專利技術(shù)交底書的撰寫.ppt

1、專利技術(shù)交底書的撰寫,北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 Leader Patent & Trademark Firm 電 話：86-10-58773108/9 傳 真：86-10-58773107 E-mail： 網(wǎng)址：,技術(shù)交底書的作用,技術(shù)交底書是發(fā)明人和代理人之間進行技術(shù)交流的基礎文件； 發(fā)明人所做的發(fā)明創(chuàng)造告知代理人，以使代理人理解發(fā)明創(chuàng)造的技術(shù)內(nèi)容，形成專利申請文件。,技術(shù)交底書的重要性,直接影響代理人對技術(shù)的理解； 直接影響專利申請文件的撰寫質(zhì)量、表現(xiàn)形式和說明思路； 直接影響后續(xù)溝通所耗費的精力和時間。 因此，完善、清晰、準確的技術(shù)交底書是獲得高質(zhì)量專利文件的重要條件之一。,專利

2、申請文件的主要內(nèi)容,權(quán)利要求書和說明書是專利申請文件中兩份最重要的文件。 技術(shù)內(nèi)容+法律表達 其中權(quán)利要求書是一份申請人請求保護范圍的法律文書，該法律文書的撰寫依據(jù)是說明書，是從說明書中概括出來的，因此一份好的說明書是權(quán)利要求書的基礎文件。 我國專利法規(guī)定，說明書應當包括技術(shù)領域、背景技術(shù)、發(fā)明內(nèi)容、附圖說明和具體實施方式五個部分。,技術(shù)交底書的內(nèi)容,重點內(nèi)容主要集中在： 背景技術(shù)原來什么方案 發(fā)明內(nèi)容現(xiàn)在什么方案 具體實施方式 現(xiàn)在方案是怎么實現(xiàn)的,技術(shù)交底書的內(nèi)容,三者之間的邏輯關系為(正向思維) 1背景技術(shù)中現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)缺陷是發(fā)明人萌發(fā)要對現(xiàn)有技術(shù)進行改良的原因，也是發(fā)明創(chuàng)造主題的來源

3、； 2發(fā)明內(nèi)容是解決現(xiàn)有技術(shù)中技術(shù)缺陷的解決方案； 3具體實施方式則是較好地再現(xiàn)解決方案的技術(shù)手段，是如何解決現(xiàn)有技術(shù)中技術(shù)缺陷的進一步詳細描述。,技術(shù)交底書的內(nèi)容,三者之間的邏輯關系為： (逆向思維) 1具體實施方式提出了一個完整的解決方案； 2該解決方案與現(xiàn)有技術(shù)有區(qū)別和效果；區(qū)別和效果體現(xiàn)在解決了相應的技術(shù)缺陷，即發(fā)明內(nèi)容解決了現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)缺陷； 3技術(shù)缺陷則是背景技術(shù)中客觀存在的。,技術(shù)交底書的內(nèi)容,因此，背景技術(shù)、發(fā)明內(nèi)容和具體實施方式三個部分具有不可分割的有機聯(lián)系，三者之間存在清晰的的邏輯關系。,背景技術(shù)的撰寫,背景技術(shù)原來什么方案 重要性： 1為發(fā)明創(chuàng)造提供真實的比較對象 2

4、反映發(fā)明創(chuàng)造的內(nèi)容和價值 3幫助代理人最大限度地擴展專利的保護范圍,背景技術(shù)的撰寫,包括二部分： 1現(xiàn)有技術(shù)內(nèi)容 2現(xiàn)有技術(shù)的缺陷 通過二個內(nèi)容的說明，自然而然地引出發(fā)明創(chuàng)造所要解決的技術(shù)問題,背景技術(shù)的撰寫,現(xiàn)有技術(shù)內(nèi)容 1選擇一個比較相近的（最接近的）技術(shù)主題； 2針對該技術(shù)主題，具體說明它包括什么，什么狀態(tài)，什么功能以及怎樣工作； 3. 著重說明發(fā)明中改變的部分。 裝置或結(jié)構(gòu) 方法或工藝,背景技術(shù)的撰寫,裝置或結(jié)構(gòu)： （1）內(nèi)容：ABC部件等，以及連接、位置關系； （2）功能：A部件用于，起到什么作用； （3）如果是活動的，需介紹工作原理或工作過程； （4）配合附圖說明。 例如，薄膜晶體

