顯微分析技術(shù)電子顯微鏡

顯微分析技術(shù)電子顯微鏡第一頁，共十頁，編輯于2023年，星期三基本原理及功能原子力電子顯微鏡是在掃描隧道電子顯微鏡制造技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的。它是利用移動探針與原子間產(chǎn)生的相互作用力，將其在三維空間的分布狀態(tài)轉(zhuǎn)換成圖像信息，從而得到物質(zhì)表面原子及它們的排列狀態(tài)。通常，把以掃描隧道和原子力電子顯微鏡為基礎(chǔ)，兼帶上述其他功能顯微鏡的儀器統(tǒng)稱為原子力電子顯微鏡?！簟舻诙摚彩?，編輯于2023年，星期三掃描隧道和原子力電子顯微鏡一般掃描電子顯微鏡放大倍數(shù)為幾十萬倍．透射電子顯微鏡的放大倍數(shù)可達百萬倍以上掃描隧道電子顯微鏡的放大倍數(shù)通常可達幾千萬倍??用STM測量高定向熱解石墨應(yīng)用舉例第三頁，共十頁，編輯于2023年，星期三其它顯微鏡LFM激光力顯微鏡MFM磁力顯微鏡BEEM彈道電子發(fā)射顯微鏡可用于觀察樣品表面的起伏狀態(tài)。由于其探針離表面較遠，而且觀察表面起伏的最小尺寸度約5nm，因此也可用來測量表面窄縫的內(nèi)部特征。分辨率優(yōu)于25nm，主要用于觀察磁場邊界、磁場強度等，如可用于觀察磁盤存貯的數(shù)據(jù)等是由STM派生出來，用于研究薄居下界面性質(zhì)并具有納米空間分辨率的一種顯微鏡。通過BEEM圖．可以觀察到界面結(jié)構(gòu)以及由于界面結(jié)構(gòu)的缺陷和界面雙方元素的互擴散或化學(xué)作用形成的電子態(tài)不均勻性狀態(tài)。第四頁，共十頁，編輯于2023年，星期三各種電鏡的比較

分辨工作環(huán)境對試樣影響檢測深度評價TEMSEMSTMAFMd⊥d∥無0.2nmd⊥d∥d⊥d∥低6～10nm0.01nm0.1nm高真空高真空大氣,液體,真空中等小無損小于0.2μm1μm1～2原子層歷史最久應(yīng)用最廣可觀察原子整體形貌STM的改進與發(fā)展第五頁，共十頁，編輯于2023年，星期三電鏡在高分子材料科學(xué)研究中的應(yīng)用

近些年來，電鏡的分辨率已達到0.1nm，電鏡能夠直接觀察分子和一些原子。但一般來說，對于高分子試樣，只能達到l-1.5nm，只有少數(shù)高分于試樣能夠得到高分辨率像。這是由高分子材料的特點決定的，在高真空中，電子射線轟擊高分子試樣，使高分子受到電子損傷，降解、污染。因而降低了分辨率：盡管如此，電鏡仍然是研究高分子材料的重要儀器。第六頁，共十頁，編輯于2023年，星期三A.結(jié)晶性高分子(1)單晶的形成與結(jié)構(gòu)(2)球晶透射電鏡PE單晶PEO球晶PE球晶第七頁，共十頁，編輯于2023年，星期三(3)串晶(4)伸直鏈結(jié)晶PE串晶PE伸直鏈片晶第八頁，共十頁，編輯于2023年，星期三（5）結(jié)晶的形變與熱處理經(jīng)超聲波破壞的PP結(jié)晶PE單晶熱處理后的形態(tài)第九頁，共十