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文檔簡介

硅材料與硅片的生產(chǎn)SolarfunContents多晶硅的合成一多晶硅錠的生產(chǎn)過程二單晶硅的生產(chǎn)過程三硅片加工四Solarfun小結(jié)五

硅半導(dǎo)體的生產(chǎn)主要分為多晶硅的合成及生長、單晶硅的生長和硅晶片加工這三個步驟。其中,多晶硅合成主要是應(yīng)用化學(xué)方法,通過一系列的化學(xué)反應(yīng)完成多晶硅的提純生長過程,得到高純硅;太陽電池多晶硅錠主要采用定向凝固的方法生產(chǎn)的;單晶硅的生長是將已生產(chǎn)的高純多晶硅制備為單晶硅,這一過程是通過物理方法實(shí)現(xiàn)的,主要介紹提拉(CZ)和區(qū)熔(FZ)兩種單晶生長方法;硅片加工主要是機(jī)械加工的過程,包括硅片的定向、切割、打磨、拋光等過程。下面分別介紹多晶硅合成及生長,單晶硅生長和硅片加工這幾個工藝步驟。

SolarfunSolarfun一多晶硅的合成

多晶硅是由硅純度較低的冶金級硅提煉而來,由于各多晶硅生產(chǎn)工廠所用主輔原料不盡相同,因此生產(chǎn)工藝技術(shù)不同;進(jìn)而對應(yīng)的多晶硅產(chǎn)品技術(shù)經(jīng)濟(jì)指標(biāo)、產(chǎn)品質(zhì)量指標(biāo)、用途、產(chǎn)品檢測方法、過程安全等方面也存在差異,各有技術(shù)特點(diǎn)和技術(shù)秘密,總的來說,目前國際上多晶硅生產(chǎn)主要的傳統(tǒng)工藝有:改良西門子法、硅烷法和硫化床法。改良西門子法是目前主流的生產(chǎn)方法,采用此方法生產(chǎn)的多晶硅約占多晶硅全球總產(chǎn)量的85%。但這種提煉技術(shù)的核心工藝僅僅掌握在美、德、日等7家主要硅料廠商手中。這些公司的產(chǎn)品占全球多晶硅總產(chǎn)量的90%,它們形成的企業(yè)聯(lián)盟實(shí)行技術(shù)封鎖,嚴(yán)禁技術(shù)轉(zhuǎn)讓。短期內(nèi)產(chǎn)業(yè)化技術(shù)壟斷封鎖的局面不會改變。

SolarfunSolarfun一多晶硅的合成

從上世紀(jì)五,六十年代至今,高純多晶硅生產(chǎn)廣泛采用氫氣還原三氯氫硅,即西門子法。回首過去,傳統(tǒng)西門子法在我國的應(yīng)用也有幾十年了,但無論是生產(chǎn)規(guī)模,能耗,環(huán)保,以及副產(chǎn)物的綜合利用與國外的技術(shù)相差都很大。

改良西門子法主要優(yōu)點(diǎn)是:節(jié)能降耗顯著、成本低、質(zhì)量高,采用綜合利用技術(shù),對環(huán)境產(chǎn)生污染小。其主要技術(shù)是:大直徑對多對棒節(jié)能型還原爐技術(shù)、導(dǎo)熱油循環(huán)冷卻硅還原爐系統(tǒng)技術(shù)、還原爐尾氣封閉式干法回收技術(shù)以及副產(chǎn)品SiCl4氫化生成SiHCl3技術(shù)。

SolarfunSolarfun(一)改良西門子法的幾項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)

1大型多對棒節(jié)能型還原爐多晶硅還原爐,出于節(jié)能降耗的考慮,必須大型化,與之相適應(yīng)的電器也必須大型配套。大型節(jié)能還原爐有幾項(xiàng)關(guān)鍵的技術(shù):

(1)爐內(nèi)可同時加熱許多根金屬絲,以減少爐壁輻射所造成的熱損失;

(2)爐的內(nèi)壁加工成鏡面,使輻射熱能反射,以減少散熱損失熱能;

