圖形發(fā)生器使用說(shuō)明

PAGE50PAGE1DY-2000A型納米通用圖形發(fā)生器DY-2000A型納米通用圖形發(fā)生器是用于電子束曝光的關(guān)鍵設(shè)備,它與掃描電子顯微鏡(SEM)或聚焦離子束系統(tǒng)(FIB)連接能夠方便地制作微米和納米結(jié)構(gòu),特別適用于微電子器件、量子器件、光電子器件、聲表面波器件、微機(jī)電系統(tǒng)的研究和開(kāi)發(fā)。圖形發(fā)生器控制聚焦電子束在有電子抗蝕劑的基片上掃描，掃描后抗蝕劑的物理和化學(xué)性能發(fā)生變化，經(jīng)過(guò)顯影處理后基片上就會(huì)形成圖形，這就是電子束曝光的過(guò)程。由于掃描電子顯微鏡可以形成小到幾納米的束斑，因此利用它可光刻極高分辨率的圖形。利用圖形發(fā)生器的曝光劑量控制功能，也可以制作三維微細(xì)結(jié)構(gòu)。圖形發(fā)生器的構(gòu)成與功能1.構(gòu)成：高速數(shù)字信號(hào)處理器（DSP）高精度圖形數(shù)據(jù)采集器先進(jìn)、快速的SCSI接口帶有溫控的16位數(shù)模轉(zhuǎn)換器（D/A）5英寸液晶跟蹤顯示器（LCD）控制用PC計(jì)算機(jī)（Windows2000操作系統(tǒng)）2.功能：接受GDSⅡ、CIF和DXF圖形數(shù)據(jù)格式繪圖功能（矩形、三角形、梯形、圓形、圓環(huán)、扇形和任意曲線圖形）加工過(guò)程控制（曝光、工件臺(tái)移動(dòng)、束閘通斷）掃描場(chǎng)位置、尺寸和旋轉(zhuǎn)修正標(biāo)記檢測(cè)與位置修正鄰近效應(yīng)修正加工過(guò)程跟蹤顯示3.尺寸、重量與功率:長(zhǎng)×寬×高：450×430×190（mm）重量：kg電源功率：300W輸入電壓：220V±10%50Hz4.計(jì)算機(jī)配置:Dell高端商用機(jī)GX270P42.0GCPU80G硬盤(pán)帶SCSI接口卡Windows2000操作系統(tǒng)17寸液晶顯示器

圖形發(fā)生器提供的曝光方式1．單場(chǎng)單層曝光這是電子束曝光的最簡(jiǎn)單方式，它不需要高精度和電機(jī)控制的工件臺(tái)，但是這種方式下要求曝光的圖形小于SEM一個(gè)曝光場(chǎng)的大小，并且曝光的最小特征尺寸在線性區(qū)內(nèi)。2．單場(chǎng)多層曝光當(dāng)制作的器件需要幾個(gè)曝光步驟時(shí)需要使用這種方式，這時(shí)必須精確放置每層曝光的圖形以使其與前面的圖形對(duì)應(yīng)，每層曝光前執(zhí)行標(biāo)記識(shí)別和場(chǎng)校正程序來(lái)完成套刻功能。3．在不同位置曝光多個(gè)結(jié)構(gòu)系統(tǒng)可以在樣品的不同位置自動(dòng)曝光相同或不同的結(jié)構(gòu)圖形，這時(shí)需要電機(jī)控制的工件臺(tái)，曝光任務(wù)可以包含上面的單場(chǎng)多層曝光。4．多場(chǎng)曝光（場(chǎng)拼接）/掩模制作與以上描述的曝光方式不同，這種方式要求有高精度的樣品工件臺(tái)（如：帶有激光干涉儀）。曝光場(chǎng)尺寸必須根據(jù)圖形要求的分辨率自由選擇，太大會(huì)帶來(lái)場(chǎng)邊緣的非線性，所以當(dāng)設(shè)計(jì)的圖形大于一個(gè)曝光場(chǎng)時(shí)，需要多個(gè)場(chǎng)拼接起來(lái)形成完整圖形。為了得到高拼接精度，曝光場(chǎng)尺寸和畸變必須利用激光干涉儀系統(tǒng)校正。軟件自動(dòng)分割設(shè)計(jì)的圖形，控制完成整個(gè)曝光過(guò)程。5．用預(yù)先在每個(gè)曝光場(chǎng)制作的標(biāo)記進(jìn)行多場(chǎng)曝光這種方式可以在沒(méi)有激光干涉儀的情況下制作大尺寸的結(jié)構(gòu)圖形，這時(shí)在每一個(gè)曝光場(chǎng)中要預(yù)先制作標(biāo)記，標(biāo)記可以用光刻機(jī)或電子束曝光機(jī)制作，拼接的精度與標(biāo)記制作的精度有關(guān)。

圖形發(fā)生器的面板與連接DY-2000A型納米通用圖形發(fā)生器的前面板系統(tǒng)復(fù)位電鏡控制電源開(kāi)關(guān)束閘極性顯示復(fù)位系統(tǒng)復(fù)位電鏡控制電源開(kāi)關(guān)束閘極性顯示復(fù)位圖1DY-2000A圖形發(fā)生器的前面板圖顯示面板：用于曝光圖形的跟蹤顯示系統(tǒng)復(fù)位：用于圖形發(fā)生器系統(tǒng)復(fù)位操作顯示復(fù)位：當(dāng)顯示屏出現(xiàn)故障時(shí)進(jìn)行復(fù)位操作束閘極性：用于束閘極性的翻轉(zhuǎn)，相應(yīng)的指示燈用于顯示束閘極性電鏡控制：用于控制掃描電子顯微鏡的內(nèi)、外掃描方式的切換。其上相應(yīng)的指示燈用于顯示掃描電子顯微鏡的工作狀態(tài)，指示燈亮表示電鏡處于外掃描方式；指示燈滅表示電鏡處于內(nèi)掃描方式。電源開(kāi)關(guān)：用于圖形發(fā)生器的開(kāi)關(guān)

DY-2000A型納米通用圖形發(fā)生器的后面板圖2DY-2000A圖形發(fā)生器的后面板圖X輸出：BNC接頭，用于掃描電子顯微鏡的X方向掃描Y輸出：BNC接頭，用于掃描電子顯微鏡的Y方向掃描束閘輸出：BNC接頭，用于接束閘電源，進(jìn)行束閘開(kāi)關(guān)控制遙控輸出：BNC接頭，用于掃描電子顯微鏡的內(nèi)、外掃描控制保險(xiǎn)絲：圖形發(fā)生器的保險(xiǎn)絲（220V，2A）電源插頭：用于交流電源220V輸入檢測(cè)輸入：BNC接頭，用于二次電子檢測(cè)信號(hào)的輸入SCSI數(shù)據(jù)通訊：連接SCSI線，用于和計(jì)算機(jī)中SCSI卡的數(shù)據(jù)通訊位置誤差信號(hào)輸入：對(duì)于配備激光控制工件臺(tái)的曝光系統(tǒng)，用于工件臺(tái)的位置誤差信號(hào)輸入

DY-2000A型納米通用圖形發(fā)生器與計(jì)算機(jī)的連接DY-2000A型納米通用圖形發(fā)生器的SCSI信號(hào)線與計(jì)算機(jī)的SCSI卡連接見(jiàn)圖3。圖4所示為正在工作的圖形發(fā)生器界面。圖形發(fā)生器SCSI信號(hào)線插頭顯示器插頭鼠標(biāo)插頭鍵盤(pán)插頭電源插頭圖形發(fā)生器SCSI信號(hào)線插頭顯示器插頭鼠標(biāo)插頭鍵盤(pán)插頭電源插頭圖3計(jì)算機(jī)的后面板圖4正在工作的圖形發(fā)生器計(jì)算機(jī)界面開(kāi)機(jī)時(shí)的注意事項(xiàng)由于本設(shè)備需要對(duì)特殊計(jì)算機(jī)板卡的識(shí)別，因此在開(kāi)機(jī)時(shí)請(qǐng)嚴(yán)格遵守操作規(guī)程，否則將無(wú)法正常運(yùn)行此設(shè)備。打開(kāi)計(jì)算機(jī)前先打開(kāi)圖形發(fā)生器本身，如果你已經(jīng)打開(kāi)了計(jì)算機(jī)，請(qǐng)?jiān)诖蜷_(kāi)圖形發(fā)生器后再重新啟動(dòng)計(jì)算機(jī)。打開(kāi)控制用計(jì)算機(jī)或者重新啟動(dòng)計(jì)算機(jī)。進(jìn)入Windows2000操作系統(tǒng)，可以利用Administrator賬戶進(jìn)入，該賬戶在首次安裝時(shí)將不安裝賬戶口令。為了您的方便，請(qǐng)安裝多用戶并且給各個(gè)賬戶設(shè)置口令。在Windows2000桌面就可以看到曝光軟件的快捷圖標(biāo)，請(qǐng)參見(jiàn)本說(shuō)明書(shū)進(jìn)入曝光程序。關(guān)于曝光圖形的編輯可使用本曝光軟件，也可以使用其他的曝光圖形編輯軟件，如L-Edit、CAD等，本曝光軟件識(shí)別*.CIF、*.GDS和*.DXF格式的曝光文件。可能出現(xiàn)的故障和相應(yīng)的解決辦法開(kāi)電源開(kāi)關(guān)，圖形發(fā)生器沒(méi)有響應(yīng)。請(qǐng)檢查電源插頭是否接好。打開(kāi)圖形發(fā)生器，進(jìn)入曝光軟件后出現(xiàn)錯(cuò)誤信息。請(qǐng)檢查SCSI卡或SCSI連線是否接好。進(jìn)行曝光操作時(shí)，曝光軟件運(yùn)行正常，但圖形發(fā)生器的顯示屏幕沒(méi)有跟蹤顯示。請(qǐng)聯(lián)系我們進(jìn)行相應(yīng)的修理。曝光過(guò)程正常，但基片上沒(méi)有曝光結(jié)果。掃描信號(hào)線X、Y未接好，或掃描電鏡工作不正常（無(wú)束流，未加高壓或燈絲電流），請(qǐng)檢查X、Y掃描信號(hào)線和掃描電子顯微鏡。曝光圖形出現(xiàn)重復(fù)性斷條或線端拖尾。束閘信號(hào)線未接好或束閘電源未打開(kāi)，請(qǐng)作相應(yīng)檢查?？刂乒ぜ_(tái)移動(dòng)時(shí)，工件臺(tái)沒(méi)有響應(yīng)。請(qǐng)檢查工件臺(tái)連線是否接好。敬告：遇到故障時(shí)，如用戶無(wú)法按上述辦法解決，請(qǐng)立即與我們聯(lián)系。用戶切勿打開(kāi)圖形發(fā)生器盲目修理，以免造成器件損壞。

