《GaN基VCSEL的分布布拉格反射鏡與亞波長光柵結(jié)構(gòu)研究》

《GaN基VCSEL的分布布拉格反射鏡與亞波長光柵結(jié)構(gòu)研究》一、引言隨著光電子技術(shù)的快速發(fā)展，垂直腔面發(fā)射激光器（VCSEL）已經(jīng)成為一種重要的光電器件。其中，基于氮化鎵（GaN）的VCSEL因其在可見光及近紫外光區(qū)域的優(yōu)異性能，正逐漸成為研究的熱點。在GaN基VCSEL的結(jié)構(gòu)中，分布布拉格反射鏡（DistributedBraggReflector，DBR）和亞波長光柵結(jié)構(gòu)（Sub-wavelengthGratingStructure，SGS）的優(yōu)化設計對于提高器件性能具有重要意義。本文將針對GaN基VCSEL的DBR及SGS結(jié)構(gòu)進行深入研究與探討。二、GaN基VCSEL的分布布拉格反射鏡（DBR）研究DBR是VCSEL的核心結(jié)構(gòu)之一，其主要作用是提供高反射率及低損耗的光學諧振腔。在GaN基VCSEL中，DBR通常由多對交替堆疊的高折射率與低折射率的材料層構(gòu)成。首先，我們分析了DBR的反射率與材料層數(shù)的關系。隨著層數(shù)的增加，DBR的反射率逐漸提高，但同時也會帶來更多的界面損耗。因此，需要尋找一個平衡點，使得DBR在保證高反射率的同時，盡可能降低界面損耗。此外，我們還研究了不同材料對DBR性能的影響，包括不同GaN基材料的折射率、消光系數(shù)等。其次，針對DBR的制備工藝進行了研究。在制備過程中，需要控制好每層的厚度、平整度以及界面質(zhì)量等因素，以保證DBR的光學性能。此外，還需要考慮制備過程中的溫度、壓力等工藝參數(shù)對DBR性能的影響。三、亞波長光柵結(jié)構(gòu)（SGS）的研究SGS是VCSEL的重要結(jié)構(gòu)之一，它能夠有效地改善光束質(zhì)量、增強光提取效率及降低閾值電流。在GaN基VCSEL中，SGS通常由周期性的微納結(jié)構(gòu)構(gòu)成。首先，我們研究了SGS的周期、占空比等參數(shù)對光束質(zhì)量的影響。通過仿真分析發(fā)現(xiàn)，合理的SGS參數(shù)能夠使光束更加集中、發(fā)散角更小，從而提高光束質(zhì)量。此外，我們還研究了SGS對光提取效率的影響機制及增強光提取效率的方法。其次，針對SGS的制備工藝進行了研究。SGS的制備通常需要利用先進的微納加工技術(shù)，如干法刻蝕、濕法刻蝕等。在制備過程中，需要控制好刻蝕深度、側(cè)壁陡直度等因素，以保證SGS的形貌和性能。此外，還需要考慮制備過程中的溫度、壓力等工藝參數(shù)對SGS性能的影響。四、結(jié)論本文對GaN基VCSEL的DBR及SGS結(jié)構(gòu)進行了深入研究與探討。通過分析DBR的反射率與材料層數(shù)的關系、研究不同材料對DBR性能的影響以及優(yōu)化DBR的制備工藝等因素，我們能夠在保證高反射率的同時降低界面損耗；通過研究SGS的周期、占空比等參數(shù)對光束質(zhì)量及光提取效率的影響及優(yōu)化SGS的制備工藝等因素，我們能夠改善光束質(zhì)量并提高光提取效率。這些研究為進一步提高GaN基VCSEL的性能提供了重要依據(jù)和指導方向。未來我們將繼續(xù)深入開展相關研究工作，以期為光電子技術(shù)的發(fā)展做出更大的貢獻。五、進一步的研究方向在深入研究GaN基VCSEL的DBR及SGS結(jié)構(gòu)的過程中，我們發(fā)現(xiàn)仍有許多值得探索的領域。首先，關于DBR的研究，我們可以進一步探討不同材料體系對DBR性能的影響。除了傳統(tǒng)的材料如AlGaAs和InGaAsP等，新型的二維材料如石墨烯和過渡金屬硫化物等在DBR中的應用潛力也值得研究。