Kvp,mAs Meter操作規(guī)程.doc

此文檔收集于網(wǎng)絡(luò)，如有侵權(quán)，請聯(lián)系網(wǎng)站刪除Kvp,mAs Meter操作規(guī)程kVp 測量 通常情況下，使用 820 模型測量 X 射線的 kVp, 只需啟動儀器，對準(zhǔn)目標(biāo)光場中心并進(jìn)行曝光。 為了確保獲得更準(zhǔn)確的kVp的讀數(shù)，需要牢記以下幾點(diǎn)： 1.電流（mA） 如果 X 射線準(zhǔn)確地投射在目標(biāo)上，802 模型測量操作將有 7mA 的減少值。最精確度為 10 至 50mA。 2.高度 半波 X -射線（大多數(shù)適用于牙科）輸出在 7 至 15 毫安，錐應(yīng)高于儀器大概到 2 英寸。如果 X 射線輸出為 25 至 100 mA，X 射線頭應(yīng)高于儀器 8 到 16 英寸。 3.校準(zhǔn) 將X射線對準(zhǔn)儀器頂部選中目標(biāo)中心約2”乘2”的范圍內(nèi)校準(zhǔn)。 4 曝光時(shí)間 兩種模式需要不同的曝光時(shí)間。 在正?；颉案咚倌Ｊ健?，曝光時(shí)間必須至少為0.1秒（100毫秒）。 整個(gè)kVp測量， 儀器需要略少于100毫秒的曝光時(shí)間。為使最大限度地減少頭部的磨損和撕裂以及減 少對操作者的射線輻射，曝光時(shí)間超過100毫秒是不必要的或者不合時(shí)宜的。當(dāng)儀器 用于測量曝光時(shí)間時(shí)，較長的曝光時(shí)間是必要的。 在“高分辨率模式”下，X 射線曝光時(shí)間必須至少為 0.2 秒（200 毫秒）。儀器對于 真?zhèn)€ kVp 的測量，最初需要 200 毫秒曝光時(shí)間。為使最大限度地減少頭部的磨損和撕 裂以及減少操作者的射線輻射，曝光時(shí)間超過 200 毫秒是不必要的或者不合時(shí)宜的。 當(dāng)儀器用于測量曝光時(shí)間，較長的曝光時(shí)間是必要的。 5. 波形 本機(jī)器測量發(fā)生在 X 射線曝光的任何部分的最高或加速電壓峰值時(shí)，最初的 30 毫秒我們用來確保 X 射線波形穩(wěn)定的一個(gè)延遲時(shí)間。在 X 射線曝光的休息時(shí)間，機(jī)器 將顯示最高加速電壓值的讀數(shù)。 6. 初步閱讀 當(dāng)機(jī)器不在使用時(shí)，X 射線探測器積累電荷。最初通電時(shí)，儀器會需要一個(gè) X 射線曝光才能正常工作。 忽略最初讀數(shù)，特別是在高能量的情況下，例如高于 80kVp. 曝光時(shí)間測量： 820 模型可以每次測量曝光時(shí)間時(shí)測量 KVp。曝光后顯示的曝光時(shí)間，瞬時(shí)按動 白色按鈕開關(guān)。曝光時(shí)間將以毫秒（毫秒顯示。在正?；蚋咚倌Ｊ剑∮?100 毫秒曝 光時(shí)間無法測量。X -射線曝光時(shí)間必須至少為 100 毫秒。 如果要測量的曝光時(shí)間小 于 100 毫秒，請聯(lián)系 ECC 購買 8700 模型數(shù)據(jù)化 X 射線曝光時(shí)間儀表。 當(dāng)機(jī)器處在高分辨率模式下，少于 200 毫秒的曝光時(shí)間無法測量。X -射線曝光時(shí)間必須至少為 200 毫秒。我們建議使用時(shí)間測量正常模式進(jìn)行所有曝光時(shí)間的測量。使用 kVp/mA 低值設(shè)置可以獲得更準(zhǔn)確的曝光時(shí)間讀數(shù)。許多高能量的 X 射線曝 光在尾部有一個(gè)明顯的衰減，這個(gè)衰減將被添加到的曝光時(shí)間上。所以我們建議是曝 光時(shí)間的定在 50 至 80kV 和 25 至 50mA。此外，精準(zhǔn)度規(guī)格的測量適用于超過 150毫秒的測量。 高分辨率 820 模型被設(shè)計(jì)來以較短的曝光時(shí)間來減少 X 射線頭的磨損及對服務(wù)人員的輻射做出精確地測量。然而，通過更長時(shí)間的 X 射線檢測，在三種模式下可以獲得更準(zhǔn)確 的讀數(shù)。 