(3)提高爐內(nèi)壓力,加大供氣量,以提高反應(yīng)速度,加快硅的沉積生成速度采用這種改進(jìn)的大型還原爐之后,其爐產(chǎn)量可以從改良前的每爐次100-200公斤提高到每爐次5-6噸。這種大型還原爐的顯著特點(diǎn)是:能耗低、產(chǎn)量高、質(zhì)量穩(wěn)定。

目前,國外大型還原爐的硅棒的總數(shù)大多在100根以上,硅棒長度在1.5米以上,棒直徑達(dá)到200毫米以上,每爐產(chǎn)量可達(dá)5^6噸,電耗則大幅度下降,達(dá)到每公斤多晶硅耗電80kW/h.

SolarfunSolarfun(一)改良西門子法的幾項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)

2導(dǎo)熱油循環(huán)冷卻還原爐工藝技術(shù)

在多晶硅生產(chǎn)過程中,還原爐是高耗能設(shè)各,硅棒的沉積需要電能加熱并維持溫度在高溫狀態(tài),而爐筒、電極和爐底盤則需要冷卻。冷卻過程會帶走大量熱能,使還原爐內(nèi)多晶硅棒的熱能損失。這種熱能損失大部分是高溫硅棒傳向低溫爐壁的熱輻射而損失的,其次是氣體被加熱后而排出還原爐帶走了部分熱量。要想提高爐筒壁的溫度,就要設(shè)法提高爐筒壁冷卻介質(zhì)的溫度。以前傳統(tǒng)的冷卻介質(zhì)是水,因水的沸點(diǎn)在100℃,故出口溫度不能高于100℃,而實(shí)際工藝過程中未能達(dá)到這種較高溫度,一般都在50℃左右。人們通過探討,采用了導(dǎo)熱油作為還原爐的冷卻介質(zhì),因油的成本遠(yuǎn)比水高,所以采用了循環(huán)冷卻方式,因此,便產(chǎn)生了導(dǎo)熱油循環(huán)冷卻還原爐的工藝。這種工藝可使直接電耗降低約30%,還可綜合利用余熱.

SolarfunSolarfun(一)改良西門子法的幾項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)

3.還原尾氣的干法回收技術(shù)

在還原生長多晶硅之后,還有部分還原尾氣。如果尾氣放空排放,不僅浪費(fèi)了能源和原材料,還會對環(huán)境造成污染。

多晶硅還原爐尾氣中的氫、氯化氫、三氯氫硅、四氯化硅等成分,經(jīng)過加工和冷卻達(dá)到一定的條件之后,其中的二氯氫硅和四氯化硅被冷凝分離出來,然后把分離出的三氯氫硅直接送到還原爐,以生產(chǎn)多晶硅,而把四氯化硅送到氫化工序,經(jīng)氫化后,部分轉(zhuǎn)化成三氯氫硅,把氫化后的氣體再經(jīng)分離塔分離出二氯氫硅和四氯化硅,再分別把三氯氫硅送到還原系統(tǒng),再把四氯化硅送到氫化工序,這樣連續(xù)不斷地循環(huán)進(jìn)行下去。另外,經(jīng)加壓和冷卻后的不凝氣體,主要是氫和氯化氫,它們在加壓和低溫條件下,通過特殊的分離工藝,使氫和氯化氫分離出來,把沒有雜質(zhì)和水分的純氫送往氯化氫合成工序或還原工序利用,而氯化氫則送到三氯氫硅的合成工序。還原尾氣干法回收的整套工藝都不接觸水分,只是把尾氣中各種成分逐一分離,并且不受污染地回收,再送回相適應(yīng)的工序重復(fù)利用,實(shí)行閉路循環(huán)式工作。

SolarfunSolarfun(一)改良西門子法的幾項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)

4四氯化硅(SiCl4)氫化反應(yīng)技術(shù)

用西門子法生產(chǎn)多晶硅時在氯化工序和還原工序都要產(chǎn)生大量的副產(chǎn)物—SiC14·大量的SiC14生成,不但增加了多晶硅生產(chǎn)的單耗,而且該物很難處理,對環(huán)境造成污染。為此,大阪鈦公司、聯(lián)合碳化物等公司很早就致力于開展SiC14轉(zhuǎn)化成SiHCl3,的研究工作。世界各大型多晶硅生產(chǎn)廠,也都進(jìn)行了這方面的研究,使生產(chǎn)多晶硅僅需補(bǔ)充純硅和少量H2作原料成為可能.