5、管包括： 柵電極，形成在基板上； 柵絕緣層，形成在柵電極上，并覆蓋整個基板； 非晶硅層，形成在柵絕緣層上，并位于柵電極之上； n+非晶硅層，形成在非晶硅層上； 源漏電極層，形成在n+非晶硅層上，并形成溝道區(qū)域； 鈍化層，形成在源漏電極層上，并覆蓋整個基板，其上形成有使像素電極與源漏電極層的漏電極連接的鈍化層過孔。,背景技術(shù)的撰寫,方法或工藝： （1）內(nèi)容：步驟1、步驟2、步驟3等，以及步驟之間的依附關系，條件及參數(shù)（溫度、壓力等）； （2）功能：主要步驟的目的和作用，必要時說明整個流程的機理。 例如，一種光刻膠掩模方法，包括： 步驟1、將敷掩板與基板貼合在一起； 步驟2、在所述敷掩板的敷掩圖案

6、上涂敷光刻膠； 步驟3、以40-50度溫度將所述光刻膠烘烤30-50分鐘； 步驟4、從基板上移開敷掩板,形成所需的光刻膠圖案。,背景技術(shù)的撰寫,2、現(xiàn)有技術(shù)的缺陷： 是前述現(xiàn)有技術(shù)內(nèi)容的結(jié)論性總結(jié)，客觀地、實事求是地指出現(xiàn)有技術(shù)存在的主要問題或不足。 例如，寫法可以是 （1）自身缺陷：由于現(xiàn)有技術(shù)采用B部件（或步驟2）的實現(xiàn)方式，因而導致存在問題1、問題2等； （2）帶來缺陷：現(xiàn)有技術(shù)自身沒有缺陷，但導致了其他不利因素，如難度大、效率低、污染、成本增加等； （3）其他缺陷：不利于實現(xiàn)、廢品率高等； （4）最好簡單解釋為什么會出現(xiàn)這種問題的原因。,撰寫背景技術(shù)中容易出現(xiàn)的問題,（1）過于籠統(tǒng)，只

7、有大背景、大需求，未針對技術(shù)內(nèi)容 例如： 液晶顯示器具有體積小、功耗低、無輻射等特點，近十年得到飛速發(fā)展。 目前，LCD發(fā)展重點集中在提高畫面品質(zhì)和降低生產(chǎn)成本等方面。 建議：具體到專業(yè)技術(shù)的介紹,撰寫背景技術(shù)中容易出現(xiàn)的問題,（2）引用相關專利或出版物, 但披露信息不全，未進行針對性說明 例如：美國專利US12345678公開了一種陣列基板，但其結(jié)構(gòu)不合理，因此無法實施。 建議增加結(jié)構(gòu)內(nèi)容說明、結(jié)構(gòu)不合理的分析以及無法實施的理由，以不看文獻即領會其技術(shù)內(nèi)容。,撰寫背景技術(shù)中容易出現(xiàn)的問題,（3）背景技術(shù)內(nèi)容與發(fā)明內(nèi)容相關性不大，偏離了要解決的技術(shù)問題 例如：現(xiàn)有技術(shù)為5次掩模工藝，有人發(fā)明了