這些新型材料可能具有更高的反射率、更低的損耗以及更好的熱穩(wěn)定性等特性，有望進一步提升VCSEL的性能。其次，對于SGS的研究，我們可以進一步探索其與其他光學元件的集成方式。例如，將SGS與微透鏡、光子晶體等光學元件相結(jié)合，以實現(xiàn)更高效的光束整形和光提取。此外，我們還可以研究SGS的動態(tài)調(diào)控性能，如通過電、熱或光等手段實現(xiàn)SGS的實時調(diào)整，以適應不同的應用場景。再者，我們還可以從制備工藝的角度進行深入研究。例如，優(yōu)化SGS的制備流程，提高制備過程中的良品率；探索新的制備技術(shù)，如納米壓印、激光直寫等，以實現(xiàn)更精確的SGS制備。此外，我們還可以研究制備過程中的環(huán)境因素對SGS性能的影響，如溫度、濕度、壓力等，以實現(xiàn)更穩(wěn)定的SGS制備過程。六、應用前景GaN基VCSEL的DBR及SGS結(jié)構(gòu)的研究具有重要的應用價值。首先，在通信領域，高性能的VCSEL是實現(xiàn)高速、大容量光通信的關鍵器件。通過優(yōu)化DBR及SGS結(jié)構(gòu)，我們可以提高VCSEL的光束質(zhì)量和光提取效率，從而提升通信系統(tǒng)的性能。其次，在生物醫(yī)學領域，VCSEL具有較高的空間分辨率和時間分辨率，可以應用于光學成像、生物傳感等領域。通過研究DBR及SGS結(jié)構(gòu)，我們可以進一步提高VCSEL的光束質(zhì)量和光提取效率，從而提高生物醫(yī)學應用的成像質(zhì)量和檢測精度。此外，在消費電子領域，VCSEL也可以應用于各種光電子設備中，如投影儀、AR/VR設備等。通過優(yōu)化DBR及SGS結(jié)構(gòu)，我們可以提高這些設備的光學性能和能效比，從而提升用戶體驗?？傊?，GaN基VCSEL的DBR及SGS結(jié)構(gòu)的研究具有重要的科學意義和應用價值。未來我們將繼續(xù)深入開展相關研究工作，以期為光電子技術(shù)的發(fā)展做出更大的貢獻。七、研究內(nèi)容深入探討針對GaN基VCSEL的分布布拉格反射鏡（DBR）與亞波長光柵（SGS）結(jié)構(gòu)的研究，我們將從多個維度進行深入探討。首先，針對DBR結(jié)構(gòu)的研究，我們將致力于優(yōu)化其材料組成與結(jié)構(gòu)設計。通過研究不同材料體系對DBR反射性能的影響，我們可以找到更合適的材料組合以增強DBR的反射效率與穩(wěn)定性。此外，我們將進一步研究DBR的微觀結(jié)構(gòu)，如周期性、層厚度等參數(shù)對反射性能的影響，以期找到最佳的DBR結(jié)構(gòu)設計方案。其次，對于SGS結(jié)構(gòu)的研究，我們將關注其制備工藝的優(yōu)化。除了激光直寫等現(xiàn)有技術(shù)外，我們還將探索其他制備方法，如納米壓印、干法刻蝕等，以實現(xiàn)更精確的SGS制備。同時，我們將研究制備過程中的環(huán)境因素對SGS性能的影響，如溫度、濕度、壓力等，以實現(xiàn)更穩(wěn)定的SGS制備過程。通過這些研究，我們期望找到最佳的制備工藝與條件，從而提升SGS的性能。在研究過程中，我們將注重實驗與理論相結(jié)合的方法。通過建立物理模型，我們將對DBR與SGS的結(jié)構(gòu)與性能進行理論分析，以期為實驗提供指導。同時，我們將通過實驗驗證理論分析的正確性，并不斷調(diào)整與優(yōu)化實驗參數(shù)，以實現(xiàn)更好的性能。此外，我們還將關注GaN基VCSEL在實際應用中的性能表現(xiàn)。我們將通過模擬與實驗相結(jié)合的方法，研究DBR與SGS結(jié)構(gòu)在通信、生物醫(yī)學、消費電子等領域的應用性能。通過分析實際應用的性能數(shù)據(jù)，我們將為優(yōu)化DBR與SGS結(jié)構(gòu)提供更有針對性的指導。