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文檔簡(jiǎn)介
專練22化學(xué)工藝流程
1.[2022?全國(guó)乙卷]廢舊鉛蓄電池的鉛膏中主要含有PbSOi、PbO/、PbO和Pb,還有少
量Ba、Fe、Al的鹽或氧化物等。為了保護(hù)環(huán)境、充分利用鉛資源,通過(guò)下圖流程實(shí)現(xiàn)鉛的回
收。
Na2c。3HAC,H2O2NaOH
II't
鉛膏一T脫硫I-d酸浸I―?|沉鉛I一…--PbO
1
濾液濾渣濾液
一些難溶電解質(zhì)的溶度積常數(shù)如下表:
難溶電解質(zhì)PbSOiPbCO3BaSOiBaCOs
2.5X1()T7.4X10-"1.ixio-102.6X10-9
一定條件下,一些金屬氫氧化物沉淀時(shí)的pH如下表:
金屬氫氧化物Fe(OH)3Fe(OH)2Al(OH)3Pb(OH)2
開(kāi)始沉淀的pH2.36.83.57.2
完全沉淀的pH3.28.34.69.1
回答下列問(wèn)題:
(1)在“脫硫”中PbSO,轉(zhuǎn)化反應(yīng)的離子方程式為
用沉淀溶解平衡原理解釋選擇Na2c的原因o
(2)在“脫硫”中,加入Na2c。3不能使鉛膏中BaSO,完全轉(zhuǎn)化,原因是
(3)在“酸浸”中,除加入醋酸(HAc),還要加入H2O2。
(i)能被H2O2氧化的離子是;
(ii)H202促進(jìn)了金屬Pb在醋酸中轉(zhuǎn)化為Pb(Ac)2,其化學(xué)方程式為
(iii)H2O2也能使Pb02轉(zhuǎn)化為Pb(Ac)2,H202的作用是
(4)“酸浸”后溶液的pH約為4.9,濾渣的主要成分是
(5)“沉鉛”的濾液中,金屬離子有。
2.[2021東卷]對(duì)廢催化劑進(jìn)行回收可有效利用金屬資源。某廢催化劑主要含鋁(Al)、
鑰(Mo)、銀(Ni)等元素的氧化物,一種回收利用工藝的部分流程如下:
Na()H(s)過(guò)量CO,適量BaQ溶液
濾fBaMoOq(s)
廢催750℃水浸沉鋁液
化劑ff液fU
焙燒過(guò)濾過(guò)濾3f濾液in
含Ni固體XAlAs
已知:25C時(shí),H£03的41=4.5X10,危=4.7X1(T";啟(BaMoOJ=3.5X10:
9
K”(BaC0:))=2.6X10;該工藝中,pH>6.0時(shí),溶液中Mo元素以MoO,的形態(tài)存在。
(1)“焙燒”中,有NazMoO,生成,其中Mo元素的化合價(jià)為。
(2)“沉鋁”中,生成的沉淀X為。
(3)“沉鑰”中,pH為7.0。
①生成BaMoO,的離子方程式為。
②若條件控制不當(dāng),BaCCh也會(huì)沉淀。為避免BaMoOi中混入BaC03沉淀,溶液中c(HC0;)
c(MoOr)=(列出算式)時(shí),應(yīng)停止加入BaCk溶液。
(4)①濾液HI中,主要存在的鈉鹽有NaCl和Y,Y為。
②往濾液III中添加適量NaCl固體后,通入足量____________(填化學(xué)式)氣體,再通入
足量CO?,可析出Y。
(5)高純AlAs(神化鋁)可用于芯片制造。芯片制造中的一種刻蝕過(guò)程如圖所示,圖
中所示致密保護(hù)膜為一種氧化物,可阻止HQ刻蝕液與下層GaAs(神化保)反應(yīng)。
H2O2刻蝕液
光刻.膜I光刻.膜
/I、1,一[、_
/~GAlaAsS
-I—GaAs
致密保護(hù)膜
/d尸般i
TGaAs
①該氧化物為。
