GB/T 41869.4-2024光學(xué)和光子學(xué)微透鏡陣列第4部分：幾何特性測(cè)試方法

ICS

31.260

CCS

L51

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T41869.4—2024

光學(xué)和光子學(xué)微透鏡陣列

第4部分：幾何特性測(cè)試方法

Opticsandphotonics—Microlensarrays—

Part4：Testmethodsforgeometricalproperties

（ISO14880?4:2006，MOD）

2024-11-28發(fā)布2025-03-01實(shí)施

國家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局發(fā)布

國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T41869.4—2024

目次

前言

·····································································································

Ⅲ

引言

·····································································································

Ⅴ

1

范圍

··································································································

1

2

規(guī)范性引用文件

······················································································

1

3

術(shù)語和定義

···························································································

1

4

坐標(biāo)系

································································································

2

5

樣品準(zhǔn)備

······························································································

2

6

間距和表面浮雕深度的測(cè)量

··········································································

3

7

厚度的測(cè)量

···························································································

7

8

曲率半徑的測(cè)量

······················································································

8

9

測(cè)試結(jié)果和不確定度

················································································

10

10

測(cè)試報(bào)告

···························································································

10

附錄A（資料性）微透鏡陣列間距的均勻性測(cè)試

···················································

12

附錄B（規(guī)范性）基于斐索干涉儀的曲率半徑測(cè)試方法

············································

15

參考文獻(xiàn)

································································································

17

Ⅰ

GB/T41869.4—2024

前言

本文件按照GB/T1.1—2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分：標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》的規(guī)

定起草。

本文件是GB/T41869《光學(xué)和光子學(xué)微透鏡陣列》的第4部分，GB/T41869已經(jīng)發(fā)布了以下

部分：

—第1部分：術(shù)語；

—第2部分：波前像差的測(cè)試方法；

—第3部分：光學(xué)特性測(cè)試方法；

—第4部分：幾何特性測(cè)試方法。

本文件修改采用ISO14880?4：2006《光學(xué)與光子學(xué)微透鏡陣列第4部分：幾何特性測(cè)試

方法》。

本文件與ISO14880?4：2006相比，做了下述結(jié)構(gòu)調(diào)整：

—第5章對(duì)應(yīng)ISO14880?4：2006的5.4；

—6.2.1對(duì)應(yīng)ISO14880?4：2006的5.1.1.1；

—6.2.2對(duì)應(yīng)ISO14880?4：2006的5.1.1.2和5.1.1.3；

—6.2.3對(duì)應(yīng)ISO14880?4：2006的5.1.1.2；

—6.3對(duì)應(yīng)ISO14880?4：2006的5.1.2；

—6.4.1對(duì)應(yīng)ISO14880?4：2006的6.1.1；

—6.4.2對(duì)應(yīng)ISO14880?4：2006的6.1.2；

—7.1對(duì)應(yīng)ISO14880?4：2006的5.2.1；

—7.2、7.3對(duì)應(yīng)ISO14880?4：2006的6.2；

—8.1對(duì)應(yīng)ISO14880?4：2006的5.3.1；

—8.2.1對(duì)應(yīng)ISO14880?4：2006的5.3.2.1；

—8.2.2對(duì)應(yīng)ISO14880?4：2006的5.3.2.2；

—8.3對(duì)應(yīng)ISO14880?4：2006的5.3.2.3；

—8.4對(duì)應(yīng)ISO14880?4：2006的6.3；

—第9章對(duì)應(yīng)ISO14880?4：2006的第7章；

—第10章對(duì)應(yīng)ISO14880?4：2006的第8章；

—附錄A對(duì)應(yīng)ISO14880?4：2006的附錄B；

—附錄B對(duì)應(yīng)ISO14880?4：2006的附錄A。

本文件與ISO14880?4：2006的技術(shù)差異及其原因如下：

—用規(guī)范性引用的GB/T41869.1—2022代替了ISO14880?1（見第3章），以適應(yīng)我國的技術(shù)

條件；

—?jiǎng)h除了術(shù)語“微透鏡陣列厚度”（見ISO14880?4：2006的3.3），以適應(yīng)我國的技術(shù)條件；

—更改了干涉測(cè)量方法的要求，并將資料性引用的ISO14880?2和ISO/TR14999?1調(diào)整為規(guī)范性引

用的GB/T41869.2和ISO/TR14999?1：2005（見8.2.1），以適應(yīng)我國的技術(shù)條件；

—更改了溫度要求（見第5章），在20℃基礎(chǔ)上增加了±2℃的區(qū)間，考慮到實(shí)際測(cè)試中溫度儀器

的誤差對(duì)結(jié)果的影響；

—增加了“間距和表面浮雕深度的測(cè)量”的概述（見6.1），說明了接觸式輪廓儀和共焦顯微鏡

兩種測(cè)試方法的適用場(chǎng)景，便于讀者根據(jù)實(shí)際情況選擇相應(yīng)的測(cè)試方法；

—增加了“共焦顯微鏡測(cè)試方法”的測(cè)試準(zhǔn)備（見6.3.5），為便于讀者理解并操作；

Ⅲ

GB/T41869.4—2024

—增加了測(cè)試設(shè)備中“共焦顯微鏡和顯微鏡”的制造商和型號(hào)（見第10章），以適應(yīng)我國的技術(shù)