八、合作與交流在GaN基VCSEL的DBR及SGS結(jié)構(gòu)的研究過程中，我們將積極開展合作與交流。首先，我們將與國內(nèi)外的研究機構(gòu)、高校和企業(yè)進行合作，共同開展相關研究工作。通過合作與交流，我們可以共享資源、互相學習、共同進步，從而推動研究的進展。此外，我們還將積極參加學術(shù)會議、研討會等活動，與同行專家進行交流與討論。通過與其他學者的交流與討論，我們可以了解最新的研究成果、研究動態(tài)和研究趨勢，從而為我們的研究工作提供更多的啟示和思路。九、未來展望未來，我們將繼續(xù)深入開展GaN基VCSEL的DBR及SGS結(jié)構(gòu)的研究工作。我們將不斷優(yōu)化DBR與SGS的結(jié)構(gòu)設計、制備工藝和性能表現(xiàn)，以期為光電子技術(shù)的發(fā)展做出更大的貢獻。同時，隨著科技的不斷發(fā)展和應用領域的不斷拓展，GaN基VCSEL的應用前景將更加廣闊。我們相信，通過不斷的研究與創(chuàng)新，GaN基VCSEL將在通信、生物醫(yī)學、消費電子等領域發(fā)揮更大的作用，為人類社會的發(fā)展與進步做出更大的貢獻。十、研究進展與技術(shù)挑戰(zhàn)在GaN基VCSEL的DBR（分布布拉格反射鏡）與SGS（亞波長光柵結(jié)構(gòu)）結(jié)構(gòu)的研究過程中，我們已經(jīng)取得了一些顯著的進展。在DBR方面，我們成功優(yōu)化了多層膜的周期性設計，提高了反射率并降低了吸收損耗。在SGS方面，我們通過精確控制光柵的周期和深度，實現(xiàn)了更高效的波長選擇和光束控制。然而，我們也面臨著一些技術(shù)挑戰(zhàn)。首先，DBR的制備過程中，多層膜的精確控制是一個關鍵問題。不同材料之間的晶格匹配和熱膨脹系數(shù)匹配對于確保反射鏡的性能至關重要。此外，亞波長尺度的SGS結(jié)構(gòu)制備需要高精度的工藝控制，以確保光柵的周期性和深度的一致性。為了克服這些技術(shù)挑戰(zhàn)，我們將繼續(xù)開展研究工作。我們將深入研究DBR與SGS的結(jié)構(gòu)設計和制備工藝，優(yōu)化薄膜生長和光柵制備的條件和參數(shù)，提高反射鏡的反射率和波長選擇能力。此外，我們還將探索新的制備技術(shù)和方法，如納米壓印技術(shù)、激光直寫技術(shù)等，以提高制備精度和效率。十一、研究方法與技術(shù)手段在GaN基VCSEL的DBR與SGS結(jié)構(gòu)的研究中，我們將采用多種技術(shù)手段進行研究。首先，我們將利用先進的薄膜生長技術(shù)，如金屬有機化學氣相沉積（MOCVD）技術(shù)，制備高質(zhì)量的DBR多層膜。其次，我們將采用光學測量技術(shù)，如反射光譜、透射光譜等，對DBR和SGS的性能進行評估和優(yōu)化。此外，我們還將利用計算機模擬和仿真技術(shù)，對DBR和SGS的結(jié)構(gòu)設計和性能進行深入研究和預測。在SGS的研究中，我們將采用先進的納米加工技術(shù)，如電子束刻蝕技術(shù)、激光干涉刻蝕技術(shù)等，制備高精度的亞波長光柵結(jié)構(gòu)。同時，我們還將利用光學模擬和仿真技術(shù)，對光柵的波長選擇和光束控制性能進行模擬和預測。這些研究方法和技術(shù)手段的有機結(jié)合，將有助于我們深入研究和優(yōu)化GaN基VCSEL的DBR與SGS結(jié)構(gòu)。十二、研究團隊與人才培養(yǎng)在GaN基VCSEL的DBR與SGS結(jié)構(gòu)的研究中，我們將組建一支高素質(zhì)的研究團隊。團隊成員將包括具有豐富經(jīng)驗的科研人員、研究生和本科生等。我們將通過定期的學術(shù)交流和培訓活動，提高團隊成員的科研能力和技術(shù)水平。