低能量-當(dāng)預(yù)期kVp低于60kVp時(shí)，可以通過設(shè)定X -射線曝光時(shí)間為200毫秒（0.2 秒），以及高分辨率的模式下，來提高讀數(shù)的精準(zhǔn)度。 慢速的X射線-有些X射線，特別是老型號需要相對較長的時(shí)間來達(dá)到峰值曝光。 在正?；蚋咚倌Ｊ较?，X射線測量操作開始前，機(jī)器需要等30毫秒。在高分辨率模式 下，等待時(shí)間增加了一倍，真實(shí)的測量時(shí)間也隨之增加了一倍。 一些直流和多相儀器雖然反應(yīng)很快但是有更大的超射。如果超射持續(xù)超過 30ms，高分辨率模式下 kVp 真實(shí)的最大值將有更準(zhǔn)確的讀數(shù)。 過濾校正 （kVp 測量） 820 機(jī)器可用于校準(zhǔn)帶有 1.5 毫米鋁過濾的鎢管 X 射線，當(dāng) X 射線有不同的過濾 時(shí)，請參考下面的表格并作出相應(yīng)的正確 kVp 讀數(shù)。 新增過濾 新增過濾值60 kVp80 kVp100 kVp120 kVp0.5 mm-0.2-0.51.0 mm-0.4-0.9-1.1-0.6例如，如果你的 X 射線有 2.5 毫米的鋁，那么它相當(dāng)于 1.0 毫米的新增過濾。大概 60kVp 的讀數(shù)將有 0.4kV 的高差，所以減掉 0.4kVp 得到正確的讀數(shù)。 此數(shù)值也可更改。例如，當(dāng)取得一個(gè)新增值為 0.5 毫米（2.0 毫米為最高）的70kVp 讀數(shù)時(shí)，使用一個(gè)修正系數(shù)即-0.2 和-0.5 之間的平均值-0.35，用讀數(shù) 70kVp 減 去 0.3kVp 或者 0.4kVp 即可。 對于低于 55kVp 的讀數(shù)，修正系數(shù)為最小值，可以忽略不計(jì)。 操作 - mA / mAs 測量 1. 在連接 X 射線生成器之前，請確保生成器的電源是關(guān)閉的。 2. 在測試下，連接 820 機(jī)器 mA 電源線到 X 射線生成器（請看下面） 3. 將電源線插入機(jī)器里面 4. 按前面顯示的綠色按鈕打開 820 機(jī)器 5. 按白色模式開關(guān)設(shè)置范圍（200mA 或者 2 Amp） 6. 遠(yuǎn)離 X 射線并采取曝光 7. 觀察讀數(shù) 8. 查看 mAs 和曝光時(shí)間，初步觀察讀數(shù)后瞬時(shí)按動白色模式開關(guān) 警告：當(dāng)機(jī)器運(yùn)行時(shí)，請不要插入或拔掉電線! 插入前，請排好電源線的引腳和底盤連接器! 當(dāng)進(jìn)行 mA 或 mAs 測量操作時(shí)，請確保曝光時(shí)間最少為 0.1 秒。如果曝光時(shí)間過 短，有可能發(fā)生一個(gè) X 射線等于 1/10 秒，所以 mAs 的讀數(shù)為不準(zhǔn)確的。因此我們建 議使用的曝光時(shí)間為 3/20（0.15）秒。 ECC820 模型實(shí)現(xiàn)了一個(gè) X 射線管電流的真正有效值測量，并且將數(shù)值轉(zhuǎn)換成符 合工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的平均電流。專有電路可檢測典型時(shí)間量的電流，然后推測全部曝光時(shí)間 的有效值.如果機(jī)器被設(shè)定為 200mA 的范圍而且任何部分的電流達(dá)到 200mA, 機(jī)器會暗示讀數(shù)已經(jīng)超過范圍。關(guān)掉機(jī)器，重新打開，設(shè)定范圍為 2Amp 得到一個(gè)恰當(dāng)?shù)淖x數(shù)。這種情況會發(fā)生在 150mA 與 200mA 之間的交流 X 射線和含有過沖的多相 X 射線的測量中。 mA 電源線連接 mAs 儀表被設(shè)計(jì)用來連接地面，返回高壓變壓器線路，必須進(jìn)入 X 射線管的實(shí)際電流路徑。儀表被用來與糾正管電流（直流路徑）串聯(lián)連接，通過直流輸入插孔； 或者用交流輸入插孔與整流器（交流路徑）的變壓器下流串聯(lián)連接。然而，所有管電流必須通過 mAs 儀表獲得準(zhǔn)確的讀數(shù)。如果 X 射線生成器的候補(bǔ)或平行