8、4次掩模工藝，但工藝不合理。發(fā)明的思想是解決4次掩模工藝不合理的問題。 如果背景技術(shù)中只說明5次掩模工藝的缺陷和不利，則代理人會認為要解決的問題是從5次掩模變?yōu)?次掩模，就會偏離發(fā)明思路。,撰寫背景技術(shù)中容易出現(xiàn)的問題,（4）現(xiàn)有技術(shù)缺陷論述過于武斷，出現(xiàn)貶低性的語言 例如：現(xiàn)有技術(shù)的LCD為，實際使用表明，存在顯示質(zhì)量差、可靠性低的缺陷。 又如：現(xiàn)有技術(shù)表明，由于設計人的在LCD設計上的無知，其結(jié)構(gòu)設計極不合理，技術(shù)落后。,撰寫背景技術(shù)中容易出現(xiàn)的問題,（5）包含了發(fā)明沒有解決的技術(shù)問題 雖然事實上現(xiàn)有技術(shù)存在很多問題，但只需要說明本發(fā)明能解決的問題。最好不要涉及本發(fā)明不能解決或沒有解決的問

9、題。 建議：用反推法，根據(jù)發(fā)明優(yōu)點找現(xiàn)有技術(shù)對應的缺點,撰寫背景技術(shù)中容易出現(xiàn)的問題,（6）主題分散 由于LCD涉及技術(shù)領域廣、結(jié)構(gòu)復雜、工藝流程眾多，所以主題盡可能集中。,發(fā)明內(nèi)容的撰寫,發(fā)明內(nèi)容現(xiàn)在什么方案 包括三部分： 要解決的技術(shù)問題為什么要發(fā)明； 技術(shù)方案發(fā)明了什么； 有益效果有什么好處。,發(fā)明內(nèi)容的撰寫,1、發(fā)明主題發(fā)明名稱 明確發(fā)明的類型，裝置、方法、裝置和方法； 避免包含發(fā)明點。 例如 一種掩模技術(shù)（是裝置，還是方法不清楚） 一種采用偏陣片改變透過率的掩模板（包含發(fā)明點） 一種成本低、效率高和產(chǎn)品質(zhì)量高的掩模工藝（明顯帶有廣告宣傳性質(zhì)）,發(fā)明內(nèi)容的撰寫,2、要解決的技術(shù)問題為什

10、么要發(fā)明 與背景技術(shù)中現(xiàn)有技術(shù)的缺陷相對應，要解決的技術(shù)問題就是現(xiàn)有技術(shù)中所存在的某一個或幾個技術(shù)問題，也就是本發(fā)明所要完成的任務或要實現(xiàn)的目的。（與有益效果也相對應）,發(fā)明內(nèi)容的撰寫,2、要解決的技術(shù)問題 基本要求： a、采用正面語言直接、清楚、客觀地說明； b、體現(xiàn)要求保護的技術(shù)方案的主題名稱和發(fā)明類型； c、將要解決的技術(shù)問題分出層次，主要問題、次要問題； d、避免比較籠統(tǒng)的目的。,發(fā)明內(nèi)容的撰寫,例如：現(xiàn)有技術(shù)的背光源為側(cè)光式，因此需要導光板。由于導光板成本高，別人將側(cè)光式改為直下式，因此可以不用導光板。但由此導致出光均勻性差缺陷。就是說，導光板成本高的問題已經(jīng)被別人解決了。此時，本發(fā)

11、明要解決的問題是直下式背光源出光均勻性問題，而不是導光板成本高的問題。 寫法可以為：本發(fā)明的目的是提供一種背光源，有效解決現(xiàn)有直下式背光源出光不均勻的缺陷，提高液晶顯示器的畫面品質(zhì)。,發(fā)明內(nèi)容的撰寫,避免寫成： 本發(fā)明的目的是提供一種有效克服現(xiàn)有技術(shù)缺陷的背光源。（沒有正面表述） 本發(fā)明的目的是提高液晶顯示器的畫面品質(zhì)。（過于籠統(tǒng)） 本發(fā)明的目的是，提供一種成本低的背光源。（偏離要解決的技術(shù)內(nèi)容）,發(fā)明內(nèi)容的撰寫,3、技術(shù)方案發(fā)明了什么 重點指出本發(fā)明對已知技術(shù)的改進部分，即本發(fā)明的發(fā)明點或技術(shù)特點所在。 突出發(fā)明點、保護重點 申請人可以使用自己喜好的任何方式來描述，無論哪種表述方式，只要能夠