②已知:Ga和A1同族,As和N同族。在H2O2與上層GaAs的反應(yīng)中,As元素的化合價(jià)
變?yōu)?5價(jià),則該反應(yīng)的氧化劑與還原劑物質(zhì)的量之比為o
3.[2021?北京卷]鐵黃是一種重要的化工產(chǎn)品。由生產(chǎn)鈦白粉廢渣制備鐵黃的過(guò)程如下。
I鈦白粉I蒸儲(chǔ)水、鐵粉精制一定量氨水、空氣鐵黃晶種
I廢渣I
wFeSO,溶液制備晶”種FeOOIl制JW黃
鐵黃產(chǎn)品
FeOOH
資料:
i.鈦白粉廢渣成分:主要為FeSO,?HzO,含少量TiOSO,和不溶物
ii.TiOSOiH-(x+1)H2O^TiO2?祝0I+H2SO4
iii.0.1mol?LFe計(jì)生成Fe(OH)2,開(kāi)始沉淀時(shí)pH=6.3,完全沉淀時(shí)pH=8.3
0.1mol?L-1Fe計(jì)生成FeOOIl,開(kāi)始沉淀時(shí)pH=l.5,完全沉淀時(shí)pH=2.8
(1)純化
①加入過(guò)量鐵粉的目的是
②充分反應(yīng)后,分離混合物的方法是
(2)制備晶種
為制備高品質(zhì)鐵黃產(chǎn)品,需先制備少量鐵黃晶種。過(guò)程及現(xiàn)象是:向一定濃度FeSO,溶
液中加入氨水,產(chǎn)生白色沉淀,并很快變成灰綠色。滴加氨水至pH為6.0時(shí)開(kāi)始通空氣并記
錄pH變化(如圖)。
①產(chǎn)生白色沉淀的離子方程式是
②產(chǎn)生白色沉淀后的pH低于資料iii中的6.3。原因是:沉淀生成后c(Fe')0.1
mol?「(填”或
③0?右時(shí)段,pH幾乎不變;△?友時(shí)段,pH明顯降低。結(jié)合方程式解釋原因:
④pH-4時(shí)制得鐵黃晶種。若繼續(xù)通入空氣,G后pH幾乎不變,此時(shí)溶液中c(Fe?+)
仍降低,但c(Fe3+)增加,且c(Fe")降低量大于c(Fe時(shí))增加量。結(jié)合總方程式說(shuō)明
原因:?
(3)產(chǎn)品純度測(cè)定
鐵黃純度可以通過(guò)產(chǎn)品的耗酸量確定。
________H£0,標(biāo)準(zhǔn)溶液______NaCO,溶液______NaOH標(biāo)準(zhǔn)溶液
?g鐵黃?加而解筋酸滴定
資料:Fe3++3CO=Fe(C0i)
242
Fe(GOO3不與稀堿液反應(yīng)
NaEQi過(guò)量,會(huì)使測(cè)定結(jié)果(填“偏大”“偏小”或“不受影響”)。
4.[2021?山東卷]工業(yè)上以銘鐵礦(FeCmO,,含Al、Si氧化物等雜質(zhì))為主要原料制
備紅機(jī)鈉(Na2Cr207-2H20)的工藝流程如下?;卮鹣铝袉?wèn)題:
()IH2O2s(),gso
—>[w]―>|W]―>—?|蒸發(fā)結(jié)晶
濾渣濾渣副產(chǎn)品
母液
,卜,
—,冷卻結(jié)晶
Na2Cr2O7?2H,()
(1)焙燒的目的是將FeCr。轉(zhuǎn)化為NazCrO,,并將Al、Si氧化物轉(zhuǎn)化為可溶性鈉鹽。
焙燒時(shí)氣體與礦料逆流而行,目的是
(2)礦物中相關(guān)元素可溶性組分物質(zhì)的量濃度c與pH的關(guān)系如圖所示.當(dāng)溶液中可溶
組分濃度cWl.0X10-5mol?廣,時(shí),可認(rèn)為已除盡。
7
q
?o
E
、3
M
一
—
;Fe元素在
(填操作單元的名稱)過(guò)程中除去。