條件；

—增加了干涉光學(xué)測(cè)試方法（見附錄B），以適應(yīng)我國的技術(shù)條件、增加可操作性；

—?jiǎng)h除了“基于斐索干涉儀的曲率半徑測(cè)試方法”中的夏克?哈特曼設(shè)備（見ISO14880?4：

2006的附錄A），該設(shè)備不屬于干涉儀測(cè)試設(shè)備范疇。

本文件做了下列編輯性改動(dòng)：

—?jiǎng)h除了3.1的注2；

—?jiǎng)h除了3.2的注3；

—將ISO14880?4：2006中6.1.1的段調(diào)整為列項(xiàng)形式表述（見6.4.1）；

—將ISO14880?4：2006中6.3的段調(diào)整為列項(xiàng)形式表述（見8.4）。

請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利，本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別專利的責(zé)任。

本文件由中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)提出。

本文件由全國光學(xué)和光子學(xué)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)（SAC/TC103）歸口。

本文件起草單位：西安應(yīng)用光學(xué)研究所、中國科學(xué)院重慶綠色智能技術(shù)研究院、西南技術(shù)物理研究

所、中國兵器工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化研究所、廣東歐譜曼迪科技股份有限公司、浙江偉星光學(xué)股份有限公司、艾普

光學(xué)科技（廈門）有限公司、深圳市東正光學(xué)技術(shù)股份有限公司、浙江水晶光電科技股份有限公司、固

高科技股份有限公司。

本文件主要起草人：彭富倫、張為國、葉大華、孟銀霞、任均宇、孟凡萍、汪巘松、吳建斌、

曹毓、金利劍、李澤源、土克旭。

Ⅳ

GB/T41869.4—2024

引言

微透鏡陣列是陣列光學(xué)器件中一類重要的光學(xué)元件，以單個(gè)透鏡，兩個(gè)或多個(gè)透鏡陣列的形式，廣

泛應(yīng)用于三維顯示、與陣列光輻射源和光探測(cè)器相關(guān)的耦合光學(xué)、增強(qiáng)液晶顯示和光并行處理器元件。

隨著科技不斷進(jìn)步，有必要制定一套技術(shù)內(nèi)容與國際接軌的國家標(biāo)準(zhǔn)，這樣既有利于推動(dòng)我國微透

鏡陣列行業(yè)規(guī)范有序發(fā)展，又能更好地促進(jìn)相關(guān)領(lǐng)域的貿(mào)易、交流和技術(shù)合作。GB/T41869《光學(xué)和

光子學(xué)微透鏡陣列》就是在此背景下起草制定的，微透鏡陣列標(biāo)準(zhǔn)擬由以下4個(gè)部分組成。

—第1部分：術(shù)語。目的在于通過定義微透鏡及其陣列的基本術(shù)語，促進(jìn)微透鏡陣列產(chǎn)品的應(yīng)

用，有助于科研工作和行業(yè)從業(yè)者在共同理解的基礎(chǔ)上交流概念。

—第2部分：波前像差的測(cè)試方法。目的在于通過規(guī)范波前像差的測(cè)試方法，明確微透鏡的基本

性能特征。

—第3部分：光學(xué)特性測(cè)試方法。目的在于通過規(guī)范主要光學(xué)特性指標(biāo)的測(cè)試方法，提高不同供

應(yīng)方產(chǎn)品的兼容性和互換性，促進(jìn)微透鏡陣列技術(shù)進(jìn)步。

—第4部分：幾何特性測(cè)試方法。目的在于通過規(guī)范主要幾何特性指標(biāo)的測(cè)試方法，規(guī)范不同供

應(yīng)商產(chǎn)品性能的一致性，拓展其應(yīng)用領(lǐng)域。

Ⅴ

GB/T41869.4—2024

光學(xué)和光子學(xué)微透鏡陣列

第4部分：幾何特性測(cè)試方法

1范圍

本文件描述了測(cè)試參數(shù)、測(cè)試原理、測(cè)試設(shè)備、測(cè)試準(zhǔn)備，描述了測(cè)試程序及測(cè)試結(jié)果告等內(nèi)容。

本文件適用于表面浮雕結(jié)構(gòu)的微透鏡陣列和梯度折射率微透鏡陣列幾何特性的測(cè)試。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款。其中，注日期的引用文

件，僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改單）適用

于本文件。

GB/T41869.1—2022光學(xué)和光子學(xué)微透鏡陣列第1部分：術(shù)語（GB/T41869.1—2022,

ISO14880?1:2019，MOD）

GB/T41869.2光學(xué)和光子學(xué)微透鏡陣列第2部分：波前像差的測(cè)試方法（GB/T41869.2