第二章曝光測(cè)試本章使用戶初步掌握軟件，通過(guò)曝光現(xiàn)有測(cè)試圖形得出最初結(jié)論。圖形的設(shè)計(jì)將在第三章講解。樣品準(zhǔn)備：開(kāi)始曝光測(cè)試前，應(yīng)先把樣品放到電鏡中。樣品通常是表面涂有電子抗蝕劑（如PMMA膠）的硅片。為了便于定位曝光區(qū)域和進(jìn)行聚焦，建議在樣品上作標(biāo)記。利用尖針或者小刀在樣品的一個(gè)角上劃痕，然后在樣品表面上劃出兩條正交的直線（十字叉線）把樣品分成4部分。電鏡啟動(dòng)：一旦裝入軟件打開(kāi)電子設(shè)備開(kāi)關(guān)，圖形發(fā)生器就可以控制電子束。束閘按鈕可以控制電子束通斷束閘按鈕可以控制電子束通斷曝光測(cè)試中建議最好安裝法拉第杯來(lái)測(cè)量束流，也可以采用樣品臺(tái)上的小孔來(lái)測(cè)量。找到樣品，利用劃痕的角聚焦電子束，然后沿著長(zhǎng)十字線找到樣品中央，在那里盡量用高放大倍數(shù)再次聚焦。用束閘按鈕切斷電子束。第一步：設(shè)置桌面點(diǎn)擊工程菜單中的打開(kāi)命令。在彈出的對(duì)話框中選擇后綴為.dsk的一個(gè)工程。每個(gè)工程含有不同的界面和參數(shù)設(shè)置，用戶可以設(shè)置和保存自己定義的工程。打開(kāi)GDSⅡDatabase、MicroscopeControl、Exposure三個(gè)窗口，窗口中顯示曝光測(cè)試的所有參數(shù)，都可以進(jìn)行編輯。點(diǎn)擊圖標(biāo)保存桌面可以將此時(shí)的桌面設(shè)置保存，下次進(jìn)入軟件后點(diǎn)擊相應(yīng)圖標(biāo)可以調(diào)出。點(diǎn)擊激活GDSⅡDatabase窗口。第二步：打開(kāi)曝光圖形點(diǎn)擊文件菜單中的打開(kāi)命令。選擇數(shù)據(jù)庫(kù)文件exptest.csf，點(diǎn)擊打開(kāi)。123窗口顯示新數(shù)據(jù)庫(kù)文件的名稱，在其中選擇結(jié)構(gòu)123第三步：了解圖形點(diǎn)擊GDSⅡDatabase窗口的編輯按鈕用GDSⅡ編輯器打開(kāi)圖形，了解圖形信息。點(diǎn)擊選項(xiàng)菜單中顯示劑量命令，將顯示劑量分布，不同的顏色代表不同的劑量。22曝光測(cè)試中整個(gè)圖形大小為400μm,由正方形陣列組成，每個(gè)正方形采用不同劑量曝光。雙擊正方形就可以獲得它的數(shù)據(jù)信息，比如雙擊左下角的正方形后出現(xiàn)編輯方塊窗口。33雙擊選中后的正方形用四個(gè)角的小黃點(diǎn)高亮顯示。除了劑量，也給出了U和V坐標(biāo)以及層的信息。可以單獨(dú)修改正方形的這些參數(shù)。例子中，劑量為0.5是標(biāo)準(zhǔn)劑量的一半。如果不想更改這些設(shè)置，點(diǎn)擊取消。圖形是按照這樣的規(guī)則設(shè)計(jì)的。垂直方向上（V軸）劑量按2的倍數(shù)遞增，比如從0.5到1、2、4；水平方向上（U軸）一次增加19%，下一行按此規(guī)律繼續(xù)。點(diǎn)擊幾個(gè)正方形顯示數(shù)據(jù)，右上方的正方形劑量最大，雙擊可以看到最大劑量為6.724，為標(biāo)準(zhǔn)劑量的672.4%。5圖形中邊框和隔離線寬為2μm。雙擊任意一條線就顯示線條數(shù)據(jù)。例子中直線的劑量為5.0屬于過(guò)曝光，因此曝光后線條容易找到。5第四步：MicroscopeControl窗口設(shè)置放大倍數(shù)和場(chǎng)尺寸1曝光400μm的場(chǎng)，根據(jù)使用的電鏡設(shè)置合適的放大倍數(shù)，本例設(shè)為200X。1首先點(diǎn)擊MicroscopeControl窗口中向下的箭頭顯示下拉列表框。如果有400μm的曝光場(chǎng)，選中并點(diǎn)擊設(shè)置，現(xiàn)在場(chǎng)尺寸出現(xiàn)在Exposure窗口中。如果沒(méi)有合適的設(shè)置，利用編輯輸入生成一個(gè)400μm的場(chǎng)。提示：請(qǐng)注意早期的電鏡沒(méi)有軟件調(diào)節(jié)放大倍數(shù)，可能需要手動(dòng)調(diào)節(jié)，但這不影響使用MicroscopeControl窗口，只要在電鏡上手動(dòng)調(diào)節(jié)倍數(shù)即可。第五步：計(jì)算曝光參數(shù)假定在20kev、100pA情況下曝光。對(duì)給定的400μm場(chǎng)選擇0.05μm的區(qū)域步距尺寸，步距尺寸的數(shù)值會(huì)自動(dòng)跳到最接近的像素間隔整數(shù)值。在Exposure窗口中點(diǎn)擊計(jì)算打開(kāi)曝光參數(shù)計(jì)算窗口，這個(gè)窗口可幫助用戶找到最優(yōu)的曝光參數(shù)。束流約為100pA，即為0.1nA，錄入此值。如果樣品是PMMA，20kev下的典型劑量為100μAS/cm2.，錄入此值。區(qū)域步距來(lái)自Exposure窗口。輸入了所有的參數(shù)后，就可以計(jì)算每個(gè)曝光點(diǎn)所需的停留時(shí)間。點(diǎn)擊區(qū)域停頓時(shí)間行的計(jì)算按鈕可以計(jì)算出停留時(shí)間，此例中計(jì)算結(jié)果為23μS。對(duì)話框可以計(jì)算這4個(gè)參數(shù)中的任意一個(gè)。通常用戶必須設(shè)置3個(gè)參數(shù)，然后程序計(jì)算第四個(gè)參數(shù)。按確定確認(rèn)后，計(jì)算的值傳輸?shù)紼xposure窗口。22345場(chǎng)尺寸在MicroscopeControl窗口設(shè)置1點(diǎn)擊時(shí)間圖標(biāo)獲得估計(jì)的曝光時(shí)間，此例中為18分鐘。例子中如果要求選擇哪一層曝光，選擇0層。66第六步：找到樣品的曝光區(qū)域既然已經(jīng)在Exposure窗口設(shè)置了所有參數(shù)，下面我們要在樣品上找到第一個(gè)曝光區(qū)。點(diǎn)擊MicroscopeControl窗口的設(shè)置圖標(biāo)（或者在電鏡上手動(dòng)選擇所需的倍數(shù)），移動(dòng)樣品臺(tái)到樣品的一個(gè)四分之一區(qū)域。第七步：開(kāi)始曝光點(diǎn)擊曝光層，選擇0層。點(diǎn)擊曝光，并選擇確認(rèn)開(kāi)始曝光。曝光中自動(dòng)控制電子束開(kāi)/關(guān)，通常當(dāng)曝光特征時(shí)，圖形顯示中這個(gè)特征將改變顏色來(lái)顯示曝光進(jìn)程。曝光完畢，電子束自動(dòng)切斷。112第八步：不同場(chǎng)尺寸重復(fù)曝光測(cè)試在其他的四分之一區(qū)域按不同曝光場(chǎng)尺寸重復(fù)曝光測(cè)試移動(dòng)樣品到另一個(gè)四分之一區(qū)域。點(diǎn)擊MicroscopeControl窗口選擇200μm的曝光場(chǎng)和相應(yīng)倍數(shù)（400μm場(chǎng)時(shí)的兩倍）。如果沒(méi)有這個(gè)設(shè)置，點(diǎn)擊編輯生成一個(gè)。點(diǎn)擊設(shè)置改變Exposure窗口中的曝光場(chǎng)大小和電鏡的放大倍數(shù)。改變區(qū)域步距尺寸為0.05μm，因?yàn)閳?chǎng)大小改變時(shí)如果像素?cái)?shù)目不變區(qū)域步距會(huì)自動(dòng)改變。22在GDSⅡDatabase窗口中選擇ET200結(jié)構(gòu)，點(diǎn)擊查看在瀏覽器窗口打開(kāi)圖形，現(xiàn)在圖形分布在200μm場(chǎng)中，這里只顯示結(jié)構(gòu)引用，但在曝光期間顯示圖形細(xì)節(jié)。點(diǎn)擊Exposure窗口中的計(jì)算圖標(biāo)，計(jì)算新曝光場(chǎng)所需的停留時(shí)間等。點(diǎn)擊曝光并確認(rèn)開(kāi)始曝光。334第九步：檢查曝光圖形從電鏡中取出樣品，在顯影液（MIBK:IPA=1:3）中浸30秒，用IPA清洗然后烘干。在光學(xué)顯微鏡下檢查樣品，如果沒(méi)有光學(xué)顯微鏡就用電鏡檢查。我們?cè)O(shè)定膠的靈敏度為100μAS/cm2，如果此例中靈敏度合適，那么所曝圖形中第二行最左邊正方形（劑量為1）曝光圖形最好。否則，找到最佳曝光的正方形查看它在設(shè)計(jì)中的劑量。如果劑量為2的正方形最好，則所使用光刻膠靈敏度為50μAS/cm2。計(jì)算新的曝光劑量用于以后的曝光。提示：曝光場(chǎng)中也可能有幾個(gè)欠曝光的正方形，它們?cè)诠鈱W(xué)顯微鏡下顏色各不相同。

