電容屏Sensor基礎(chǔ)知識簡介

電容屏Sensor基礎(chǔ)知識簡介一、基本常識簡介：是電容屏的電信號功能層，其可以是單層材料構(gòu)成，也可以是多層材料形成復(fù)合結(jié)構(gòu)，俗稱"功能片"種類及其特點：做載體的：厚度優(yōu)勢，未來電容屏將越來越薄做載體的：可全工藝，結(jié)構(gòu)等

基本常識做載體的工藝：單層：一層層，無屏蔽層，主要用于中小尺寸，成本低；雙層：兩層層，無屏蔽層，大尺寸都傾向于，成本低；三層：兩層層，一層屏蔽層，工藝步驟多且良率不好控制，只能承載單層。做載體的工藝：單層搭橋：只需要一片玻璃，一面搭橋做層一面做屏蔽層，主要用于小尺寸的屏，工藝少、成本低、良率好控制；雙層：一塊玻璃的兩面都鋪有，由于自電容抗干擾能力弱必須再加一層屏蔽層，導(dǎo)致成本增加但實現(xiàn)工藝比單層容易，通常把一層做到上面，另一塊玻璃做層和屏蔽層。二、與的比較（菲林）分為亮面材料和霧面材料。均有不防劃傷、防劃傷、防牛頓環(huán)、防反射（高透處理）等材質(zhì)；（導(dǎo)電玻璃）分為普通玻璃和強化玻璃。其中強化玻璃有表面鍍膜和離子置換工藝。厚度有2.0、1.1、0.7、0.55、0.4、0.3等規(guī)格。結(jié)構(gòu)及其主要材料比較是一種N型氧化物半導(dǎo)體-氧化銦錫薄膜即銦錫氧化物半導(dǎo)體透明導(dǎo)電膜,通常有兩個性能指標:電阻率和透光率。在氧化物導(dǎo)電膜中，以摻的2O3()膜的透過率最高和導(dǎo)電性能最好,而且容易在酸液中蝕刻出細微的圖形.其中透光率達90%以上中其透光率和阻值分別由2O3與2O3之比例來控制,通常2O32O3=1:9,多用于觸控面板、觸摸屏、冷光片等。是所有電阻技術(shù)觸屏及電容技術(shù)觸摸屏都用到的主要材料，實際上電阻和電容技術(shù)觸摸屏的工作面就是涂層。：是將光學(xué)亞克力膠做成無基材，然后在上下底層各貼合一層離型薄膜，是一種無基體材料的雙面貼合膠帶。特性：高透光率、霧度低、耐紫外線、高粘著力、耐高溫、長時間不使用不發(fā)黃：與的比較市場比較1、蘋果采用的是玻璃電容屏，采用的是電容屏；2、目前，、、等都有玻璃電容屏和電容屏產(chǎn)品；3、目前市面上的芯片都能支持玻璃電容屏和電容屏，因此，客戶選擇玻璃電容屏還是電容屏將不限制電容屏芯片與平臺之間調(diào)制的限制；4、電容屏采用印刷工藝制程，設(shè)備不需要采用曝光、顯影等高端制程，因此相對玻璃電容屏而言，成本較低；5、電容屏是柔性的與面板玻璃貼合，貼合容易，而玻璃電容屏是剛性的玻璃與玻璃貼合，貼合難；6、電容屏打樣周期短，目前，國內(nèi)供應(yīng)商還是以電容屏為主。注：曝光、顯影制程是一種高端制程、在芯片封裝和電極設(shè)備中常用，相對印刷而言，其精度高、成本高，但是電容屏芯片在計算坐標時是一種權(quán)重計算，分辨率低，因此精度高對觸摸屏的實際坐標精度提高不明顯。最大的優(yōu)勢是可以使玻璃電容屏的邊框能設(shè)計很窄。三、電容屏制程工藝簡介絲印工藝（即化學(xué)蝕刻法）：在絕大多數(shù)的場合中，化學(xué)蝕刻法是圖形制備最成熟和可行的技術(shù)，它可以根據(jù)你的需要，生成目前足夠精細的圖案和相對比較少的前期投資。隨著深紫外線技術(shù)在曝光設(shè)備上的應(yīng)用，微米的精度，早已被大多數(shù)廠家所實現(xiàn)。它具有高效率、批次穩(wěn)定性和重復(fù)性好、設(shè)備投資額低、配套技術(shù)完善等諸多優(yōu)點，目前仍是大規(guī)模生產(chǎn)的主要方向，使用的原料有蝕刻膏、耐酸油墨、光刻膠。蝕刻膏制程（簡稱干蝕刻）：是直接在產(chǎn)品電極圖形區(qū)域外印制蝕刻膏，等反應(yīng)完全后，用蝕刻膏溶劑，一般是水清洗干凈，留下所需的電極圖形。因為不用耗費大量的化學(xué)物品，對環(huán)境污染影響更小，節(jié)省大量水、電費、場地費用，前期投資費用低廉，一般的中小型企業(yè)都可以掌握大部分技術(shù)。該工藝的線寬線距一般要求在0.2以上，對絲印網(wǎng)版感光膠要求高。控制要點：溫度、蝕刻速度、邊緣效應(yīng)耐酸油墨制程（簡稱濕蝕刻）：分為型和熱固型。