任務(wù)二 影響氧化還原反應(yīng)方向的因素

項(xiàng)目五氧化還原滴定法任務(wù)一氧化還原電極電位任務(wù)二影響氧化還原反應(yīng)方向的因素任務(wù)三氧化還原反應(yīng)進(jìn)行的程度與速率任務(wù)四氧化還原滴定曲線任務(wù)五氧化還原滴定指示劑任務(wù)六常用的氧化還原滴定法及應(yīng)用任務(wù)七氧化還原滴定法的計(jì)算任務(wù)二 影響氧化還原反應(yīng)方向的因素一、氧化還原反應(yīng)的方向：條件電位高的作氧化劑，條件電位低的作還原劑。例如：當(dāng)條件發(fā)生改變時(shí)，氧化還原反應(yīng)的方向可能會(huì)發(fā)生改變，主要情況有以下幾種：1.氧化劑、還原劑濃度改變對(duì)反應(yīng)方向的影響：例1：判斷[Sn2+]=[Pb2+]=1mol

L

1，和[Sn2+]=1mol

L

1、[Pb2+]=0.1mol

L

1兩種情況下反應(yīng)進(jìn)行的方向。解：已知(1)[Sn2+]=[Pb2+]=1molL1時(shí)適用條件：兩電對(duì)條件電位相差不大時(shí)，否則氧化劑、還原劑濃度的改變無(wú)法實(shí)現(xiàn)反應(yīng)方向的逆轉(zhuǎn)！(2)[Sn2+]=1molL1

[Pb2+]=0.1molL1時(shí)2.酸度對(duì)反應(yīng)方向的影響：①[H+]或[OH

]參加電極反應(yīng),包括在Nernst方程中,直接影響電位值.例:H3AsO4+2H++2e=HAsO2+2H2O②影響Ox或Red的存在形式3.形成沉淀對(duì)反應(yīng)的影響：(改變濃度比值)例如：2Cu2++4I

=2CuI↓+I2若從標(biāo)準(zhǔn)電位判斷，已知ΦΘ（Cu2+/Cu+）=0.159V，ΦΘ（I2/I-）=0.545V，應(yīng)當(dāng)是I2氧化Cu+。但事實(shí)上，Cu+氧化I-的反應(yīng)進(jìn)行得很完全。其原因就在于Cu+生成溶解度很小的CuI沉淀，溶液中[Cu+]極小，電對(duì)Cu2+/Cu+的電位顯著增高，Cu2+成為較強(qiáng)的氧化劑了。在氧化還原反應(yīng)中，當(dāng)氧化劑或者還原劑生成沉淀時(shí)，改變了它們?cè)谌芤褐械臐舛?，電極電位發(fā)生變化，因此可能改變反應(yīng)方向。4.絡(luò)合效應(yīng)對(duì)反應(yīng)的影響：

如果在氧化還原反應(yīng)中，氧化型或還原型能生成穩(wěn)定配合物，改變了它們?cè)谌芤褐械臐舛龋姌O電位也相應(yīng)改變，因此，也可能改變反應(yīng)方向。

綜上所述，雖然各種因素都能影響氧化還原反應(yīng)的方向，但只有兩個(gè)電對(duì)的電極電位值