《集成電路版圖設(shè)計（活頁式）》課件 5、DRC與LVS驗證教學(xué)課件

EDA平臺01DRC02LVS03目錄成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院PARTONEEDA平臺1

成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院Candence華大九天EDA平臺SpringSoft思源科技MentorVirtuoso熊貓EDACalibre特色RVE窗口，人性化的操作體驗Laker還在完善中臺企使用較多，軟件價格高軟件穩(wěn)定，廠商支持率高成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院4驗證平臺Calibre是Mentor公司旗下的一款針對芯片驗證的軟件，Mentor目前已被西門子收購，它獨(dú)有的RVE界面可以吧驗證錯誤反標(biāo)到版圖工具中去，Calibre仍然是芯片設(shè)計業(yè)界的黃金工具，是一套支持多種格式的、功能十分鐘強(qiáng)大的驗證工具。其中包括：設(shè)計規(guī)則檢查（DRC）電氣規(guī)則檢查（ERC）版圖寄生參數(shù)提?。≒EX）天線規(guī)則檢查（ANT）版圖與原理圖一致性檢查（LVS）成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院PARTTWODRCDesignRuleCheck2

成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院01.DRC基本概述03.驗證流程DRCDesignRuleCheck02.DRC基本流程成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院701.DRC基本概述DRC的全稱為Designrulecheck（設(shè)計規(guī)則檢查），版圖繪制是要根據(jù)一定的設(shè)計規(guī)則來進(jìn)行，檢查版圖設(shè)計完成后是否滿足Foundry的要求就需要通過DRC來完成，否則在生產(chǎn)的時候就會出錯導(dǎo)致芯片無法被生產(chǎn)出來。成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院801.DRC基本概述1、檢查版圖設(shè)計與工藝規(guī)則的一致性；2、基本設(shè)計規(guī)則包括各層的寬度、間距及不同層次之間的間距、包含關(guān)系等；3、DRC的規(guī)定是基于工藝的變化而變化的；4、在特殊的設(shè)計需求下，Designrule允許部分的彈性。但是設(shè)計人員需掌握違背了Rule對電路的影響。成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院902.DRC基本流程Calibre讀入Layout(GDSII)和Rulefile，進(jìn)行處理，輸出結(jié)果。成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院1003.DRC基本流程1、Width2、Space3、Extension4、Enclosure5、Overlap成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院1104.驗證流程1、DRC驗證準(zhǔn)備：

①Fab廠提供的DRC驗證文件（文件后綴為.drc）；

②DRCReport存放的文件夾路徑；

③Layout數(shù)據(jù)。2、打開版圖，啟動Calibre→RunnmDRC→選擇對應(yīng)的DRCRulesFile;3、查看結(jié)果，修改保存再次啟動，直到?jīng)]有錯誤；4、DRC三要素：驗證平臺、版圖數(shù)據(jù)、驗證文件。成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院1204.驗證流程DRC選項其中包括規(guī)則文件設(shè)置、輸入/輸出文件設(shè)置、DRC運(yùn)行設(shè)置……DRC規(guī)則文件路徑DRC運(yùn)行路徑DRC規(guī)則文件路徑：opt/eda/PDK/smic18_Epi_1P4M_TM2_HRP1k_MIM2_TYP1_oa_cds_v1.11_0/Calibre/DRC/SMIC_CalDRC_018MS_and_BCD_1850100120200350400_V1.11_0.drcDRC運(yùn)行路徑：創(chuàng)建DRC目錄來保存DRC運(yùn)行所輸出的文件。成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院1304.驗證流程勾選后，從layout版圖中導(dǎo)出數(shù)據(jù)DRC輸入文件設(shè)置DRC運(yùn)行要素：CalibreDRC規(guī)則文件版圖數(shù)據(jù)成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院1404.驗證流程DRC錯誤類型窗口DRC運(yùn)行結(jié)果RVE界面DRC數(shù)量（雙擊可定位單個錯誤詳細(xì)位置）DRC錯誤對應(yīng)規(guī)則詳細(xì)內(nèi)容成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院1504.驗證流程退出保存時，保存Runset保存中，設(shè)置保存路徑以及保存名。成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院1604.驗證流程RunsetFile是RunDRC時需要填入的一些個人設(shè)置，保存之后方便于下次直接運(yùn)行，不用再重新設(shè)置。在Virtuoso中打開Calibre→RunnmDRC，打開DRC圖形界面，可調(diào)用已生成的RUNSET文件。紅色代表這些選項需要你設(shè)置，填入信息綠色代表對應(yīng)選項填寫完整，但是并不代表填寫完全正確，需要確認(rèn)填寫信息的正確性有時顯示灰色，代表此時不需要填寫內(nèi)容成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院PARTTHREELVSLayoutvsschematic3

成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院01.LVS基本概述03.驗證流程LVSLayoutvsschematic02.LVS基本流程成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院1901.LVS基本概述LVS的全稱為LayoutvsShcematic（版圖與電路一致性檢查），通過驗證軟件將設(shè)計人員制作好的版圖和電路原理圖進(jìn)行比對，檢查是否對應(yīng)一致。成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院2002.LVS基本流程成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院2103.驗證流程1、LVS驗證準(zhǔn)備：

①Fab廠提供的LVS驗證文件（文件后綴為.lvs）；

②LVSReport存放的文件夾路徑；

③

補(bǔ)丁網(wǎng)表（依實際情況看是否需要）

④Layout數(shù)據(jù)；2、打開版圖，啟動Calibre→RunnmLVS→選擇對應(yīng)的LVSRulesFile;3、查看結(jié)果，修改保存再次啟動，直到?jīng)]有錯誤；4、LVS四要素：驗證平臺、版圖數(shù)據(jù)、電路數(shù)據(jù)、電路網(wǎng)表。成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院2203.驗證流程LVS規(guī)則文件設(shè)置LVS運(yùn)行路徑LVS選項其中包括規(guī)則文件設(shè)置、輸入/輸出文件設(shè)置、DRC運(yùn)行設(shè)置……LVS規(guī)則文件路徑：opt/eda/PDK/smic18_Epi_1P4M_TM2_HRP1k_MIM2_TYP1_oa_cds_v1.11_0/Calibre/LVS/SMIC_CalLVS_018MS_and_BCD_1850100120200350400_V1.11_0.lvsLVS運(yùn)行路徑：創(chuàng)建LVS目錄來保存LVS運(yùn)行所輸出的文件成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院2303.驗證流程LVS輸入文件設(shè)置勾選后，從layout版圖中導(dǎo)出數(shù)據(jù)版圖數(shù)據(jù)相關(guān)信息成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院2403.驗證流程電路網(wǎng)表數(shù)據(jù)相關(guān)信息勾選后，可從電路中（在打開Calibre之前需打開指定電路）直接提取網(wǎng)表也可以直接導(dǎo)入現(xiàn)有網(wǎng)表成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院2503.驗證流程LVS運(yùn)行結(jié)果RVE界面LVS驗證結(jié)果ERC&Softchk報告LVS錯誤類型：一般包含包括net、port、instances、proporty成都職業(yè)技術(shù)學(xué)院2603.驗證流程一般先從net的錯開始分析，電源、地上的錯一般留到后面分析；一般instance的錯誤最好等net錯都解決完了再解決；當(dāng)sourcenets一個對應(yīng)layoutnets兩個時可能發(fā)生了開路；當(dāng)sourcenets兩個對應(yīng)layoutn