它是在產(chǎn)品電極圖形區(qū)域內(nèi)印制阻蝕油墨保護起來，然后把產(chǎn)品浸入化學(xué)蝕刻液中，讓產(chǎn)品電極圖形區(qū)域外部分與化學(xué)蝕刻液完全反應(yīng)后，再把阻蝕油墨從產(chǎn)品電極圖形表面剝離下來，形成產(chǎn)品電極圖形。它的線寬和線距做到0.08，仍可以達到95%以上的蝕刻良率阻蝕油墨的控制要點：針孔度、粘度保護膠制程：熱固型，過酸不過減蝕刻良率較高，成本較高絲印工藝流程激光工藝：具有反射紅外線，吸收紫外線能量的特性。人們利用這兩個特性制作了1055和355的激光器，進行膜圖形制備加工。紅外線激光加工是使層在高溫下汽化揮發(fā)，把去除掉。紫外線激光加工讓層里的原子吸收紫外線能量后自己激化成離子，從層表面不斷逃逸，把去除掉。激光蝕刻法制作層有比較嚴格的線距限制，在圖形制備工藝中有相當大的局限性，對那些圖形簡單的產(chǎn)品如觸摸屏、硅片光伏電池、薄膜開關(guān)等比較實用。當然，在其它使用膜的產(chǎn)品中，也經(jīng)常用來做為線路短、斷路修補使用。在激光加工方式中，大尺寸的膜一般采用矢量圖形激光切割層的方式加工，小尺寸的除了采用矢量切割方式外，也有人使用振鏡式圖形點陣激光掃描雕刻方式進行快速加工。激光加工是一種非接觸性加工，對產(chǎn)品表面處理要求不高，產(chǎn)品表面更容易得到保護，產(chǎn)品品質(zhì)更能得到保證。由于不用使用化學(xué)原料和消耗水資源，更符合環(huán)境保護要求，在包含電子信息業(yè)的各個產(chǎn)業(yè)中，得到迅速的發(fā)展和應(yīng)用，慢慢在往主流加工方式靠攏。目前我司供應(yīng)商主要采用激光鐳雕配合絲印的工藝——外圍線路采用鐳雕工藝、用絲印工藝激光蝕刻工藝流程黃光工藝：單面：在玻璃基板的同一面上完成X軸和Y軸導(dǎo)線的光刻，X和Y中間鍍2等做絕緣。具體流程如下圖：雙面：在玻璃基板的金屬面和非金屬面上分別完成X軸和Y軸導(dǎo)線的光刻。具體流程如下圖：黃光工藝：最突出的特點就是走線間距、線寬很小，可以在有限的空間里實現(xiàn)更復(fù)雜的排線克服大尺寸中排線復(fù)雜問題，也能滿足目前市場上追求的超窄邊框的需求；它的電極間距也極小，這顯著提高了觸摸屏觸控時的識別率和感應(yīng)性能，精細化的蝕刻技術(shù)也能顯著減少觸摸屏的耗電量。該工藝一致性好，良率高，對于比較窄邊框的方案以及一些相對高端的案子一般都是使用該制程，該走線一般走0.03-0.05甚至更細。但是價格會高些，以及對設(shè)備要求也高。光罩()又稱鉻版、掩膜版、掩光版、光刻版等，一般為玻璃基材以鉻、氧化鉻為掩膜的硬掩膜版，為了防止其變形，需要豎直存放，為了保證掩膜版表面的潔凈度，一般要保存在1,000級以上的無塵室內(nèi)，濕度要維持在40-60左右的干燥環(huán)境里，以防止玻璃出現(xiàn)發(fā)霉現(xiàn)象影響光學(xué)性能。濕度太高濕會發(fā)霉，濕度太干燥會有靜電，容易使光罩吸附異物，異物容易造成刮傷影響圖案的完整性。四、電容屏常見不良簡介短路不良原因：制作過程中 ，涂前玻璃基板上有纖維，顯影后纖維類異物掉到玻璃上或被污染造成蝕刻后走線短路控制點：顯影后外觀檢查針孔不良原因：1、光刻掩模版質(zhì)量不好，本身有針孔；2、涂光刻膠時，操作環(huán)境被灰塵沾污；3、光刻膠涂得太薄，或光刻膠本身抗蝕性能太差；4、曝光時間控制不好；蝕刻液配比不當；5、玻璃表面本身缺陷也可能造成針孔。劃傷 不良原因：清洗或制作過程中，玻璃表面受到污染，造成蝕刻后走線斷線或缺口控制點：蝕刻后外觀檢查重點不良及其管控措施1：銀漿斷線搭線問題，這個問題一直困擾眾多企業(yè)，如何解決此問題已成為結(jié)構(gòu)電容屏的重點，但是，實際真正做得好的沒有幾家，因為就斷線而言，需要控制的因素太多，如車間潔凈度，銀漿粘度，設(shè)備對于參數(shù)的可控性，工藝參數(shù)的制定及網(wǎng)版的目數(shù)，絲徑，張力等等，只要其中一項沒做到位就會影響銀漿印刷的效果。2：功能問題，功能問題主要分為三種：第一，由于刻斷引起的局部或整條通道的點觸失效；第二，由于銀漿斷線搭線造成的功能不良；第三由于蝕刻膏或耐酸滲透和圖案變形或是制程中造成方阻變化過大引起的容值偏差，即容值的均勻性偏