第三章曝光圖形設(shè)計(jì)本章使用戶熟悉GDSⅡ編輯器的設(shè)計(jì)規(guī)則，現(xiàn)在我們將自己設(shè)計(jì)曝光檢測(cè)中所用的圖形。第一步：設(shè)置桌面打開(kāi)GDSⅡDatabase窗口。第二步：生成新的GDSⅡ數(shù)據(jù)庫(kù)文件激活GDSⅡDatabase窗口，點(diǎn)擊文件菜單中的新建命令，出現(xiàn)新建文件對(duì)話框。2輸入文件名，點(diǎn)擊保存確認(rèn)。21111第三步：生成新結(jié)構(gòu)接下來(lái)在數(shù)據(jù)庫(kù)中生成新結(jié)構(gòu)。點(diǎn)擊編輯菜單中的創(chuàng)建命令出現(xiàn)創(chuàng)建新結(jié)構(gòu)對(duì)話框。輸入新的結(jié)構(gòu)名et400并點(diǎn)擊確定。22第四步：調(diào)整工作區(qū)出現(xiàn)新的GDSⅡ編輯器窗口，默認(rèn)大小為100μm。因?yàn)橐?00μm大小的圖形，所以需要改變工作區(qū)大小設(shè)置。點(diǎn)擊查看菜單中的窗口命令，出現(xiàn)一個(gè)對(duì)話框。將設(shè)置改為400，然后點(diǎn)擊確定。編輯器窗口中的標(biāo)尺將自動(dòng)調(diào)整以適應(yīng)新的工作區(qū)。112第五步：設(shè)計(jì)正方形我們打算設(shè)計(jì)4X4的劑量不同的正方形陣列圖形，正方形應(yīng)該位于每一個(gè)100μm區(qū)域的中央，大小為40μmX40μm。首先設(shè)計(jì)位于左下角的正方形，正方形的左下角和右上角坐標(biāo)為(30，30)和(70，70)。通過(guò)下面的步驟完成正方形的設(shè)計(jì)：123點(diǎn)擊GDSⅡ編輯器中右邊第3個(gè)小圖標(biāo)，這是一個(gè)藍(lán)色的工具箱。點(diǎn)擊它可以激活GDS123點(diǎn)擊GDSⅡ工具窗口的矩形圖標(biāo)。移動(dòng)光標(biāo)到畫(huà)圖區(qū)域中的任意位置后點(diǎn)擊，然后朝相反的方向移動(dòng)光標(biāo)一段距離后再點(diǎn)擊，這樣就出現(xiàn)了一個(gè)矩形。因?yàn)椴幌朐偕善渌叫危孕枰∠?。點(diǎn)擊標(biāo)識(shí)欄中的紅色交叉圖標(biāo)取消命令。5454在矩形區(qū)域內(nèi)雙擊鼠標(biāo)出現(xiàn)編輯方塊窗口，這時(shí)可以調(diào)節(jié)正方形坐標(biāo)。在U,V坐標(biāo)中輸入左下(30，30)，右上(70，70)，如圖所示。輸入0層和0.5的劑量，點(diǎn)擊確定。第六步：生成正方形陣列生成一個(gè)正方形后，復(fù)制就可以生成正方形陣列。選中正方形（四個(gè)角上有小黃點(diǎn)顯示），點(diǎn)擊修改菜單中復(fù)制，矩陣。11234出現(xiàn)復(fù)制元素對(duì)話框。因?yàn)榇蛩闵?X4的正方形陣列，所以在矩陣尺寸處輸入4X4個(gè)元素，矩陣方式選為正交，基本向量1和2都輸入100μm，這樣每個(gè)100μm場(chǎng)的中心有一個(gè)正方形。5劑量縮放有2個(gè)選項(xiàng)，點(diǎn)擊向下的箭頭，打開(kāi)由加和乘組成的下拉列表框。選用乘，這樣一個(gè)正方形的劑量乘以輸入的比例因子是下一個(gè)正方形的劑量。V方向上每行之間輸入因子2，U方向上劑量比為1.1892，是2開(kāi)4次方根。這樣的設(shè)計(jì)可以保證整個(gè)陣列正方形的劑量均勻上升，如：第2行第1列正方形的劑量是1，約是第1行第4列的1.1892倍。5點(diǎn)擊確定。點(diǎn)擊文件菜單中的保存命令，保存設(shè)計(jì)的結(jié)構(gòu)。66這樣一個(gè)完整的正方形陣出現(xiàn)在窗口中。檢查所有正方形的屬性，先雙擊左下角的正方形，瀏覽U、V坐標(biāo)及劑量等參數(shù)，劑量為0.5，點(diǎn)擊取消?，F(xiàn)在檢查U方向上的正方形。點(diǎn)擊右上角正方形顯示曝光測(cè)試的最大劑量6.724。如果認(rèn)為輸入的參數(shù)合適，比較滿意就可以點(diǎn)擊取消。如果愿意的話，也可以檢查陣列中的其他正方形。提示：每次瀏覽后一定要確保點(diǎn)擊取消，以便按照初始的設(shè)計(jì)順序來(lái)曝光。如果點(diǎn)擊確定就會(huì)改變曝光順序，這時(shí)無(wú)論什么時(shí)候雙擊了一個(gè)正方形，這個(gè)正方形的曝光順序就會(huì)提前。如果偶然點(diǎn)擊了確定，那么在程序詢問(wèn)是否保存新的設(shè)置時(shí)只要選擇不保存即可。這樣，曝光時(shí)將從左下角的第一個(gè)圖形開(kāi)始，一行接一行直到右上角的最后一個(gè)正方形曝完為止。第七步：生成邊框接下來(lái)使用大劑量在曝光場(chǎng)周?chē)蛇吙颍员闳菀妆嬲J(rèn)曝光后的圖形。邊框?qū)挾仍O(shè)計(jì)為2μm，劑量采用5。邊框由4個(gè)獨(dú)立的又長(zhǎng)又窄的矩形組成，其中兩個(gè)沿著水平軸，兩個(gè)沿著垂直軸。要畫(huà)邊框，點(diǎn)擊GDSⅡ工具箱的矩形圖標(biāo)，先移動(dòng)光標(biāo)到畫(huà)圖區(qū)域的左下角，畫(huà)一個(gè)又長(zhǎng)又窄的垂直矩形。同樣，再畫(huà)一個(gè)垂直方向的矩形和2個(gè)水平方向的矩形。點(diǎn)擊紅色交叉圖標(biāo)取消畫(huà)矩形的命令。接下來(lái)調(diào)整矩形形成邊框。先在底部水平矩形內(nèi)部雙擊鼠標(biāo)，輸入下列數(shù)據(jù)：左下(0,0)；右上(398,2)；劑量：5；層：0。在左邊垂直矩形內(nèi)部雙擊鼠標(biāo)，輸入下列數(shù)據(jù)：左下(0,2)；右上(2,400)；劑量：5；層：0。在頂部水平矩形內(nèi)部雙擊鼠標(biāo)，輸入下列數(shù)據(jù)：左下(2,398)；右上(400,400)；劑量：5；層：0。在右邊垂直矩形內(nèi)部雙擊鼠標(biāo)，輸入下列數(shù)據(jù)：左下(398,0)；右上(400,398)；劑量：5；層：0。點(diǎn)擊文件菜單中的保存命令，完成邊框設(shè)計(jì)。第八步：生成間隔線生成邊框后接下來(lái)是生成直線分開(kāi)劑量不同的正方形。點(diǎn)擊矩形圖標(biāo)，移動(dòng)光標(biāo)生成一條垂直線和一條水平線。點(diǎn)擊紅色交叉圖標(biāo)取消重復(fù)命令。雙擊水平線內(nèi)部輸入數(shù)據(jù)：左下(2,99)；右上(398,101)；劑量：5；層：0。點(diǎn)擊確定。33點(diǎn)擊修改菜單中復(fù)制，矩陣，因?yàn)椴幌朐赨方向上復(fù)制直線，所以在復(fù)制元素對(duì)話框U位置輸入元素?cái)?shù)1，基本向量1為0；V位置處輸入元素?cái)?shù)3，基本向量2為100μm；矩陣方式選為正交；劑量縮放若采用乘填1，用加的話填0，這樣所有線的劑量相等。雙擊垂直線內(nèi)部輸入數(shù)據(jù)：左下(99,2)；右上(101,398)；劑量：5；層：0。點(diǎn)擊修改菜單中復(fù)制，矩陣，在復(fù)制元素對(duì)話框U位置處輸入元件數(shù)3，基本向量1為100μm；V位置輸入元素?cái)?shù)1，基本向量2為0；劑量縮放若采用乘填1，用加的話填0，這樣所有線的劑量相等。點(diǎn)擊確定。點(diǎn)擊文件菜單中的保存命令存盤(pán)。這樣就完成了間隔線的設(shè)計(jì)。盡管邊框線拼接設(shè)計(jì)良好，但是間隔線是相互交叉的，這樣交叉處劑量會(huì)更大。第九步：檢查圖形點(diǎn)擊選項(xiàng)菜單中的顯示劑量命令來(lái)檢查曝光圖形。不同劑量用不同的顏色來(lái)表示。