SolarfunSolarfun(二)改良西門子法生產(chǎn)工藝流程SolarfunSolarfun改良西門子法示意圖

改良西門子工藝法生產(chǎn)多晶硅所用設(shè)備主要有:氯化氫合成爐,三氯氫硅沸騰床加壓合成爐,三氯氫硅水解凝膠處理系統(tǒng),三氯氫硅精餾、精餾塔提純系統(tǒng),硅芯爐,節(jié)電還原爐,磷檢爐,硅棒切斷機(jī),腐蝕、清洗、干燥、包裝系統(tǒng)裝置,還原尾氣干法回收裝置;其他包括分析、檢測儀器,控制儀表,熱能轉(zhuǎn)換站,壓縮空氣站,循環(huán)水站,變配電站,凈化廠房等。

SolarfunSolarfun1合成HCl

SolarfunSolarfun生成三氯氫硅所需的HCl是由工廠自行合成的,其裝置如圖一所示。經(jīng)干燥的氫氣和氯氣通入反應(yīng)爐中的燃燒室中燃燒,生成的HCl經(jīng)冷卻后成為液態(tài),經(jīng)管道儲存?zhèn)溆谩?/p>

圖一2合成SiHCl3(三氯氫硅)

SolarfunSolarfun三氯氫硅的合成是在沸騰爐中完成的,反應(yīng)式如下:這一反應(yīng)過程是可逆的,在280—320℃下正向反應(yīng)系數(shù)較大,三氯化硅的產(chǎn)率較高,其要含量大于83%,才能進(jìn)入下一步。沸騰爐的結(jié)構(gòu)如圖二。

圖二經(jīng)干燥的硅粉由沸騰爐中上部注入到爐中,與由下部注入的HCl(g)在反應(yīng)爐中部反應(yīng),生成的SiHCl3、H2以及未反應(yīng)的Si(s)、HCl等由沸騰爐的上部排出,經(jīng)除塵(主要是Si中的金屬雜質(zhì)和未反應(yīng)物質(zhì))冷卻后,在經(jīng)進(jìn)一步深冷,得到含雜質(zhì)較多的液態(tài)三氯氫硅,進(jìn)入下一步提純工序。Si中主要含金屬雜質(zhì),氫氣和氯氣中主要含非金屬雜質(zhì),Si與HCl反應(yīng)生成三氯氫硅后,其雜質(zhì)被大大除去,純度得到大大提高。這一反應(yīng)中還有一些副反應(yīng),再加上反應(yīng)不完全等原因,會生成很多的副產(chǎn)物。生成的所有產(chǎn)物都將進(jìn)入到提純工序中。3三氯氫硅的提純

SolarfunSolarfun三氯氫硅的提純過程是一個物理過程,這一過程是在精餾塔中進(jìn)行的,其結(jié)構(gòu)見圖三如圖所示,在精餾塔內(nèi)部有很多層帶孔的篩板,合成的三氯氫硅通入塔釜,經(jīng)加熱后進(jìn)入到精餾塔內(nèi),加熱揮發(fā)成氣態(tài)的SiHCl3在塔內(nèi)向上揮發(fā),逐步變冷,凝結(jié)成液態(tài)。注入的原料中相對于三氯氫硅為高沸點(diǎn)的物質(zhì)首先凝結(jié)為液態(tài),流入塔的下部,而相對于三氯氫硅為低沸點(diǎn)的物質(zhì)將揮發(fā)到他的上部,這樣就將高沸點(diǎn)和低沸點(diǎn)的雜質(zhì)趕到塔的兩端,從塔的中部適當(dāng)位置可以提取純的三氯氫硅。由塔頂部揮發(fā)的三氯氫硅以及雜質(zhì)可經(jīng)冷卻后再進(jìn)入到塔內(nèi)再提純,如此循環(huán),不僅使三氯氫硅的純度不斷提高,而且可分離雜質(zhì)用于其他用途。提出的三氯氫硅可進(jìn)入到下一級提純塔再提純,最終可以得到PPB達(dá)10-9的三氯化硅.這種連續(xù)精餾提純塔采用耐腐蝕的碳素鋼制成,高20多米,直徑40—50厘米,每日處理量可達(dá)六萬立升。4三氯氫硅的還原