同時，我們還將積極開展與國內(nèi)外研究機構(gòu)、高校和企業(yè)的合作與交流，共同推動研究的進展。在人才培養(yǎng)方面，我們將注重培養(yǎng)具有創(chuàng)新精神和團隊合作能力的人才。我們將為研究生和本科生提供豐富的科研項目和實踐機會，幫助他們深入了解GaN基VCSEL的技術(shù)和應用。通過實踐和研究，他們將掌握先進的科研技術(shù)和方法，為未來的科研工作打下堅實的基礎。十三、成果轉(zhuǎn)化與應用前景通過深入研究GaN基VCSEL的DBR與SGS結(jié)構(gòu)，我們將取得一系列重要的研究成果和技術(shù)突破。這些成果將有助于推動光電子技術(shù)的發(fā)展和應用。首先，優(yōu)化后的DBR與SGS結(jié)構(gòu)將提高VCSEL的性能和可靠性，為通信、生物醫(yī)學、消費電子等領域提供更好的光源解決方案。其次，我們的研究成果還將為其他光電子器件的研究提供有益的參考和借鑒。在未來，隨著科技的不斷發(fā)展和應用領域的不斷拓展，GaN基VCSEL的應用前景將更加廣闊。我們將繼續(xù)關注最新的研究成果和研究動態(tài)，不斷優(yōu)化DBR與SGS的結(jié)構(gòu)設計和制備工藝，為人類社會的發(fā)展與進步做出更大的貢獻。十四、研究方法與技術(shù)路線針對GaN基VCSEL的DBR（分布布拉格反射鏡）與SGS（亞波長光柵結(jié)構(gòu)）的研究，我們將采用一系列先進的研究方法和技術(shù)路線。首先，我們將通過理論模擬和仿真，對DBR和SGS的結(jié)構(gòu)進行優(yōu)化設計，以實現(xiàn)更好的光束質(zhì)量和更高的輸出功率。其次，我們將利用先進的制備工藝，如金屬有機化學氣相沉積（MOCVD）和干濕法刻蝕等，制備出高質(zhì)量的GaN基VCSEL器件。技術(shù)路線方面，我們將首先進行文獻調(diào)研和理論分析，明確研究目標和方向。然后，進行DBR和SGS的結(jié)構(gòu)設計，并利用仿真軟件進行模擬驗證。接下來，進行實驗設備的準備和樣品的制備，包括MOCVD生長、刻蝕等工藝。在樣品制備完成后，進行性能測試和數(shù)據(jù)分析，根據(jù)測試結(jié)果對結(jié)構(gòu)進行進一步的優(yōu)化。最后，總結(jié)研究成果，撰寫學術(shù)論文或?qū)＠暾垼⒀芯砍晒麘糜趯嶋H生產(chǎn)和應用中。十五、預期挑戰(zhàn)與解決方案在GaN基VCSEL的DBR與SGS結(jié)構(gòu)研究中，我們可能會面臨一些挑戰(zhàn)。首先，GaN材料的生長和器件制備工藝較為復雜，需要高精度的控制和技術(shù)支持。其次，DBR和SGS的結(jié)構(gòu)設計和優(yōu)化需要深入的理論分析和模擬驗證。此外，實驗過程中可能會遇到一些不可預見的問題和困難。針對這些挑戰(zhàn)，我們將采取以下解決方案：首先，加強團隊建設，吸引更多的優(yōu)秀人才加入研究團隊，提高研究能力和技術(shù)水平。其次，加強與國內(nèi)外研究機構(gòu)、高校和企業(yè)的合作與交流，共同推動研究的進展。此外，我們將不斷關注最新的研究成果和研究動態(tài)，及時調(diào)整研究方案和技術(shù)路線，以應對可能出現(xiàn)的挑戰(zhàn)和問題。十六、國際合作與交流為了推動GaN基VCSEL的DBR與SGS結(jié)構(gòu)研究的進展，我們將積極開展國際合作與交流。首先，我們將與國外的研究機構(gòu)和高校建立合作關系，共同開展研究項目和合作研究。其次，我們將參加國際學術(shù)會議和研討會，與其他國家和地區(qū)的學者進行交流和討論，分享研究成果和經(jīng)驗。此外，我們還將邀請國外的專家和學者來華訪問和交流，共同推動光電子技術(shù)的發(fā)展和應用。