要看劑量顏色定義，點(diǎn)擊選項(xiàng)菜單中的劑量顏色命令，就可以打開(kāi)相應(yīng)的窗口。雙擊結(jié)構(gòu)中任意特征的內(nèi)部就可以獲得U、V坐標(biāo)、所在層以及劑量等參數(shù)的詳細(xì)信息。現(xiàn)在400μm場(chǎng)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)完成。第十步：設(shè)計(jì)200μm場(chǎng)的結(jié)構(gòu)要想在不同電鏡放大倍數(shù)下實(shí)現(xiàn)同樣的設(shè)計(jì)，比如設(shè)計(jì)200μm場(chǎng)，沒(méi)有必要再重新繪制圖形，因?yàn)樗梢匀我饪s放。按照下列步驟就可以把剛剛設(shè)計(jì)的400μm場(chǎng)結(jié)構(gòu)縮小到200μm場(chǎng)中。激活GDSⅡDatabase窗口，點(diǎn)擊編輯菜單中創(chuàng)建命令。文件名處輸入et200。通過(guò)查看菜單中的窗口命令將工作區(qū)改為200μm大小，然后點(diǎn)擊確定。為了避免重復(fù)單步操作，最好使用結(jié)構(gòu)引用。點(diǎn)擊添加菜單中的結(jié)構(gòu)引用命令，出現(xiàn)對(duì)話框。選擇ET400，放大倍數(shù)為0.5。其他參數(shù)不需更改，點(diǎn)擊確定。33有兩種方法可以把圖形放到曝光場(chǎng)中。4A:先拖曳光標(biāo)到曝光場(chǎng)中期望的位置，點(diǎn)擊鼠標(biāo)釋放，結(jié)構(gòu)就會(huì)放到所選位置處。然后可以通過(guò)雙擊編輯放置位置。點(diǎn)擊文件菜單中的保存存盤(pán)。4B:為了更準(zhǔn)確地定位，可以按下鍵盤(pán)上任意一個(gè)數(shù)字鍵，這時(shí)出現(xiàn)輸入點(diǎn)對(duì)話框，輸入光標(biāo)位置的準(zhǔn)確坐標(biāo)(0,0)，點(diǎn)擊確定，然后點(diǎn)擊文件菜單中的保存退出命令。5現(xiàn)已完成了編輯模式的設(shè)計(jì)，可以利用瀏覽器在GDSⅡ數(shù)據(jù)庫(kù)中打開(kāi)ET200結(jié)構(gòu)。5點(diǎn)擊GDSⅡDatabase窗口的查看按鈕用GDSⅡ?yàn)g覽器打開(kāi)圖形，點(diǎn)擊選項(xiàng)菜單中層級(jí)，選擇1-8層級(jí)中的任意一級(jí)來(lái)瀏覽具體結(jié)構(gòu)。0級(jí)只顯示ET400結(jié)構(gòu)引用，1或其他更高層級(jí)顯示ET200的實(shí)際結(jié)構(gòu)。第十一步：設(shè)計(jì)100μm場(chǎng)的結(jié)構(gòu)激活GDSⅡDatabase窗口，點(diǎn)擊編輯菜單中創(chuàng)建命令。文件名處輸入ET100。點(diǎn)擊確定。點(diǎn)擊添加菜單中的結(jié)構(gòu)引用命令，選擇ET400，倍數(shù)選為0.25得到100μm場(chǎng)。光標(biāo)直接指向結(jié)構(gòu)。按下鍵盤(pán)上任意一個(gè)數(shù)字鍵激活輸入點(diǎn)對(duì)話框，輸入(0,0)，點(diǎn)擊確定，然后點(diǎn)擊文件菜單中的保存退出命令。GDSⅡ編輯器關(guān)閉。GDSⅡ數(shù)據(jù)庫(kù)中選擇ET100，點(diǎn)擊查看。點(diǎn)擊選項(xiàng)菜單中層級(jí)，選擇1-8層中的任意一層瀏覽實(shí)際結(jié)構(gòu)。55

第四章場(chǎng)校正本章講解400μm方形曝光場(chǎng)的校正過(guò)程。場(chǎng)校正時(shí)一般用標(biāo)準(zhǔn)標(biāo)記樣品，它包含不同尺寸的圖形，也能用于電鏡放大倍數(shù)的校準(zhǔn)。如果沒(méi)有標(biāo)準(zhǔn)樣品，可以用特征位置已知的任意樣品。第一步：預(yù)備對(duì)準(zhǔn)區(qū)裝入標(biāo)準(zhǔn)樣品，用電鏡在樣品表面聚焦。標(biāo)準(zhǔn)樣品由1μm的正方形塊組成，先由5x5個(gè)正方形組成10μm的方形圖形，再由5x5個(gè)這樣的10μm方形塊組成100μm方形圖形。每個(gè)100μm方形區(qū)的兩個(gè)角上有特定的標(biāo)記，利用這些標(biāo)記進(jìn)行場(chǎng)校正。使用電鏡的樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)或者掃描旋轉(zhuǎn)，調(diào)整圖形和屏幕大致平行。高放大倍數(shù)下移動(dòng)樣品直到在屏幕中央找到一個(gè)標(biāo)記，如右圖所示。降低倍數(shù)直到整個(gè)成像區(qū)大于400μm的方形場(chǎng)為止，確保整個(gè)區(qū)域中都是樣品圖形。第二步：通過(guò)圖形發(fā)生器掃描成像將開(kāi)關(guān)控制轉(zhuǎn)到用圖形發(fā)生器控制電子束掃描。點(diǎn)擊文件菜單中的新圖像命令，打開(kāi)一個(gè)空白圖像窗口。2323提示：如果在軟件控制成像過(guò)程中碰到問(wèn)題的話，請(qǐng)參考第六章，在那里將詳細(xì)講述掃描成像。選擇放大倍數(shù)使成像區(qū)略微大于400μm的方形場(chǎng)，這一點(diǎn)非常重要?？梢栽贛icroscopeControl窗口中選擇任一種現(xiàn)有的設(shè)置，如果得不到所需尺寸的掃描圖像，通過(guò)編輯按鈕生成新的電鏡設(shè)置，然后點(diǎn)擊設(shè)置使電鏡控制參數(shù)起作用。55打開(kāi)AlignWritefield窗口，確保窗口顯示的數(shù)字和右圖中一樣。否則，點(diǎn)擊復(fù)位按鈕，然后再次掃描圖像，因?yàn)檫@些數(shù)字實(shí)際控制曝光場(chǎng)的大小。第三步：由位置列表定義標(biāo)記區(qū)我們利用四個(gè)標(biāo)記中的三個(gè)對(duì)準(zhǔn)，這四個(gè)標(biāo)記大致位于圖像的四個(gè)象限的中心。理想情況下，曝光場(chǎng)恰好是400μm的方形場(chǎng)，標(biāo)記也恰好位于正確的位置上。對(duì)準(zhǔn)不理想時(shí)需要通過(guò)軟件計(jì)算和校正正確的位置，用實(shí)際位置的偏差來(lái)計(jì)算校正參數(shù)。為此我們通過(guò)位置列表來(lái)掃描定義的標(biāo)記區(qū)，這樣可以在高放大倍數(shù)下顯示標(biāo)記。11點(diǎn)擊文件菜單中的新建位置列表命令，打開(kāi)空白位置列表，在這里將創(chuàng)建標(biāo)記掃描區(qū)。點(diǎn)擊濾波器菜單中的定義標(biāo)記命令，打開(kāi)對(duì)話框可以定義標(biāo)記掃描區(qū)的參數(shù)。首先輸入標(biāo)記的名稱。圖像中的UV坐標(biāo)測(cè)量原點(diǎn)在中心，單位為μm。因此第一個(gè)標(biāo)記區(qū)的中心坐標(biāo)為U=-100和V=100。掃描區(qū)為50μm的方形區(qū)，相對(duì)標(biāo)記中心對(duì)稱。最后每個(gè)方向上256個(gè)像素來(lái)掃描標(biāo)記區(qū)。輸入完這些數(shù)據(jù)后，點(diǎn)擊刻寫(xiě)場(chǎng)標(biāo)記和確定。22現(xiàn)在顯示了位置列表的第一行，相應(yīng)的標(biāo)記區(qū)在圖像窗口中高亮顯示。如果標(biāo)記區(qū)太小，覆蓋不了實(shí)際的標(biāo)記，選中位置列表的相應(yīng)數(shù)據(jù)行，點(diǎn)擊編輯擴(kuò)大標(biāo)記區(qū)，或者刪除位置列表的數(shù)據(jù)行再重新生成一個(gè)新的標(biāo)記區(qū)。33再次點(diǎn)擊濾波器菜單中的定義標(biāo)記命令，按照相同的方法再生成兩個(gè)標(biāo)記區(qū)，這時(shí)只需要改變中心坐標(biāo)，這樣圖像有三個(gè)高亮顯示的標(biāo)記區(qū)。三個(gè)標(biāo)記足以用于對(duì)準(zhǔn)。標(biāo)記2和3的UV坐標(biāo)分別為：標(biāo)記2：U=-100，V=-100標(biāo)記3：U=+100，V=+1001第四步：測(cè)量實(shí)際標(biāo)記位置1掃描三個(gè)標(biāo)記區(qū)，然后比較實(shí)際標(biāo)記位置和以上所設(shè)計(jì)標(biāo)記的位置。點(diǎn)擊掃描菜單中的全部命令，自動(dòng)逐一掃描三個(gè)標(biāo)記區(qū)。