pn結(jié)原理及工藝_第1頁(yè)
pn結(jié)原理及工藝_第2頁(yè)
pn結(jié)原理及工藝_第3頁(yè)
pn結(jié)原理及工藝_第4頁(yè)
pn結(jié)原理及工藝_第5頁(yè)
已閱讀5頁(yè),還剩18頁(yè)未讀 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

pn結(jié)原理及工藝目錄CONTENTSPN結(jié)的形成PN結(jié)的原理PN結(jié)的工藝PN結(jié)的特性PN結(jié)的應(yīng)用01PN結(jié)的形成CHAPTER原子由原子核和核外電子組成,原子核由質(zhì)子和中子組成。原子結(jié)構(gòu)原子核外的電子在不同的能級(jí)上運(yùn)動(dòng),能級(jí)由低到高,電子的能量逐漸增加。能級(jí)原子結(jié)構(gòu)與能級(jí)電子是帶負(fù)電荷的粒子,在原子中繞著原子核運(yùn)動(dòng)。當(dāng)電子從高能級(jí)躍遷到低能級(jí)時(shí),會(huì)留下一個(gè)空位,這個(gè)空位被稱為空穴。電子與空穴空穴電子半導(dǎo)體半導(dǎo)體是一種介于導(dǎo)體和絕緣體之間的材料,其導(dǎo)電性能可以受到溫度、光照、電場(chǎng)等因素的影響。常見半導(dǎo)體材料硅、鍺、硒、磷等。半導(dǎo)體材料02PN結(jié)的原理CHAPTER平衡狀態(tài)下的PN結(jié)是指沒有外部電壓或電流作用時(shí),N型和P型半導(dǎo)體交界處的狀態(tài)。此時(shí),由于多數(shù)載流子的擴(kuò)散作用和少數(shù)載流子的漂移作用達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡,PN結(jié)處幾乎沒有電流流動(dòng)。在平衡狀態(tài)下,由于N型和P型半導(dǎo)體中的載流子濃度不同,多數(shù)載流子在交界處產(chǎn)生擴(kuò)散,使得交界處形成一個(gè)空間電荷區(qū)。這個(gè)區(qū)域內(nèi)的載流子濃度很低,因此電阻很大,幾乎沒有任何電流能夠通過。平衡狀態(tài)下的PN結(jié)非平衡狀態(tài)下的PN結(jié)當(dāng)在PN結(jié)上施加外部電壓或電流時(shí),平衡狀態(tài)被打破,PN結(jié)進(jìn)入非平衡狀態(tài)。此時(shí),多數(shù)載流子和少數(shù)載流子都會(huì)發(fā)生運(yùn)動(dòng),形成電流。在非平衡狀態(tài)下,由于外部電壓或電流的作用,多數(shù)載流子會(huì)在電場(chǎng)作用下向?qū)Ψ桨雽?dǎo)體區(qū)域漂移,使得空間電荷區(qū)變窄或消失,電流得以流動(dòng)。在PN結(jié)中,電場(chǎng)的方向由N型指向P型半導(dǎo)體。這個(gè)電場(chǎng)是由多數(shù)載流子的擴(kuò)散作用形成的。電場(chǎng)的大小與空間電荷區(qū)的寬度有關(guān)。當(dāng)外部電壓或電流施加在PN結(jié)上時(shí),電場(chǎng)的大小和方向發(fā)生變化,從而影響載流子的運(yùn)動(dòng)和電流的大小。電流的大小與電場(chǎng)的大小和方向密切相關(guān)。電場(chǎng)與電流03PN結(jié)的工藝CHAPTER熱氧化工藝是一種常用的半導(dǎo)體制造工藝,通過在高溫下與氧反應(yīng),在硅片表面形成一層二氧化硅薄膜,這層薄膜具有絕緣特性,可以用來(lái)制作PN結(jié)。熱氧化工藝的優(yōu)點(diǎn)是形成的二氧化硅薄膜質(zhì)量較高,穩(wěn)定性好,且工藝成熟度高,易于控制。