(3)蒸發(fā)結(jié)晶時(shí),過(guò)度蒸發(fā)將導(dǎo)致.冷卻結(jié)晶所得母液中,除NazCr。外,可
在上述流程中循環(huán)利用的物質(zhì)還有
離子交換膜
(4)利用膜電解技術(shù)(裝置如圖所示),以NazCrO”為主要原料制備NazCr。的總反應(yīng)方
程式為:
4Na2CrO1+4H2O^^2Na2Cr207+4Na0H+2H2t+02t
則Na£rO在(填“陰”或“陽(yáng)”)極室制得,電解時(shí)通過(guò)膜的離子主要為
專練22化學(xué)工藝流程
2-2-
1.⑴PbS0」(s)+C0,(aq)=PbC03(s)+S0(aq)存在沉淀溶解平衡PbSO』(s)wPb"
34
2-
(aq)+S0(aq),已知心(PbC03)?(“(PbS0j,加入Na2c0”可將PbSO,轉(zhuǎn)化為更難溶的PbCO”
4
有利于后續(xù)溶于酸
(2)沉淀轉(zhuǎn)化反應(yīng)BaS0,(s)+C0(aq)-BaC0(s)+S0(aq)的平衡常數(shù)衿0.04,4值
334
較小,說(shuō)明正向反應(yīng)程度有限
2+
(3)(i)Fe(ii)Pb+H202+2HAc=Pb(Ac)2+2H20(iiDhW:;作還原劑,還原PbO?
(4)Al(OH)3、Fe(OH)八BaSO.,
(5)Ba2+,Na+
解析:(1)結(jié)合難溶電解質(zhì)的人”可知利用NazCOJ’脫硫”發(fā)生沉淀轉(zhuǎn)化反應(yīng):PbSO,(s)
2-2-2-
+C0(aq)=PbC03(s)+S0(aq);存在沉淀溶解平衡PbSOi(s)wPb"(aq)+S0(aq),己
344
知K,(PbC03)?&JPbS0。,加入NaQ”可將PbS?!罐D(zhuǎn)化為更難溶的PbCCL有利于后續(xù)溶于
c(SO:)
酸。(2)沉淀轉(zhuǎn)化反應(yīng)BaS0,(s)+C()3(aq)wBaC03(s)+S0,(aq)的平衡常數(shù)人丁訴~-
=3:累%=白"-Q0.04,4值較小,說(shuō)明正向反應(yīng)程度有限,BaSO,不能完全轉(zhuǎn)
化為BaCOso(3)(i)根據(jù)鉛膏的組成成分中含鐵元素可知,能夠氧化的離子為Fe?+:
(ii)H。將Pb氧化為Pb2+,繼而Pb?+與醋酸反應(yīng)生成Pb(Ac)2,反應(yīng)的化學(xué)方程式為Pb+HQ
+2HAc=Pb(Ac)2+2H20;(iii)PbOz轉(zhuǎn)化為Pb(Ac”的過(guò)程中Pb元素化合價(jià)降低,則H2O2作還
原劑,起到還原PbO?的作用。(4)“脫硫”時(shí),BaSO”部分轉(zhuǎn)化為BaCO:,,Ba元素以BaSO“、BaC03
的形式進(jìn)入“酸浸”工序,此外還有Al、Fe等金屬元素,結(jié)合題給金屬氫氧化物沉淀時(shí)的
pH和鉛膏的成分,可知濾渣中含有A1(OH)3、Fe(O含3、BaSO」。(5)“沉鉛”后的濾液中有“酸
浸”時(shí)BaCQ,溶于酸產(chǎn)生的Ba?+,還有因加入NaOH溶液而引入的Na卡。
2.(1)+6
(2)Al(0H)3
(3)①M(fèi)oO+Ba3+=BaMo0iI
4
2.6X1Q-91.0X107
②3.5X10-8X4.7X10-11
(4)@NaHC03②N%
(5)①AI2O3②4:1
解析:(1)根據(jù)化合物Na2Mo。,中Na為+1價(jià),。為一2價(jià),由化合物中化合價(jià)代數(shù)和為0,