正在掃描的標(biāo)記區(qū)在位置列表中高亮顯示并且前面有個(gè)綠色的圓點(diǎn)。圖像中綠色的十字叉絲定義理想情況下標(biāo)記出現(xiàn)的位置。22現(xiàn)在顯示的是第一個(gè)標(biāo)記區(qū)的掃描圖像，可以看出，實(shí)際標(biāo)記的位置在中心的外邊。為了測(cè)量實(shí)際標(biāo)記和理想標(biāo)記位置之間的距離，同時(shí)按下<Ctrl>鍵和鼠標(biāo)左鍵，然后拖動(dòng)鼠標(biāo)向?qū)嶋H標(biāo)記位置移動(dòng)，到達(dá)標(biāo)記中心時(shí)釋放。33這樣在實(shí)際標(biāo)記位置處就會(huì)生成一個(gè)十字叉線，但是理想標(biāo)記位置中心仍然是高亮顯示。如果必要的話，可以再次利用<Ctrl>鍵和鼠標(biāo)左鍵來(lái)優(yōu)化這個(gè)位置。此過(guò)程中出現(xiàn)對(duì)話框，點(diǎn)擊繼續(xù)掃描下一個(gè)標(biāo)記區(qū)并重復(fù)上述的測(cè)量過(guò)程。最后完成對(duì)位置列表的掃描。第五步：曝光場(chǎng)校正11點(diǎn)擊AlignWritefield窗口中的獲取標(biāo)記圖標(biāo)。軟件將顯示三個(gè)標(biāo)記已經(jīng)用于校正并列出標(biāo)記的名稱。同時(shí)在窗口中部顯示計(jì)算的六個(gè)校正值。計(jì)算的增益小于1，說(shuō)明現(xiàn)在實(shí)際曝光場(chǎng)大于設(shè)計(jì)曝光場(chǎng)。另外，如果單純旋轉(zhuǎn)的話，那么兩個(gè)角度應(yīng)該大小相等符號(hào)相反。如果大小不等，那么表明場(chǎng)不正交，需校正正交誤差。如果認(rèn)為參數(shù)正確就可以點(diǎn)擊發(fā)送，這些參數(shù)將會(huì)出現(xiàn)在窗口的左側(cè)，也會(huì)送往電子線路中的6個(gè)數(shù)模轉(zhuǎn)換器，即用硬件實(shí)現(xiàn)對(duì)增益、偏移和旋轉(zhuǎn)誤差的校正。點(diǎn)擊文件菜單中的新圖像命令和單次掃描圖標(biāo)掃描整個(gè)圖像。這次可以看到，圖像剛好充滿400μm場(chǎng)，標(biāo)記出現(xiàn)在理想位置處。55為了提高準(zhǔn)確度，可以不斷點(diǎn)擊掃描菜單中的全部命令來(lái)重復(fù)校正過(guò)程。掃描完第一個(gè)完整的標(biāo)記區(qū)后，可以通過(guò)下列步驟把掃描區(qū)進(jìn)一步縮小以提高精度。先用光標(biāo)指向所需掃描區(qū)的一個(gè)角，點(diǎn)擊鼠標(biāo)右鍵打開(kāi)快捷菜單，點(diǎn)擊選擇區(qū)域，然后移動(dòng)鼠標(biāo)到所需掃描區(qū)的另一個(gè)對(duì)角并點(diǎn)擊鼠標(biāo)左鍵確認(rèn)，這樣就得到了一個(gè)矩形區(qū)域。光標(biāo)指向區(qū)域內(nèi)，點(diǎn)擊鼠標(biāo)右鍵打開(kāi)快捷菜單，點(diǎn)擊放大命令，開(kāi)始對(duì)新掃描區(qū)的掃描。66圖像放大后可以更精確地定義標(biāo)記位置。用相同的方法放大另外兩個(gè)標(biāo)記。點(diǎn)擊獲取標(biāo)記圖標(biāo)觀察迭代對(duì)準(zhǔn)的結(jié)果。AlignWritefield窗口中心有剛剛計(jì)算的附加校正結(jié)果，偏移和旋轉(zhuǎn)校正應(yīng)該和以前計(jì)算的校正系數(shù)相加，增益校正應(yīng)該和以前計(jì)算的結(jié)果相乘。如果以前的校正已經(jīng)非常接近最后的校正，那么新值應(yīng)接近于1（增益）或者0（偏移和旋轉(zhuǎn)）。如果認(rèn)為參數(shù)正確就可以點(diǎn)擊發(fā)送實(shí)現(xiàn)最終校正。如果需要的話也可以手動(dòng)輸入校正值。最后點(diǎn)擊MicroscopeControl窗口的保存來(lái)存儲(chǔ)這些校正參數(shù)和所用的放大倍數(shù)及場(chǎng)尺寸設(shè)置。無(wú)論什么時(shí)候再調(diào)用這個(gè)電鏡控制參數(shù)時(shí)，也同時(shí)設(shè)置了這些校正參數(shù)。

第五章工件臺(tái)調(diào)整本章講述工件臺(tái)的調(diào)整，通過(guò)工件臺(tái)調(diào)整后可以在曝光前找到新的曝光區(qū)或者找到已曝光和處理的區(qū)域進(jìn)行檢查或者多層曝光。這里假定工件臺(tái)由電機(jī)驅(qū)動(dòng)，受軟件的控制。如果工件臺(tái)不是電機(jī)驅(qū)動(dòng)，也可以使用工件臺(tái)調(diào)整軟件，但是工件臺(tái)位置的輸出和設(shè)置必須利用手動(dòng)來(lái)完成。在本章的最后解釋了這種方法。坐標(biāo)系介紹軟件中定義了兩個(gè)坐標(biāo)系：工件臺(tái)坐標(biāo)系(XY)和樣品坐標(biāo)系(UV)。工件臺(tái)坐標(biāo)用于描述工件臺(tái)相對(duì)于電子束的位置。由于只知道樣品在工件臺(tái)上，但是不知道確切的位置，所以XY坐標(biāo)沒(méi)有給出樣品的位置信息。工件臺(tái)調(diào)整的目的就是要找到XY和UV坐標(biāo)在偏移、比例和旋轉(zhuǎn)方面的關(guān)系，從而實(shí)現(xiàn)兩個(gè)系統(tǒng)之間的坐標(biāo)轉(zhuǎn)換。工件臺(tái)調(diào)整和曝光場(chǎng)校正沒(méi)有關(guān)系。如果在樣品上某個(gè)UV坐標(biāo)處曝光，那是說(shuō)曝光場(chǎng)的中心在這個(gè)點(diǎn)上。第一步：設(shè)置桌面打開(kāi)StageControl、AdjustUV、Coordinates三個(gè)窗口。StageControl窗口可以執(zhí)行驅(qū)動(dòng)工件臺(tái)命令。點(diǎn)擊目的地按鈕，選擇（UVW或XYZ），輸入期望的位置并選擇尋址模式（絕對(duì)還是相對(duì)）。最后，點(diǎn)擊開(kāi)始按鈕驅(qū)動(dòng)工件臺(tái)。點(diǎn)擊命令。這里共有用XY坐標(biāo)存儲(chǔ)的7個(gè)工件臺(tái)位置，通過(guò)下拉列表框進(jìn)行選擇，按下運(yùn)行按鈕驅(qū)動(dòng)工件臺(tái)。7個(gè)位置的坐標(biāo)可以通過(guò)編輯按鈕進(jìn)行編輯。本章中工件臺(tái)調(diào)整使用角度校正法，它是通過(guò)測(cè)量工件臺(tái)X軸和樣品的U軸之間的角度實(shí)現(xiàn)校正，任一特征點(diǎn)都可作為UV坐標(biāo)的原點(diǎn)。本例中距離的測(cè)量由工件臺(tái)決定。另外工件臺(tái)調(diào)整還可以采用3點(diǎn)法，就是利用樣品上3個(gè)坐標(biāo)已知的點(diǎn)進(jìn)行校正。坐標(biāo)的單位為mm，可以精確到nm。如果需要的話，窗口激活時(shí)可以點(diǎn)擊編輯菜單中選項(xiàng)改變這些設(shè)置。第二步：找到U軸在電鏡屏幕上找到樣品的下邊緣或者圖形中任一直線，將它當(dāng)作U軸。軸上兩點(diǎn)的實(shí)際XY位置就可以定義U和X之間的角度。第三步：AdjustUV窗口/角度校正點(diǎn)擊AdjustUV窗口中角度校正，移動(dòng)工件臺(tái)在電鏡高倍數(shù)下找到U軸上靠近左下角的一個(gè)點(diǎn)的像，使其位于屏幕的中心（不要使用電鏡的像偏移），這時(shí)點(diǎn)擊標(biāo)號(hào)1的讀取按鈕，旁邊的文本框中將顯示實(shí)際的XY坐標(biāo)。11此處寫(xiě)入工件臺(tái)坐標(biāo)坐標(biāo)自動(dòng)更新23沿著樣品下邊緣移動(dòng)幾個(gè)mm的距離到右下角處。使右下角的點(diǎn)在高倍數(shù)下位于屏幕中心，這時(shí)點(diǎn)擊標(biāo)號(hào)2的讀取23自動(dòng)計(jì)算校正角度并用紅色顯示，本例中為3.81度。點(diǎn)擊校正。第四步：輸入?yún)⒖紭?biāo)記移動(dòng)工件臺(tái)找到樣品上的一個(gè)參考標(biāo)記，它可以是樣品上的一個(gè)標(biāo)記，也可以是樣品左下角的特征點(diǎn)（確保這個(gè)特征適于高倍數(shù)下觀察，另外確保樣品處理以后該特征仍然存在。）