熱氧化工藝的缺點(diǎn)是需要較高的溫度和較長(zhǎng)的時(shí)間,能源消耗較大,且對(duì)某些材料可能會(huì)產(chǎn)生不良影響。熱氧化工藝擴(kuò)散工藝的優(yōu)點(diǎn)是形成的PN結(jié)均勻性好,且擴(kuò)散過程中形成的結(jié)深和結(jié)電阻等參數(shù)易于控制。擴(kuò)散工藝的缺點(diǎn)是擴(kuò)散過程中容易產(chǎn)生缺陷和污染,且對(duì)設(shè)備和環(huán)境要求較高。擴(kuò)散工藝是一種將雜質(zhì)元素?cái)U(kuò)散到硅片中的工藝,通過控制擴(kuò)散條件,可以在硅片中形成PN結(jié)。擴(kuò)散工藝離子注入與刻蝕工藝離子注入與刻蝕工藝是一種將雜質(zhì)離子注入到硅片中并對(duì)其進(jìn)行刻蝕的工藝,通過控制注入和刻蝕條件,可以在硅片中形成PN結(jié)。離子注入與刻蝕工藝的優(yōu)點(diǎn)是形成的PN結(jié)位置和形狀可控,且雜質(zhì)分布均勻性好。離子注入與刻蝕工藝的缺點(diǎn)是設(shè)備成本較高,且對(duì)環(huán)境和人體可能產(chǎn)生一定的影響。04PN結(jié)的特性CHAPTERPN結(jié)具有單向?qū)щ娦?,即電流只能在一個(gè)方向上通過PN結(jié)??偨Y(jié)詞在PN結(jié)中,由于P型和N型半導(dǎo)體之間的相互擴(kuò)散作用,形成了空間電荷區(qū)和勢(shì)壘。在正向偏置時(shí),由于勢(shì)壘下降,多數(shù)載流子可以順利通過勢(shì)壘,因此表現(xiàn)出良好的導(dǎo)電性。而在反向偏置時(shí),由于勢(shì)壘上升,多數(shù)載流子被阻擋,表現(xiàn)出高電阻特性。詳細(xì)描述單向?qū)щ娦钥偨Y(jié)詞PN結(jié)具有整流特性,即能夠?qū)⒔涣麟娹D(zhuǎn)換為直流電。詳細(xì)描述當(dāng)交流電通過PN結(jié)時(shí),由于PN結(jié)的單向?qū)щ娦裕挥幸话氲牟ㄐ文軌蛲ㄟ^,另一半被阻擋。因此,交流電被轉(zhuǎn)換為直流電。整流器就是利用PN結(jié)的整流特性來(lái)將交流電轉(zhuǎn)換為直流電的。整流特性總結(jié)詞PN結(jié)在超過其承受電壓時(shí)會(huì)發(fā)生擊穿。詳細(xì)描述當(dāng)加在PN結(jié)上的反向電壓超過其承受范圍時(shí),會(huì)發(fā)生雪崩擊穿或齊納擊穿等現(xiàn)象,導(dǎo)致電流突然增加。擊穿后,PN結(jié)的阻抗會(huì)迅速降低,失去單向?qū)щ娦浴榱吮苊鈸舸?,需要選擇合適的反向擊穿電壓和電流密度的器件規(guī)格。擊穿特性05PN結(jié)的應(yīng)用CHAPTER晶體管晶體管是利用PN結(jié)原理制成的最基礎(chǔ)電子器件,具有信號(hào)放大、開關(guān)、整流等功能。晶體管在電子設(shè)備中廣泛應(yīng)用,如收音機(jī)、電視機(jī)、電腦等,是現(xiàn)代電子工業(yè)的重要基石。太陽(yáng)能電池是利用PN結(jié)的光生電效應(yīng)將太陽(yáng)能轉(zhuǎn)化為電能的裝置。太陽(yáng)能電池在可再生能源領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用,如太陽(yáng)能熱水器、光伏電站等。太陽(yáng)能電池

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫(kù)網(wǎng)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

最新文檔

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論