可計(jì)算出NazMoO,中M。元素的化合價(jià)為+6。(2)“750℃焙燒”時(shí),廢催化劑中的氧化鋁發(fā)
生反應(yīng):A1203+2NaOII=2NaA102+1120,“濾液I”中主要存在NaA10?和Na2MoO?通入過(guò)量
CO?時(shí),發(fā)生反應(yīng):NaA102+C02+2H20=Al(0H)3I+NaHC03,生成的沉淀X為Al(OH)3。(3)
由⑵的分析可知“濾液U”的主要成分是NaHCOs和Na2Mo04o①“濾液II”中加入BaCh溶
2-
液生成BaMoO.,的離子方程式為MoO+Ba2+=BaMoO.1I。②開(kāi)始生成BaCO;時(shí),溶液中
4
C(CO:)(BaCO.,)2.6X10-9,c(H+)-c(C07)
c(Mo0[)=%(BaMoO,)=3.5X10-8又因?yàn)樾?-c(HCO;)=4.7X10
c(C07)心4.7X10^"c(HCO;)
”,由于“沉鑰”中,pH為70,則、=-7iFT=1ex”;,因此可得卬八:、
c(HCO3)c(H)1.OX10c(MO04)
96乂10-91ox10-7
X-1-——K。(4)①由于“濾液II”的主要成分是NaHCOs和NaMo0,加入適
o.□X1U4./X1U24
量BaCL溶液“沉鋁”后,“濾液HI”中主要存在的鈉鹽有NaCl和NaHC03,則Y為NaHC03?
②由“濾液HI”制備NaHCOB,原理類似侯氏制堿法,加入NaCl固體后,通入足量堿性氣體
NH3,再通入足量CO”發(fā)生反應(yīng):NH3+H20+CO2=NHtHC03>NHtHCO:(+NaC1=NaHC03I+NH.,C1,
析出溶解度較小的NaHCQ,固體。(5)①由題給芯片制造的刻蝕過(guò)程示意圖可知,加入HG刻
蝕液,GaAs逐漸溶解,當(dāng)1似)2刻蝕液接觸AlAs時(shí),反應(yīng)生成一種致密的氧化膜,由此可知,
Ga、As均可溶于H2O2刻蝕液中,形成的致密氧化膜是AlAs中的鋁被氧化為致密的AkO,膜。
②GaAs與H2O2反應(yīng)時(shí),As由一3價(jià)變?yōu)?5價(jià),0由一1價(jià)變?yōu)橐?價(jià),由氧化還原反應(yīng)中得
失電子守恒規(guī)律可知,氧化劑(H&)與還原劑(GaAs)的物質(zhì)的量之比為4:1。
3.(1)①與硫酸反應(yīng),使得
TiOSO,+2H2O^TiO2?Il20I+ILSO,
平衡正向移動(dòng),沉鈦;過(guò)量的作用是防止二價(jià)鐵被氧化
②過(guò)濾
(2)①Fe"+2NH?H0=Fe(OH)I+2NH(2)>
3224
③pH6.0左右,4Fe(0H)2+02+2H20=4Fe(OH)3,因此pH幾乎不變,之后發(fā)生反應(yīng)4Fe?
+
+02+61l20=4Fe00n\+81廣,溶液中H+濃度增大,pH減?、苋芤褐型瑫r(shí)存在兩個(gè)氧化反
2++3+2++
應(yīng)4Fe+02+4H=4Fe+2H20和4Fe+02+6H20=4Fe00HI+8H,因此c(Fe")的減小
大于c(Fe,+)的增加,或用疊加反應(yīng)解釋:12Fe2++302+2H20=4Fe00HI+8Fe"
(3)不受影響
解析:(2)②0.1mol?「'Fe,+沉淀為Fe(0
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