12、將發(fā)明的技術(shù)方案的具體實現(xiàn)過程闡述清楚，不產(chǎn)生歧義即可。,發(fā)明內(nèi)容的撰寫,避免純功能性描述或結(jié)論性描述 專利法給予保護的對象是技術(shù)方案，不是發(fā)明構(gòu)思，也不是物理狀態(tài)和結(jié)果。如果僅對發(fā)明創(chuàng)造的構(gòu)思或者發(fā)明創(chuàng)造產(chǎn)生的物理狀態(tài)或結(jié)果進行了詳細描述，會使代理人和審查員無法依據(jù)說明書提供的情報來理解發(fā)明是如何實現(xiàn)的。,發(fā)明創(chuàng)造類型,開拓性發(fā)明 組合發(fā)明 選擇發(fā)明 轉(zhuǎn)用發(fā)明 要素變更發(fā)明 用途發(fā)明,開拓性發(fā)明,指一種全新的技術(shù)解決方案，在技術(shù)史上未曾有過先例，它為人類科學技術(shù)在某個時期的發(fā)展開創(chuàng)了新紀元，這種發(fā)明稱為開拓性發(fā)明。 四大發(fā)明、蒸汽機、電燈、 雷達、激光器 液晶顯示裝置,組合發(fā)明,如果組合的各

13、技術(shù)特征，在功能上彼此相互支持，并取得了新的技術(shù)效果，或者說組合后的技術(shù)效果比每個技術(shù)特征效果的總和更優(yōu)越 ，這種組合具備創(chuàng)造性。組合發(fā)明每個技術(shù)特征本身是否完全公知或部分公知不影響創(chuàng)造性。 例如, 帶攝像功能的液晶面板、液晶鍵盤,組合發(fā)明,但是，如果發(fā)明僅是某些公知技術(shù)方案簡單組合在一起，各自仍以原來的方式工作，僅僅是一種簡單的疊加，或稱之為“拼湊”，這種拼湊的發(fā)明不具備創(chuàng)造性。 例1，現(xiàn)有LCD均為一面顯示,現(xiàn)在發(fā)明一種二面可以顯示的LCD,但如果方案是把二個LCD粘起來,則屬于“拼湊”,該發(fā)明不具備創(chuàng)造性。 但是,如果只使用一個陣列基板,則有可能。,選擇發(fā)明,選擇發(fā)明是指從現(xiàn)有技術(shù)中公開

14、的較大范圍中，有目的地選出現(xiàn)有技術(shù)中未提到的小范圍或個體的發(fā)明。（主要指參數(shù)） 如果選擇發(fā)明的技術(shù)解決方案能夠取得預料不到的技術(shù)效果，則具備創(chuàng)造性。 但是，如果發(fā)明僅僅是從一些具有相同可能性的技術(shù)解決方案中選出一種，而且未取得預料不道的技術(shù)效果，則不具備創(chuàng)造性。,轉(zhuǎn)用發(fā)明,轉(zhuǎn)用發(fā)明是指將某一技術(shù)領域的現(xiàn)有技術(shù)轉(zhuǎn)用到其他技術(shù)領域中的發(fā)明。 如果這種轉(zhuǎn)用能夠產(chǎn)生預料不到的技術(shù)效果，或者克服了原技術(shù)領域中未曾遇到的困難，則這種轉(zhuǎn)用發(fā)明具有創(chuàng)造性。例如，巧克力與裁紙刀,照相與掩模板 但在功能類似的領域的轉(zhuǎn)用不具備創(chuàng)造性。例如，用于CRT上的穩(wěn)壓器轉(zhuǎn)用到LCD的穩(wěn)壓器上。,要素變更的發(fā)明,要素關系改變：