3當(dāng)高倍數(shù)下該特征點(diǎn)位于屏幕中心時(shí)，點(diǎn)擊原點(diǎn)校正，這時(shí)可以將工件臺(tái)實(shí)際坐標(biāo)設(shè)為U=V=0。3通常這個(gè)參考標(biāo)記坐標(biāo)U、V分別為0，0，但是也可以輸入其他值。點(diǎn)擊校正。提示：執(zhí)行完工件臺(tái)調(diào)整程序后，移動(dòng)樣品到右上角并記錄下UV坐標(biāo)。樣品上所有位置的UV坐標(biāo)必須在這兩個(gè)對(duì)角的坐標(biāo)之間。第五步：移動(dòng)到樣品的準(zhǔn)確位置經(jīng)過(guò)工件臺(tái)調(diào)整后，可以準(zhǔn)確地移動(dòng)工件臺(tái)到樣品上某一UV坐標(biāo)處，這時(shí)不用考慮樣品在工件臺(tái)上怎樣放置。比如第一次曝光位置在U=V=3處，點(diǎn)擊StageControl窗口中目的地，輸入U(xiǎn)V坐標(biāo)值，點(diǎn)擊開(kāi)始于是電機(jī)驅(qū)動(dòng)工件臺(tái)到期望位置處，曝光第一個(gè)圖形，然后驅(qū)動(dòng)工件臺(tái)在其他UV位置處曝光其他圖形。這時(shí)不必?fù)?dān)心工件臺(tái)的XY坐標(biāo)，因?yàn)楣ぜ_(tái)調(diào)整的過(guò)程中會(huì)按照找到的關(guān)系計(jì)算出這些坐標(biāo)。不同曝光之間可以移動(dòng)工件臺(tái)到所存的位置處，這樣便于隨時(shí)用法拉第杯檢查束流。手動(dòng)工件臺(tái)使用軟件如果工件臺(tái)沒(méi)有電機(jī)驅(qū)動(dòng)，工件臺(tái)調(diào)整軟件可以在演示模式下使用。所有的工件臺(tái)命令只會(huì)引起虛擬的工件臺(tái)運(yùn)動(dòng)和顯示虛擬位置。調(diào)整過(guò)程中在電鏡中找到校正點(diǎn)或參考標(biāo)記的像后，先人工讀取工件臺(tái)XY坐標(biāo)，然后在StageControl窗口手動(dòng)輸入坐標(biāo)后點(diǎn)擊開(kāi)始模擬驅(qū)動(dòng)，Coordinates窗口XY坐標(biāo)只能作為到此位置的虛擬值，而后通過(guò)讀取覆蓋XY坐標(biāo)。若想工件臺(tái)調(diào)整后找到樣品某一位置，必須在StageControl窗口模擬驅(qū)動(dòng)工件臺(tái)到期望的UV坐標(biāo)處，這樣就能讀取Coordinates窗口中相應(yīng)的XY坐標(biāo)，然后手動(dòng)驅(qū)動(dòng)工件臺(tái)到這些坐標(biāo)處。提示：工件臺(tái)調(diào)整或者定位時(shí)，不要使用電鏡像偏移，因?yàn)檫@將影響調(diào)整精度。

第六章成像本章使用戶熟悉軟件的圖像采集功能。第一步：打開(kāi)圖像點(diǎn)擊文件菜單中的打開(kāi)圖像命令就可以顯示現(xiàn)有的圖像文件。要掃描新圖像，點(diǎn)擊新建圖像命令。第二步：慢掃選項(xiàng)2為了優(yōu)化成像可以編輯慢掃選項(xiàng)的參數(shù)。點(diǎn)擊文件菜單中的新建圖像獲得空白的圖像窗口。2窗口激活時(shí)，點(diǎn)擊慢掃菜單中的選項(xiàng)。打開(kāi)的對(duì)話框給出了以下選項(xiàng)：輸入兩個(gè)軸上像素?cái)?shù)選擇圖像的分辨率，最大分辨率為2048x2048?？梢赃M(jìn)行圖像黑白翻轉(zhuǎn)。選擇逐幀、逐線和逐點(diǎn)的采集數(shù)據(jù)次數(shù)，多次采集的數(shù)據(jù)平均后可以減少噪聲。因?yàn)橹瘘c(diǎn)平均不會(huì)受到圖像小幅度偏移的影響，所以它最常用。圖像要么保存為T(mén)IFF格式要么保存為位圖格式，另外也可以保存成特定的SSC文件，這個(gè)文件包含諸如放大倍數(shù)等的附加信息，因此通過(guò)本軟件打開(kāi)圖像時(shí)，總是會(huì)顯示標(biāo)尺。使用Windows操作系統(tǒng)的位圖格式保存時(shí)也能保存標(biāo)尺。選擇了圖5-2.1所示的參數(shù)后點(diǎn)擊確定。最大化圖像窗口。屏幕上場(chǎng)的大小和所選的像素?cái)?shù)一致，一個(gè)圖像像素就代表一個(gè)屏幕像素（和屏幕的分辨率有關(guān)）。圖像中的μm標(biāo)尺與MicroscopeControl窗口或者Exposure窗口所選的曝光場(chǎng)尺寸有關(guān)。55點(diǎn)擊單次掃描圖標(biāo)（與慢掃菜單中的單次命令功能相同）掃描圖像，圖像的對(duì)比度和亮度受相應(yīng)電鏡控制的影響。第三步：獨(dú)特的縮放功能通過(guò)逐漸增大電鏡的放大倍數(shù)，總是可以放大圖像的中心，這種方法適用于電鏡成像，但是曝光時(shí)了解大范圍曝光場(chǎng)外圍的曝光質(zhì)量也很重要。圖像的質(zhì)量和曝光的質(zhì)量是一致的，本軟件可以放大圖像的任意位置來(lái)檢查成像質(zhì)量從而得出曝光質(zhì)量。1按照以下步驟放大任一區(qū)域：1移動(dòng)光標(biāo)到想要放大的區(qū)域的一個(gè)角，點(diǎn)擊鼠標(biāo)右鍵打開(kāi)快捷菜單，點(diǎn)擊鼠標(biāo)左鍵激活選擇區(qū)域命令。移動(dòng)光標(biāo)到區(qū)域的另一個(gè)對(duì)角點(diǎn)擊鼠標(biāo)左鍵。22要放大所選區(qū)域，在區(qū)域內(nèi)部點(diǎn)擊鼠標(biāo)右鍵，從快捷菜單中選擇放大命令。如果所選區(qū)域是一個(gè)矩形而不是正方形，標(biāo)尺的長(zhǎng)度將會(huì)不同。要縮小圖像，在圖像的任意位置點(diǎn)擊鼠標(biāo)右鍵，從快捷菜單中選擇縮小。ABC右圖顯示了標(biāo)準(zhǔn)樣品的一部分。圖中可以看到兩個(gè)較大的1mm正方形，很多較小的100μm正方形，可以在某些區(qū)域看到10μm正方形。這個(gè)倍數(shù)下看不到1ABC對(duì)不同區(qū)域（A-C）放大得到以下圖像：AA圖A是中心區(qū)域的放大圖像的一部分。這種情況下1μm正方形非常清晰。BB圖B是右下角的像。這種情況下，1μm正方形很不清晰。這表明這個(gè)位置的曝光分辨率低于1μm。CC圖C是位于A、B之間的一個(gè)區(qū)域的像。這種情況下單個(gè)1μm正方形比較清晰，但是質(zhì)量不如圖A。第四步：保存圖像點(diǎn)擊文件菜單中的另存圖像為命令來(lái)保存圖像，在出現(xiàn)的對(duì)話框中輸入文件名。文件可以保存為位圖文件或TIF格式，同時(shí)自動(dòng)保存軟件自定義的SSC圖像文件。

第七章通用圖形設(shè)計(jì)本章給出了通過(guò)使用內(nèi)部GDSⅡ編輯器設(shè)計(jì)各種圖形的框架。軟件也可以導(dǎo)入其他編輯器比如AutoCAD設(shè)計(jì)的圖形，但是建議使用內(nèi)部的編輯器，這主要是因?yàn)镚DSⅡ編輯器中各個(gè)層上每個(gè)圖形都可以獨(dú)立設(shè)計(jì)劑量。第一步：生成新數(shù)據(jù)庫(kù)文件打開(kāi)并激活GDSⅡDatabase窗口。點(diǎn)擊文件菜單中新建命令，輸入一個(gè)新數(shù)據(jù)庫(kù)文件名，比如TEST。第二步：生成新結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)庫(kù)文件中可以有很多結(jié)構(gòu)。點(diǎn)擊編輯菜單中的創(chuàng)建命令，對(duì)話框中輸入結(jié)構(gòu)名，比如TEST1，點(diǎn)擊確定就生成了第一個(gè)結(jié)構(gòu)。GDSⅡ編輯器窗口默認(rèn)工作區(qū)尺寸為100μm方形，默認(rèn)層為0層。如果想改變工作區(qū)的大小，點(diǎn)擊查看菜單中的窗口命令，然后輸入兩個(gè)對(duì)角的UV坐標(biāo)就可以實(shí)現(xiàn)。如果想改變GDSⅡ的層（比如多層曝光時(shí)），可以點(diǎn)擊添加菜單中的預(yù)設(shè)，圖層命令，選擇想要的層。要增加圖層，點(diǎn)擊選項(xiàng)菜單中的圖層屬性命令。軟件中設(shè)計(jì)了不可見(jiàn)的柵格幫助設(shè)計(jì)圖形，這種柵格可以通過(guò)光標(biāo)步距（S=）來(lái)選擇，編輯器窗口激活時(shí)通過(guò)鍵盤(pán)上的<*>和</>鍵使光標(biāo)步距在1nm-20μm之間變化。如果選擇1μm的光標(biāo)步距，那么鼠標(biāo)只能按照所選的柵格1μm的倍數(shù)移動(dòng)。