎn)轉(zhuǎn)到P1,再令試樣以其自身表面法線BB為軸旋轉(zhuǎn)3600,相應(yīng)的極點(diǎn)在通過(guò)P1點(diǎn)的圓周上;重復(fù)上述測(cè)量,逐個(gè)改變,在一定的條件下,連續(xù)測(cè)量衍射強(qiáng)度隨的變化,得到一系列如圖7-25所示的強(qiáng)度曲線。由圖7-24a看出,在透射法中,的極限位置是900-,即透射法只能測(cè)量極圖的外圍,欲獲得完整極圖,還需同時(shí)應(yīng)
27、用反射法。在圖7-24b中,反射法的衍射平面垂直于紙面(示于圖下方),其初始位置衍射面極點(diǎn)在投影基圓的中心,即=900,此刻試樣作旋轉(zhuǎn)無(wú)實(shí)際意義,因極點(diǎn)位置不變:試樣以AA為軸轉(zhuǎn)過(guò)后,衍射面的極點(diǎn)位置達(dá)到P2點(diǎn),然后再作旋轉(zhuǎn),極點(diǎn)沿過(guò)P2的圓轉(zhuǎn)動(dòng)3600,衍射強(qiáng)度則反映其上的極點(diǎn)密度變化;反射法的角范圍不受衍射角的限制,但為了減少散焦的影響,反射法的測(cè)量范圍為=200900,且測(cè)量時(shí)應(yīng)用適當(dāng)?shù)墓怅@,使入射光斑為臥于AA軸上的狹帶狀,見(jiàn)圖7-23。反射法和透射法的測(cè)量范圍應(yīng)有約100的重疊,以便相互銜接得到完整極圖。由上述所測(cè)得的是不同方位上hkl衍射的峰值強(qiáng)度,需將其扣除背底后進(jìn)行分級(jí)處理,以
28、便繪制極圖。在每個(gè)角位置,令試樣和計(jì)數(shù)管在2附近作/2掃描即可得對(duì)應(yīng)角下的背底,將扣除背底的強(qiáng)度進(jìn)行分級(jí),其基準(zhǔn)可采用任意單位(如用m個(gè)脈沖/s),也可用無(wú)序試樣在相同傾角下的凈峰高度作為分極標(biāo)準(zhǔn)。圖7-25為強(qiáng)度分級(jí)示意圖,將對(duì)應(yīng)1、2、3,各級(jí)強(qiáng)度的角記下,標(biāo)在極網(wǎng)坐標(biāo)的相應(yīng)位置上,連接相同級(jí)別各點(diǎn)成光滑曲線,這些“等極密度線”就構(gòu)成極圖。圖7-13即為根據(jù)圖7-25強(qiáng)度曲線繪制的軋制鋁板111極圖。在用透射法測(cè)定極圖時(shí),需將試樣減薄到適當(dāng)?shù)暮穸?,根?jù)吸收定律(見(jiàn)第一章),獲得最大透射衍射強(qiáng)度的試樣厚度tm為(7-8)式中,為線吸收系數(shù)。由透射法測(cè)得的強(qiáng)度需作吸收校正,校正系數(shù)W為(7-9
29、)ID為衍射強(qiáng)度,所有在不同角測(cè)定的衍射強(qiáng)度都應(yīng)除以相應(yīng)的校正系數(shù)才能成為與極點(diǎn)密度成正比的數(shù)值。反射法中的強(qiáng)度則不需作吸收修正,且試樣加工簡(jiǎn)便,在某些不需完整極圖的情況下,反射法的部分極圖常被用作織構(gòu)狀態(tài)的相對(duì)比較。用衍射儀法測(cè)定極圖還需提及的問(wèn)題有:當(dāng)試樣晶粒粗大時(shí),入射光斑不能覆蓋足夠的晶粒而使強(qiáng)度測(cè)量失去統(tǒng)計(jì)意義,在此情況下應(yīng)利用極圖附件的特制裝置使試樣在轉(zhuǎn)動(dòng)同時(shí)沿CC軸作振動(dòng),以增加參加衍射的晶粒數(shù);另外,材料的織構(gòu)可能存在一定的梯度,試樣表面和內(nèi)部的擇優(yōu)取向程度可能有所不同,而不同X射線的穿透深度也有變化,這是造成織構(gòu)測(cè)定誤差的原因。若欲了解織構(gòu)沿板材深度的變化,可取不同部分的試樣
30、測(cè)量極圖,如1/2厚度處,1/4厚度處等。透射法對(duì)于制備完整極圖是必要的,但從試樣制備和測(cè)量方便考慮,人們都希望只用反射法來(lái)制備極圖。Meieran等人提出一種只用一個(gè)試樣采用反射法測(cè)量就能得到完整極圖的一個(gè)象限的方法。此法的關(guān)鍵是要制備一個(gè)具有一定方位的組合試樣:從薄板上取下小樣,把它們以相同的方位疊合起來(lái)并用粘合劑粘牢,然后在疊片試樣的一角上切割出一個(gè)平面,此平面的法線與板材的軋向、軋面法向及橫向都成等角(54.730),以此為表面的薄片即為測(cè)定完整極圖的組合試樣,圖7-26為組合試樣的制備過(guò)程。法線與三個(gè)相互垂直的坐標(biāo)成等角的表面在以軋面為投影面的極圖上的投影位置如圖7-27所示。對(duì)組合
31、試樣用反射法測(cè)定,角范圍取90550,其極點(diǎn)就可覆蓋極圖的一個(gè)象限,一般軋制板材具有對(duì)稱織構(gòu),得到極圖的一個(gè)象限,就足以表示織構(gòu)的全貌了。第五節(jié)反極圖的測(cè)定反極圖表達(dá)的是宏觀坐標(biāo)軸相對(duì)于微觀晶體學(xué)坐標(biāo)的取向分布密度軸密度Whkl,按圖7-15的坐標(biāo)關(guān)系測(cè)定軸密度是不可能的,實(shí)際上Whkl是以hkl面法線與宏觀坐標(biāo)平行的晶粒在晶體中所占的體積分?jǐn)?shù)來(lái)表達(dá)的。本節(jié)介紹在Harris方法基礎(chǔ)上經(jīng)Horta修訂的測(cè)定原理,此法簡(jiǎn)單易行,也有足夠的準(zhǔn)確度。其測(cè)算原理如下:設(shè)織構(gòu)試樣的hkl衍射線累積強(qiáng)度Ihkl為(7-10)式中,C為常數(shù);其余同前(見(jiàn)第三章)。若在相同條件下測(cè)定無(wú)序取向的相同材料,相應(yīng)的衍射線的累積強(qiáng)度為IR(hkl)(7-11)令無(wú)序試樣中,各hkl面與宏觀坐標(biāo)平行的晶粒的體積分?jǐn)?shù)均為WR(hkl)=1,即IR(hkl)=1則(7-12)由式(7-10)和式(7-12)得強(qiáng)度比(7-13)將所有晶面的衍射強(qiáng)度比加和(7-14)式中,n為衍射線數(shù)。將式(7-13)與式(7-14)相比得(7-15)式(7-15)中的是未知的,需采用某種歸一化的方法獲得。Mueller等假定,當(dāng)衍射線n足夠大時(shí),的平均值等于1即(7-16)即將其代入式(7-15)得(7-17)Mueller的假定認(rèn)為,在無(wú)序多晶試樣中,各hkl晶面取向與宏觀坐標(biāo)平
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