15、是指發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，其形狀、尺寸、比例、位置及作用關系等發(fā)生了變化； 要素替代：是指已知產(chǎn)品或方法的某一要素由其他已知要素替代的發(fā)明； 要素省略：是指省去已知產(chǎn)品或者方法中的某一項或多項要素的發(fā)明。,要素變更的發(fā)明,要素關系改變 現(xiàn)有技術(shù)采用噴嘴運動、玻璃基板不動的清洗方式，發(fā)明改成噴嘴固定不動、玻璃基板運動。 該發(fā)明即“動靜轉(zhuǎn)換”。這種轉(zhuǎn)換并未產(chǎn)生預料不到的技術(shù)效果，所以這種發(fā)明不具備創(chuàng)造性。,要素變更的發(fā)明,要素替代 一項涉及清洗工藝的發(fā)明，與現(xiàn)有技術(shù)相比，該發(fā)明中的清洗劑由A換成現(xiàn)有技術(shù)中使用的B，這種等效替代的發(fā)明不具備創(chuàng)造性。,要素變更的發(fā)明,要素省略 一種陣列基板制造方法，與現(xiàn)

16、有技術(shù)4次掩模的區(qū)別在于使用2次掩模。由于減少了工序，該陣列基板也不再有薄膜晶體管。 原來的效果消失了，因而該發(fā)明不具備創(chuàng)造性。,發(fā)明內(nèi)容的撰寫,4、有益效果有什么好處 結(jié)合發(fā)明內(nèi)容的改進點說明有益效果。該效果可以是多方面的，建議在技術(shù)交底書中寫入更多的有益效果，這對后續(xù)審查會有好處。 這部分應清楚、客觀地寫明發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比所具有的有益技術(shù)效果。有益效果應當是由構(gòu)成發(fā)明的技術(shù)特征直接帶來或直接產(chǎn)生的。不管采用哪種方式描述，最好與現(xiàn)有技術(shù)進行比較得出。,發(fā)明內(nèi)容的撰寫,有益效果通?？梢允?提高產(chǎn)率、質(zhì)量、精度和效率； 節(jié)省能耗、原材料、工序； 簡便加工、操作、控制、使用等； 具體表達方式：

17、結(jié)構(gòu)特征或作用關系分析方式（ 如：通過結(jié)構(gòu)改變成，使形狀適配，強度高，結(jié)構(gòu)穩(wěn)定） 理論說明方式 數(shù)據(jù)對比方式（如：數(shù)據(jù)表明，.）,發(fā)明內(nèi)容的撰寫,有益效果避免的寫法： 斷言方式 籠統(tǒng)方式 廣告宣傳方式,具體實施方式的撰寫,具體實施方式發(fā)明是怎么實現(xiàn)的 這部分內(nèi)容是說明書的重要部分，是理解和再現(xiàn)發(fā)明、支持和解釋權(quán)利要求十分重要的依據(jù)，也是充分公開發(fā)明的關鍵所在，因此這部分應當詳細、具體地描述實現(xiàn)發(fā)明的優(yōu)選方式，通過實施例并結(jié)合附圖進行描述。,具體實施方式的撰寫,撰寫要求如下： 至少描述一個具體實施方式，其描述的具體化程度應達到使所屬領域技術(shù)人員按照該內(nèi)容可重現(xiàn)發(fā)明； 描述實施方式時，不必對與現(xiàn)有

18、技術(shù)相同的已知特征作詳細展開說明，但必須詳細說明區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)特征（區(qū)別技術(shù)特征），特別要說明其功能或者操作過程；,具體實施方式的撰寫,基本要求： 產(chǎn)品發(fā)明，不同的實施方式應當是同一構(gòu)思的幾種不同具體結(jié)構(gòu)； 方法發(fā)明，可用不同步驟、不同條件、或不同參數(shù)范圍來表示不同實施方式。,具體實施方式的撰寫,總之，撰寫具體實施方式中重點注意： 完整的實現(xiàn)方案； 每個區(qū)別技術(shù)特征的解釋； 盡可能擴展實施例，實現(xiàn)最大的保護。 在實施例描述中，最好說明哪些結(jié)構(gòu)或步驟是必不可少的，哪些是可選的。也就是說，給出最優(yōu)選和非優(yōu)選的多種實現(xiàn)方案，盡可能將所想到的全部寫上。如果多個實施例的大部分內(nèi)容相同，只需說明區(qū)別

