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磁控濺射技術(shù)和透明導(dǎo)電薄膜薄膜的種類及應(yīng)用磁控濺射技術(shù)原理及應(yīng)用透明導(dǎo)電薄膜性能及應(yīng)用薄膜：在固體表面上鍍上一層于基體材料不同的薄層材料。厚度通常在幾微米以下。電學(xué)薄膜光學(xué)薄膜機(jī)械薄膜裝飾薄膜薄膜的制備手段氣相法：化學(xué)氣相沉積（CVD）物理氣相沉積（PVD）——熱蒸發(fā)

濺射

離子鍍分子束外延液相法：化學(xué)鍍、電鍍、浸漬鍍等。其他方法：噴涂、涂敷等。濺射原理濺射示意圖成膜示意圖薄膜的生長(zhǎng)電子在正交電磁場(chǎng)中的運(yùn)動(dòng)磁控濺射靶材結(jié)構(gòu)圖磁控濺射儀器結(jié)構(gòu)圖磁控濺射儀器外觀

大型多弧離子/磁控濺射鍍膜機(jī)。可在較大體積的工件表面鍍制厚度均勻的金屬、合金、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物等防腐、耐磨、導(dǎo)電透明等多種功能薄膜。磁控濺射技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)薄膜與基底的結(jié)合力強(qiáng)。鍍膜均勻，可鍍大面積薄膜。鍍膜種類豐富：各種金屬(合金)薄膜各種金屬氧化物、碳化物、氮化物、硼化物等薄膜其它(如類金剛石薄膜等)

基底種類豐富：金屬、玻璃、陶瓷、有機(jī)玻璃(薄膜)等透明導(dǎo)電薄膜厚度：幾十～幾百納米透明性：與玻璃接近導(dǎo)電性：與金屬接近透明導(dǎo)電薄膜種類氧化銦錫（ITO）摻鋁氧化鋅（ZAO）多層結(jié)構(gòu)：ITO/Ag/ITO、TiO2/Ag/TiO2、ITO/ZnO、SiO2/ITOITO薄膜電學(xué)性能電阻率7×10-5~10-4Ω?cm與金屬鉛導(dǎo)電能力接近。ITO薄膜光學(xué)性能其他性能反射紅外線（熱鏡）反射電磁波（>80%）吸收紫外線透明導(dǎo)電薄膜的應(yīng)用液晶顯示器（LCD）觸摸屏太陽(yáng)能電池除霜防霧保溫、隔熱電磁屏蔽軍事領(lǐng)域：雷達(dá)隱身透

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