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同質(zhì)結(jié)異質(zhì)結(jié)半導(dǎo)體材料的
制備和表征報(bào)告內(nèi)容背景介紹制備方法表征方法半導(dǎo)體基本概念+++++VBCB-----P型N型PN結(jié)N------------
++++++++++++P空間電荷區(qū)內(nèi)建電場空穴擴(kuò)散力電子擴(kuò)散力PN結(jié)N------------
++++++++++++P_+ρ(C/cm3)+eNd-eNaxpxpxnxnNaxp=Ndxn同質(zhì)結(jié)與異質(zhì)結(jié)同質(zhì)結(jié):由禁帶寬度相同、導(dǎo)電類型不同或雖導(dǎo)電類型相同但摻雜濃度不同的單晶材料組成的晶體界面稱為同質(zhì)結(jié)。如:n-GaAs/p-GaAsn-GaAs/N-GaAs異質(zhì)結(jié):
由禁帶寬度不同的兩種單晶材料一起構(gòu)成的晶體界面稱為異質(zhì)結(jié)。同型異質(zhì)結(jié):n-GaAs/N-Alx
Ga1
-
xAs異型異質(zhì)結(jié):n-GaAs/P-Alx
Ga1
-
xAs同質(zhì)結(jié):同一單晶xpxnExEfEcEv異質(zhì)結(jié):不同單晶xpxnExEfEcEvEcEvPN表征方法電流-電壓法(I-V)電容-電壓法(C-V)擴(kuò)散反射吸收
法(DRS)表面光伏法(SPV)電容-電壓法(C-V)表面光伏法(SPV)C=;C-V法:1/C2~V2(Vd-Va).(ε1Na+ε2Nd)qε1ε2NdNa1/C2=_+ρ(C/cm3)+eNd-eNaxpxnVaVa+dVC:電容Vd:內(nèi)建電勢Va:外加電壓ε:介電常數(shù)N:攙雜濃度+dQ-dQdQdVaSPV:SurfacePhotoVoltage表面光電壓技術(shù):基于固體表面的光生伏特效應(yīng)而發(fā)展的一種被測物理量隨著光子能量變化的光譜檢測技術(shù)。檢測信息
樣品表層的性質(zhì)(一般為幾十nm)。檢測內(nèi)容:
半導(dǎo)體類型表面態(tài)能級位置表面電荷分布情況半導(dǎo)體的能帶帶隙Ef<Esurfacee:體相表面E內(nèi)建:體相表面能帶:向下彎曲SPV應(yīng)用:半導(dǎo)體類型檢測N型P型Ef>Esurfacee:體相表面E內(nèi)建:體相表面能帶:向上彎曲SPV應(yīng)用:半導(dǎo)體類型檢測光照時(shí):ΔV=V2-V1<0光照+正電壓:ΔV=V3-V1>0光照+負(fù)電壓:ΔV=V4-V1<0V:表面電勢P型N型光照時(shí):ΔV=V2-V1<0光照+正電壓:ΔV=V3-V1<0光照+負(fù)電壓:ΔV=V4-V1>0V:表面電勢制備方法電化學(xué)沉積(ED)液相外延法(LPE)金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積法(MOCVD)分子束外延(MBE)電化學(xué)沉積電沉積是一種電化學(xué)過程,也是一種氧化還原過程。從理論上說,只要陰極電位負(fù)于金屬的還原電位,金屬就可在陰極表面沉積影響多元組分共沉積的主要因素有:(1)電解液中單個(gè)離子的放電電位(2)放電電位差異引起的電極極化(3)電解液中離子的相對濃度(4)氫在陰極表面的析出電位(5)陰極表面的導(dǎo)電性電化學(xué)共沉積φ放電=φ°+RT/nFlna+ΔφφA°+RT/nFlna+Δφ≈φB°+RT/nFlna+Δφφ°:標(biāo)準(zhǔn)電極電位;a:離子活度Δφ:超電壓;R:氣體常數(shù)F:法拉弟常數(shù);n:得失電子數(shù)目T:絕對溫度ED法制備GaAs薄膜φAs=0.254-0.0394pH+0.0197
lgaAsO++ΔφAsφGa=
-0.529+0.0197
lga
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