十七、知識產(chǎn)權(quán)保護在GaN基VCSEL的DBR與SGS結(jié)構(gòu)研究中，我們將注重知識產(chǎn)權(quán)保護。首先，我們將對研究成果進行專利申請，保護我們的技術(shù)成果和知識產(chǎn)權(quán)。其次，我們將與合作伙伴和企業(yè)進行技術(shù)轉(zhuǎn)讓和合作開發(fā)，將研究成果轉(zhuǎn)化為實際生產(chǎn)力。此外，我們還將加強團隊成員的知識產(chǎn)權(quán)意識教育，提高團隊成員的知識產(chǎn)權(quán)保護能力。十八、項目預期成果與影響通過深入研究GaN基VCSEL的DBR與SGS結(jié)構(gòu)，我們預期將取得一系列重要的研究成果和技術(shù)突破。首先，我們將優(yōu)化DBR和SGS的結(jié)構(gòu)設計，提高VCSEL的性能和可靠性。其次，我們的研究成果將推動光電子技術(shù)的發(fā)展和應用，為通信、生物醫(yī)學、消費電子等領域提供更好的光源解決方案。此外，我們的研究成果還將為其他光電子器件的研究提供有益的參考和借鑒。最終，我們將為人類社會的發(fā)展與進步做出更大的貢獻。十九、研究方法與技術(shù)路線針對GaN基VCSEL的DBR與SGS結(jié)構(gòu)的研究，我們將采用先進的理論模擬與實驗研究相結(jié)合的方法。首先，通過運用計算機輔助設計軟件（CAD）進行模型構(gòu)建與仿真，探究DBR和SGS的物理性質(zhì)及其對VCSEL性能的影響。接著，結(jié)合高精度的光學測量設備，進行實驗驗證與數(shù)據(jù)收集。技術(shù)路線上，我們將分階段進行：第一階段，對GaN基VCSEL的DBR與SGS結(jié)構(gòu)進行理論分析，建立精確的物理模型。第二階段，利用仿真軟件對模型進行模擬，預測并優(yōu)化DBR和SGS的結(jié)構(gòu)設計。第三階段，根據(jù)模擬結(jié)果，制備實驗樣品并進行嚴格的實驗測試。第四階段，分析實驗數(shù)據(jù)，與理論模擬結(jié)果進行比較，進一步優(yōu)化結(jié)構(gòu)設計。第五階段，根據(jù)優(yōu)化后的結(jié)構(gòu)設計，制備高性能的GaN基VCSEL器件，并進行實際應用測試。二十、團隊構(gòu)成與分工我們的研究團隊由光電子技術(shù)領域的專家、學者和工程師組成。團隊成員分工明確，包括項目負責人、理論模擬專家、實驗研究人員、數(shù)據(jù)分析師等。項目負責人負責整體研究的規(guī)劃與協(xié)調(diào)，理論模擬專家負責DBR與SGS的理論分析與建模，實驗研究人員負責樣品的制備與實驗測試，數(shù)據(jù)分析師負責數(shù)據(jù)處理與分析。二十一、經(jīng)費預算與使用計劃針對GaN基VCSEL的DBR與SGS結(jié)構(gòu)研究項目，我們將根據(jù)實際需求制定詳細的經(jīng)費預算。預算將包括設備購置費、人員工資、實驗材料費、差旅費等。我們將合理分配經(jīng)費，確保研究項目的順利進行。同時，我們還將定期對經(jīng)費使用情況進行審計與調(diào)整，確保經(jīng)費的合理使用。二十二、預期的挑戰(zhàn)與應對策略在研究過程中，我們預期會面臨一些挑戰(zhàn)。例如，DBR與SGS的結(jié)構(gòu)設計可能存在技術(shù)難度，實驗結(jié)果可能無法達到預期等。針對這些挑戰(zhàn)，我們將采取以下應對策略：首先，加強團隊成員的技術(shù)培訓與交流，提高研究水平；其次，及時調(diào)整研究方案與技術(shù)路線，確保研究項目的順利進行；最后，加強與國內(nèi)外同行的合作與交流，共同推動光電子技術(shù)的發(fā)展。二十三、成果推廣與應用前景我們的研究成果將不僅為光電子技術(shù)領域提供新的光源解決方案，還將為通信、生物醫(yī)學、消費電子等領域帶來深遠影響。