19、即可，相同部分可以略寫。,實施例事例,半透過型TFT-LCD陣列基板及其制造方法 發(fā)明點：設置金屬珠粒層 方案：可以設置在玻璃基板、柵絕緣層或鈍化層上,實施例事例,半透過型TFT-LCD陣列基板及其制造方法 陣列基板三個實施例 設置在玻璃基板上的結(jié)構(gòu) 設置在柵絕緣層上的結(jié)構(gòu) 設置在鈍化層上的結(jié)構(gòu),實施例事例,設置在玻璃基板上的結(jié)構(gòu),實施例事例,設置在柵絕緣層上的結(jié)構(gòu),實施例事例,設置在鈍化層上的結(jié)構(gòu),實施例事例,半透過型TFT-LCD陣列基板及其制造方法 制造方法三個實施例 形成在玻璃基板上的流程 形成在柵絕緣層上的流程 形成在鈍化層上的流程,實施例事例,形成在鈍化層上的流程,實施例事例,形成

20、在鈍化層上的流程,實施例事例,形成在鈍化層上的流程,實施例事例,形成在鈍化層上的流程,實施例事例,形成在鈍化層上的流程,實施例事例,半透過型TFT-LCD陣列基板及其制造方法 需要說明， （1）金屬珠粒的直徑、間距參數(shù)； （2）如何形成的金屬珠粒層； （3）形成的金屬珠粒層工藝的特殊點。,技術(shù)交底書中其他需要注意的問題,1、完整 2、清楚、前后一致 3、準確,技術(shù)交底書中其他需要注意的問題,1、完整 不僅給出理解完整技術(shù)方案的教導，而且給出再現(xiàn)發(fā)明的教導（兩個方面都不能少） 充分公開后果可能是最終得不到專利權(quán) 保留技術(shù)秘密的前提是發(fā)明的技術(shù)方案仍是完整且可實現(xiàn)的。,技術(shù)交底書中其他需要注意的問

21、題,例如，現(xiàn)有技術(shù)光刻膠掩模方法包括涂敷、前烘、曝光、顯影和后烘?，F(xiàn)發(fā)明一種新的光刻膠掩模方法，只包括涂敷、曝光、顯影和后烘，將前烘和涂敷合為一個工序，在6070的情況下涂敷最好，但4080的溫度范圍也能實現(xiàn)。 此時，發(fā)明人可以只公開4080的溫度范圍，而不用明確說明6070溫度范圍，即相當于隱含了技術(shù)秘密。這種情況下保留技術(shù)秘密是可以的。,技術(shù)交底書中其他需要注意的問題,但為了擴大保護范圍，公開的溫度范圍是0200，則可能出現(xiàn)公開不充分。因為如果現(xiàn)有技術(shù)的涂敷是在室溫狀態(tài)，發(fā)明的溫度范圍包括室溫，審查員就會質(zhì)疑。 此外，如果溫度很重要，而在技術(shù)交底書中對溫度只字不提，用諸如“一定的溫度下”等描述方式，這樣的隱含就很可能使技術(shù)方案公開不充分。,技術(shù)交底書中其他需要注意的問題,2、清楚、前后一致 從現(xiàn)有技術(shù)出發(fā)，明確反映出發(fā)明想要做什么和如何去做。圍繞一個主題，從背景技術(shù)引出問題，問題/方案/效果之間的邏輯關系： 問題與方案相互呼應； 方案與效果有因果關系。,技術(shù)交底書中其他需要注意的問題,2、清楚、前后一致 通常，對具體實現(xiàn)過程而言，既會有現(xiàn)有技術(shù)部分，也會有本發(fā)明改進的部分。 例如，一個方法包括步驟ABCD，步驟A 、D與現(xiàn)有技術(shù)實現(xiàn)過程中的步驟相同，而步驟B、C以及有可能增加的步驟E、F是本發(fā)明所改進和增加的部分。對現(xiàn)有技術(shù)部分，可略寫