44第三步：打開(kāi)工具箱點(diǎn)擊GDSⅡ編輯器窗口右邊第3個(gè)圖標(biāo)，激活工具箱。工具箱的圖標(biāo)是16個(gè)主要功能的快捷鍵，這些功能也可以通過(guò)添加、修改、查看和選項(xiàng)菜單來(lái)實(shí)現(xiàn)。工具箱中4個(gè)紅色圖標(biāo)可以設(shè)計(jì)特定圖形，綠色圖標(biāo)用來(lái)修改圖形，藍(lán)色圖標(biāo)的功能是放大和縮小，另外兩個(gè)圖標(biāo)用來(lái)測(cè)量和填充圖形。第四步：設(shè)計(jì)矩形我們?cè)诘诙轮幸呀?jīng)講述了矩形的設(shè)計(jì)，通過(guò)在矩形的兩個(gè)對(duì)角點(diǎn)擊鼠標(biāo)就可以畫(huà)出圖形，繼續(xù)點(diǎn)擊鼠標(biāo)開(kāi)始下一個(gè)矩形的設(shè)計(jì)，如果要取消該命令點(diǎn)擊紅色的交叉圖標(biāo)。雙擊選中圖形可以對(duì)矩形數(shù)據(jù)進(jìn)行修改，打開(kāi)的對(duì)話框允許修改所有相關(guān)參數(shù)。第五步：設(shè)計(jì)多邊形點(diǎn)擊位于工具箱的多邊形圖標(biāo)，移動(dòng)光標(biāo)到曝光場(chǎng)中再次點(diǎn)擊鼠標(biāo)，然后每到達(dá)多邊形的一個(gè)角就點(diǎn)擊鼠標(biāo)左鍵，最后一個(gè)角時(shí)點(diǎn)擊鼠標(biāo)右鍵完成多邊形的設(shè)計(jì)。設(shè)計(jì)過(guò)程中因?yàn)榭偸羌僭O(shè)下一個(gè)角是最后一個(gè)，所以顯示的總是封閉圖形。設(shè)計(jì)新的多邊形必須再次點(diǎn)擊多邊形圖標(biāo)（不是重復(fù)性命令）。雙擊完成的多邊形可以修改參數(shù)。多邊形多邊形直線點(diǎn)提示：為了圖形更精確，可能更希望在放大的場(chǎng)中設(shè)計(jì)。如果設(shè)計(jì)多邊形時(shí)碰到放大的場(chǎng)的邊緣，只要通過(guò)相應(yīng)的圖標(biāo)縮小返回后即可完成整個(gè)設(shè)計(jì)。第六步：設(shè)計(jì)直線點(diǎn)擊直線圖標(biāo)。在直線的兩個(gè)端點(diǎn)點(diǎn)擊鼠標(biāo)左鍵就可以畫(huà)出相連的直線，最后一個(gè)端點(diǎn)點(diǎn)擊鼠標(biāo)右鍵結(jié)束。這種線可以成為寬度為0的單像素線（只有沿著直線方向的像素）或者成為任意寬度的區(qū)域。雙擊打開(kāi)對(duì)話框就可以定義線寬。第七步：設(shè)計(jì)點(diǎn)點(diǎn)擊點(diǎn)圖標(biāo)。移動(dòng)光標(biāo)到畫(huà)點(diǎn)的地方點(diǎn)擊鼠標(biāo)左鍵就可以放上一個(gè)點(diǎn)。放完所有點(diǎn)后，點(diǎn)擊紅色交叉圖標(biāo)取消重復(fù)該命令。雙擊點(diǎn)打開(kāi)對(duì)話框可以修改點(diǎn)的參數(shù)。提示：直線，即單像素線（寬度為0）和點(diǎn)不占空間，它們是很特殊的圖形，需要用特殊的參數(shù)曝光，曝光時(shí)在Exposure窗口點(diǎn)擊相應(yīng)的檢查框后輸入曝光參數(shù)。區(qū)域暫停時(shí)間與電子束聚焦?fàn)顟B(tài)和工藝關(guān)系不大，很容易計(jì)算，但是點(diǎn)和單像素線的暫停時(shí)間和所期望的寬度有關(guān)，必須特別計(jì)算。22第八步：圖形的復(fù)制復(fù)制圖形時(shí)點(diǎn)擊圖形的內(nèi)部，本例中采用直線說(shuō)明。按住<ctrl>鍵重復(fù)點(diǎn)擊鼠標(biāo)可以選中多個(gè)圖形或者通過(guò)編輯菜單中選擇，內(nèi)部命令拖曳鼠標(biāo)選中框內(nèi)的所有圖形。點(diǎn)擊修改菜單中復(fù)制，單個(gè)，此處選中的圖形只想復(fù)制一次。33點(diǎn)擊所選圖形的內(nèi)部，出現(xiàn)一個(gè)紅色的框把所選圖形包起來(lái)。移動(dòng)框到新位置處。44再次點(diǎn)擊光標(biāo)就可以放置復(fù)制的圖形。提示：通過(guò)編輯菜單的復(fù)制和粘貼可以從一個(gè)結(jié)構(gòu)中復(fù)制一組圖形粘貼到另一個(gè)結(jié)構(gòu)中去。有關(guān)陣列復(fù)制，第二章中已作介紹。第九步：元素旋轉(zhuǎn)12123點(diǎn)擊工具箱中旋轉(zhuǎn)圖標(biāo)，出現(xiàn)旋轉(zhuǎn)對(duì)話框，輸入旋轉(zhuǎn)角度或者從已定義的角度中選一個(gè)。點(diǎn)擊復(fù)制前面的選擇框，這樣旋轉(zhuǎn)元素是最初未旋轉(zhuǎn)元素的復(fù)制。選擇90度并點(diǎn)擊確定。元素按照定義的角度復(fù)制并且仍處于選中狀態(tài)。使用移動(dòng)圖標(biāo)（旋轉(zhuǎn)圖標(biāo)的上面）點(diǎn)擊元素內(nèi)部就可以把它移動(dòng)到新位置處。44選取元素，然后點(diǎn)擊自由旋轉(zhuǎn)圖標(biāo)就可以使元素自由旋轉(zhuǎn)。當(dāng)點(diǎn)擊選中的元素時(shí)，靠近元素處有一個(gè)紅色的手柄允許自由旋轉(zhuǎn)。提示：元素選中時(shí)，可以通過(guò)按下鍵盤(pán)上的<Del>鍵或者利用編輯菜單的刪除命令來(lái)刪除它。第十步：測(cè)量距離點(diǎn)擊工具箱中測(cè)量圖標(biāo)可以測(cè)量任意距離，先點(diǎn)擊要測(cè)距離的一個(gè)端點(diǎn)，然后點(diǎn)擊另一個(gè)端點(diǎn)，這樣就出現(xiàn)一個(gè)顯示數(shù)據(jù)的對(duì)話框。第十一步：結(jié)構(gòu)的保存、刪除和復(fù)制可以通過(guò)點(diǎn)擊文件菜單中的保存或者保存退出命令來(lái)保存結(jié)構(gòu)。數(shù)據(jù)庫(kù)文件內(nèi)現(xiàn)有的結(jié)構(gòu)，可以在選中時(shí)通過(guò)編輯菜單中的刪除命令將其刪除。可以通過(guò)編輯菜單中的復(fù)制命令復(fù)制這個(gè)結(jié)構(gòu)。有時(shí)候需要復(fù)制整個(gè)數(shù)據(jù)庫(kù)文件，這時(shí)可以通過(guò)選中數(shù)據(jù)庫(kù)窗口時(shí)點(diǎn)擊文件菜單中的另存為命令實(shí)現(xiàn)。

第八章層級(jí)設(shè)計(jì)本章將介紹層級(jí)設(shè)計(jì)圖形的優(yōu)勢(shì)。舉例設(shè)計(jì)的圖形類似于用于曝光場(chǎng)校正的標(biāo)準(zhǔn)樣品。第一步：建立新的數(shù)據(jù)庫(kù)文件打開(kāi)GDSIIDatabase窗口點(diǎn)擊文件菜單中的新建命令，輸入文件名，如：Standard。第二步：建立新的結(jié)構(gòu)點(diǎn)擊編輯菜單中的創(chuàng)建命令出現(xiàn)創(chuàng)建新結(jié)構(gòu)對(duì)話框。輸入新的結(jié)構(gòu)名S2，點(diǎn)擊確定。這時(shí)GDSIIEditor窗口自動(dòng)打開(kāi)，工作區(qū)默認(rèn)大小為100μm。第三步：調(diào)整工作區(qū)點(diǎn)擊查看菜單中的窗口命令，出現(xiàn)對(duì)話框，選擇工作區(qū)2μm大小，然后點(diǎn)擊確定。點(diǎn)擊GDSIIEditor窗口上面的信息條選項(xiàng)光標(biāo)步長(zhǎng)(這時(shí)顯示S=0.001，表明步長(zhǎng)為1nm)選擇為1μm，光標(biāo)步長(zhǎng)也可以通過(guò)鍵盤(pán)的<*>和</>鍵增加和減小。第四步：2μm方形區(qū)域圖形設(shè)計(jì)打開(kāi)工具箱，畫(huà)出兩個(gè)寬1μm的方塊，第一個(gè)方塊位于左上角。選擇矩形圖標(biāo)，點(diǎn)擊窗口左上角和中心。在右下角畫(huà)第二個(gè)方塊，首先點(diǎn)擊右下角，再點(diǎn)擊窗口中心。點(diǎn)擊紅色交叉圖標(biāo)，停止重復(fù)命令。點(diǎn)擊工具箱元素填充圖標(biāo)或<F>鍵，查看填充區(qū)域。點(diǎn)擊文件菜單中的保存退出命令，完成結(jié)構(gòu)S2的設(shè)計(jì)。畫(huà)圖區(qū)域光標(biāo)指針根據(jù)設(shè)定的步長(zhǎng)移動(dòng)，因此本例中它在中心點(diǎn)和對(duì)角間只有一步。