我們將積極推廣研究成果，通過學術(shù)會議、論文發(fā)表、技術(shù)交流等方式，讓更多的學者和企業(yè)了解我們的研究成果。同時，我們還將與企業(yè)合作開發(fā)相關產(chǎn)品，將研究成果轉(zhuǎn)化為實際生產(chǎn)力，為人類社會的發(fā)展與進步做出更大的貢獻?？傊?，通過深入研究GaN基VCSEL的DBR與SGS結(jié)構(gòu)，我們相信將取得一系列重要的研究成果和技術(shù)突破，為光電子技術(shù)的發(fā)展和應用開辟新的道路。二十四、深入研究的必要性在GaN基VCSEL（垂直腔面發(fā)射激光器）中，DBR（分布布拉格反射鏡）與SGS（亞波長光柵結(jié)構(gòu)）的研究具有深遠的意義。這兩種結(jié)構(gòu)在激光器的性能優(yōu)化和光束控制方面起著關鍵作用。因此，為了進一步推動光電子技術(shù)的發(fā)展，有必要對這兩種結(jié)構(gòu)進行更深入的研究。首先，DBR作為激光器的核心反射結(jié)構(gòu)，其反射率和光學性能的優(yōu)劣直接決定了激光器的閾值電流、輸出功率等關鍵參數(shù)。通過深入研究DBR的結(jié)構(gòu)、材料和制備工藝，我們可以進一步提高其反射率，降低閾值電流，提高激光器的效率。其次，SGS作為一種新型的光束控制結(jié)構(gòu)，其在光束整形、模式控制等方面具有獨特的優(yōu)勢。通過對SGS的深入研究，我們可以進一步優(yōu)化其結(jié)構(gòu)設計，提高光束質(zhì)量，為光通信、生物醫(yī)學、消費電子等領域提供更高質(zhì)量的光源。二十五、研究方法與技術(shù)路線在研究過程中，我們將采用先進的理論分析和模擬仿真技術(shù)，對DBR和SGS的結(jié)構(gòu)進行優(yōu)化設計。通過建立數(shù)學模型，分析結(jié)構(gòu)參數(shù)對激光器性能的影響，為實驗提供理論指導。同時，我們還將采用先進的制備工藝和實驗技術(shù)，對優(yōu)化后的結(jié)構(gòu)進行制備和測試，驗證理論分析的正確性。技術(shù)路線方面，我們將首先進行理論分析和模擬仿真，確定DBR和SGS的優(yōu)化設計方案。然后，根據(jù)設計方案進行制備工藝的研究和開發(fā)，包括材料選擇、制備方法、工藝參數(shù)等。接著，進行實驗測試和性能評估，對制備出的器件進行性能測試和評估，分析其性能參數(shù)和優(yōu)缺點。最后，根據(jù)測試結(jié)果對結(jié)構(gòu)和制備工藝進行進一步優(yōu)化，直至達到預期的性能指標。二十六、預期成果與貢獻通過深入研究GaN基VCSEL的DBR與SGS結(jié)構(gòu)，我們預期將取得以下重要成果：1.優(yōu)化DBR和SGS的結(jié)構(gòu)設計，提高激光器的反射率和光束質(zhì)量；2.降低激光器的閾值電流和功耗，提高激光器的效率和穩(wěn)定性；3.為光通信、生物醫(yī)學、消費電子等領域提供更高質(zhì)量的光源解決方案；4.推動光電子技術(shù)的發(fā)展和應用，為人類社會的發(fā)展與進步做出更大的貢獻。同時，我們的研究成果還將為其他領域的研究提供新的思路和方法，促進跨學科的發(fā)展和交流。二十七、團隊合作與交流在研究過程中，我們將加強團隊成員之間的技術(shù)交流和合作，共同攻克技術(shù)難題。同時，我們還將積極與國內(nèi)外同行進行合作與交流，共同推動光電子技術(shù)的發(fā)展。通過合作與交流，我們可以共享研究成果和經(jīng)驗，共同推動相關領域的發(fā)展和進步。總之，通過深入研究GaN基VCSEL的DBR與SGS結(jié)構(gòu)，我們將為光電子技術(shù)的發(fā)展和應用開辟新的道路，為人類社會的發(fā)展與進步做出更大的貢獻。二十八、GaN基VCSEL的分布布拉格