第五步：20μm方形區(qū)域圖形設(shè)計(jì)點(diǎn)擊編輯菜單中的創(chuàng)建命令，輸入新的結(jié)構(gòu)名S20，點(diǎn)擊確定。點(diǎn)擊查看菜單中的窗口命令，選擇工作區(qū)20μm大小。點(diǎn)擊添加菜單中的結(jié)構(gòu)引用命令。在對(duì)話框中選擇結(jié)構(gòu)S2，輸入行列數(shù)5，U、V間距為2，點(diǎn)擊確定。3344如果事先光標(biāo)步長(zhǎng)已經(jīng)增至1或5μm，可將結(jié)構(gòu)移至畫(huà)圖區(qū)域通過(guò)鼠標(biāo)操作精確定位。另外選擇光標(biāo)指針位置可通過(guò)數(shù)字輸入，在窗口中點(diǎn)擊任意數(shù)字鍵然后在對(duì)話框中輸入坐標(biāo)(0,0)，點(diǎn)擊確定。第六步：結(jié)構(gòu)復(fù)制點(diǎn)擊要復(fù)制的結(jié)構(gòu)，使其高亮顯示。點(diǎn)擊修改菜單中的復(fù)制，單一命令。33再次點(diǎn)擊該結(jié)構(gòu)，出現(xiàn)與光標(biāo)相連的方框，它包含了復(fù)制的區(qū)域?？赏ㄟ^(guò)鼠標(biāo)拖動(dòng)該方框到任意位置然后點(diǎn)擊鼠標(biāo)放置。44當(dāng)發(fā)生放置位置錯(cuò)誤時(shí)，你可以雙擊結(jié)構(gòu)，在編輯結(jié)構(gòu)引用對(duì)話框中輸入U(xiǎn)、V坐標(biāo)10。點(diǎn)擊文件菜單中的保存退出命令。圖7-6.2在編輯結(jié)構(gòu)應(yīng)用中輸入正確的坐標(biāo)。第七步：圖形顯示打開(kāi)GDSIIViewer窗口，可看到兩個(gè)紅色的結(jié)構(gòu)引用區(qū)域。選擇選項(xiàng)菜單中的層級(jí)，1命令，可以看到方塊圖形。點(diǎn)擊工具箱中元素填充圖標(biāo)或<F>鍵，顯示填充區(qū)域變?yōu)樗{(lán)色。關(guān)閉窗口。第八步：在層級(jí)結(jié)構(gòu)中創(chuàng)建下一級(jí)4點(diǎn)擊編輯菜單中的創(chuàng)建命令，輸入S200。4設(shè)置光標(biāo)步長(zhǎng)至10μm。點(diǎn)擊查看菜單中的窗口命令，選擇工作區(qū)200μm大小。點(diǎn)擊添加菜單中的結(jié)構(gòu)引用命令，選擇結(jié)構(gòu)S20，輸入行列數(shù)為5，U、V間距為20，點(diǎn)擊確定，移至(0,0)處。使用修改菜單中的復(fù)制，單一命令復(fù)制該結(jié)構(gòu)，拖動(dòng)光標(biāo)至新位置(100,100)處。點(diǎn)擊文件菜單中的保存退出命令。層級(jí)1層級(jí)1層級(jí)2打開(kāi)GDSIIViewer窗口，為了打開(kāi)所有層級(jí)，點(diǎn)擊選項(xiàng)菜單中的層級(jí)，2命令。（選擇層級(jí)1顯示結(jié)構(gòu)引用的矩陣）使用工具箱中藍(lán)色圖標(biāo)可以查看圖形細(xì)節(jié)。另外可選擇使用<+>和<->鍵放大和縮小圖形。第九步：層級(jí)圖形的優(yōu)勢(shì)通過(guò)WindowsExplorer檢查可以發(fā)現(xiàn)，我們創(chuàng)建的數(shù)據(jù)庫(kù)文件僅有1KB的容量，它包含了5000個(gè)方塊。這樣的圖形若是平面設(shè)計(jì)則需要500kB。本例中的層級(jí)圖形很容易增加到5cm方形，這時(shí)平面設(shè)計(jì)和層級(jí)設(shè)計(jì)圖形的差異會(huì)更加明顯。關(guān)閉圖形，在GDSIIDatabase窗口中選中結(jié)構(gòu)S200。在編輯菜單中選擇Save*.ASC。在對(duì)話框中定義S200為ASCII文件名，以及定義存儲(chǔ)的路徑。在編輯菜單中選擇Load*.ASC。選擇S200.asc，點(diǎn)擊打開(kāi)。平面數(shù)據(jù)庫(kù)文件的S200.asc結(jié)構(gòu)將在窗口顯示。該結(jié)構(gòu)也可在編輯器中打開(kāi)，并且允許對(duì)圖形進(jìn)行修改?？纱蜷_(kāi)WindowsExplorer檢查新的數(shù)據(jù)庫(kù)文件，保存的ASCII文件有686kB容量。

第九章分辨率測(cè)試圖形設(shè)計(jì)本章解釋分辨率測(cè)試圖形的設(shè)計(jì)方法，它包含了很廣范圍的劑量。第一步：建立新的數(shù)據(jù)庫(kù)文件打開(kāi)GDSIIDatabase窗口，點(diǎn)擊文件菜單中的新建命令，輸入文件名，如：Resolution。第二步：建立新的結(jié)構(gòu)點(diǎn)擊編輯菜單中的創(chuàng)建命令，輸入結(jié)構(gòu)名RES，點(diǎn)擊確定。GDSIIEditor窗口自動(dòng)打開(kāi)。第三步：調(diào)整工作區(qū)點(diǎn)擊查看菜單中的窗口命令，選擇工作區(qū)為400μm大小，然后點(diǎn)擊確定。3第四步：光柵線的設(shè)計(jì)3在工具箱中選擇矩形圖標(biāo)，在畫(huà)圖區(qū)域畫(huà)一個(gè)長(zhǎng)方形。單擊紅色交叉圖標(biāo)取消重復(fù)命令。雙擊長(zhǎng)方形內(nèi)部，編輯參數(shù)。輸入坐標(biāo)U為0、4，V為0、100，劑量1，層0。該創(chuàng)建的長(zhǎng)方形長(zhǎng)為100μm，寬為4μm。44需要設(shè)計(jì)4個(gè)4μm寬的長(zhǎng)方形。選中該長(zhǎng)方形，點(diǎn)擊修改菜單中的復(fù)制，矩陣命令，我們只想在U方向復(fù)制結(jié)構(gòu)，設(shè)置矩陣尺寸U為4、V為1，矩陣方式為正交，U方向設(shè)置基本向量1為8μm。長(zhǎng)方形被復(fù)制4次，產(chǎn)生了一個(gè)4μm間隔的光柵圖形。66在GDSII工具箱中選擇矩形圖標(biāo)，畫(huà)出另一個(gè)長(zhǎng)方形。編輯該長(zhǎng)方形的參數(shù)，輸入坐標(biāo)U為0、2，V為150、250，劑量1，層0。77選中該長(zhǎng)方形，點(diǎn)擊修改菜單中的復(fù)制，矩陣命令，輸入矩陣尺寸U為8、V為1，矩陣方式為正交，U方向設(shè)置基本向量1為4μm。這組光柵線寬和間距都只是前一個(gè)光柵的一半。88在GDSII工具箱中選擇矩形圖標(biāo)，畫(huà)出另一個(gè)長(zhǎng)方形。編輯該長(zhǎng)方形的參數(shù)，輸入坐標(biāo)U為0、1，V為300、400，劑量1，層0。99選中該長(zhǎng)方形，點(diǎn)擊修改菜單中的復(fù)制，矩陣命令，輸入矩陣尺寸為U為16、V為1，矩陣方式為正交，U方向設(shè)置基本向量1為2μm。這組光柵周期是前一組光柵的一半，是第一組光柵的四分之一。我們已經(jīng)設(shè)計(jì)了三組線寬和間距相等的光柵，三組光柵的線寬和間距分別為4μm、2μm和1μm。11第五步：不同劑量圖形的復(fù)制方法好的曝光結(jié)果需要合適的曝光劑量，因此設(shè)計(jì)圖形在U方向復(fù)制光柵十次，每步劑量縮放乘以1.2，即下一組的劑量比這一組要增加20％。點(diǎn)擊編輯菜單中的選擇，全部命令選中所有元素。22點(diǎn)擊修改菜單中的復(fù)制，矩陣命令，輸入矩陣尺寸U為10、V為1，矩陣方式為正交，U方向設(shè)置基本向量1為40μm，U方向劑量縮放為1.2，選擇乘。點(diǎn)擊確定。結(jié)構(gòu)被復(fù)制，充滿整個(gè)畫(huà)圖區(qū)域。很容易觀察到間距的不同。第六步：顯示劑量點(diǎn)擊選項(xiàng)菜單中的顯示劑量命令，劑量由不同的顏色標(biāo)記顯示。點(diǎn)擊文件菜單中的保存退出命令。第七步：縮放整個(gè)結(jié)構(gòu)首先創(chuàng)建結(jié)構(gòu)RES200。點(diǎn)擊添加菜單中的結(jié)構(gòu)引用。在對(duì)話框中選擇結(jié)構(gòu)RES，輸入放大倍數(shù)0.5，然后點(diǎn)擊確定?，F(xiàn)在點(diǎn)擊任一數(shù)字鍵，在坐標(biāo)參數(shù)中輸入(0,0)，然后點(diǎn)擊確定。忽略圖形顯示，點(diǎn)擊文件菜單中的保存退出命令。通過(guò)GDSIIViewer打開(kāi)結(jié)構(gòu)RES200，點(diǎn)擊選項(xiàng)菜單中