SolarfunSolarfun我們最終所需的是高純多晶硅,這就需要將三氯氫硅還原成硅,其反應(yīng)如下:該還原爐加熱系統(tǒng)采用導(dǎo)熱油循環(huán)完成,液態(tài)的導(dǎo)熱油可以攜帶大量的熱量循環(huán)釋放到室內(nèi),為室內(nèi)提供穩(wěn)定的熱源。還原爐外部有硅酸鈣保溫層,導(dǎo)熱油和保溫層使?fàn)t內(nèi)的溫度保持在1080—1100℃范圍內(nèi)。H2和被加熱揮發(fā)的SiHCl3(g)注入到爐內(nèi),SiHCl3被還原,還原出的Si(s)在爐內(nèi)的籽晶棒上沉積,得到多晶硅棒的同時三氯化硅還發(fā)生分解反應(yīng),同樣可以分解出Si,但這一反應(yīng)相對產(chǎn)率較小。在還原反應(yīng)過程中只有2%的氫氣被利用,98%的氫氣從廢氣口排出,排出的氫氣竟會被提純后重復(fù)利用。這一反映是在還原爐中進(jìn)行的,如左圖所示。5尾氣回收系統(tǒng)

SolarfunSolarfunSiHCl3,,SiCl4,H2,HCl放入還原爐中,通過閉路循環(huán),對原料而言可以降低成本,對環(huán)境而言可以保護(hù)環(huán)境。對不同的物質(zhì)處理方法不同:SiHCl3可進(jìn)行提純、H2壓縮凈化處理、HCl壓縮脫吸、,SiCl4冷凝提純可做為光纖或其他有機(jī)物質(zhì)的制備。經(jīng)過回收系統(tǒng),90%的原料都能完全利用。若沒有回收系統(tǒng),H2只能利用2%,這樣就造成大量的資源浪費(fèi)。6分析

SolarfunSolarfun主要分析SiHCl3的百分含量(%)以及Fe、Al、P、B等雜質(zhì)的含量(ppb)。二多晶硅錠的生長過程根據(jù)生長方法的不同,多晶硅可分為等軸晶、柱狀晶。通

常在熱過冷及自由凝固的情況下會形成等軸晶,其特點(diǎn)是晶

粒細(xì),機(jī)械物理性能各向同性。

如果在凝固過程中控制液固界面的溫度梯度,形成單方

向熱流,實(shí)行可控的定向凝固,則可形成物理機(jī)械性能各向異

性的多晶柱狀晶,太陽電池多晶硅錠就是采用這種定向凝固

的方法生產(chǎn)的。

在實(shí)際生產(chǎn)中,太陽電池多晶硅錠的定向凝固生長方法

主要有澆鑄法、熱交換法(HEM)、布里曼(Bridgeman)法、

電磁鑄錠法,其中熱交換法與布里曼法通常結(jié)合在一起。SolarfunSolarfun(一)澆鑄法

SolarfunSolarfun澆鑄法將熔煉及凝固分開,

熔煉在一個石英砂爐襯的感應(yīng)爐

中進(jìn)行,熔融的硅液澆入一個石

墨模型中,石墨模型置于一個升

降臺上,周圍用電阻加熱,然后以

1mm/min的速度下降(見左圖)。

其特點(diǎn)是熔化和結(jié)晶在兩個不同

的坩堝中進(jìn)行,從圖中可以看出,

這種生產(chǎn)方法可以實(shí)現(xiàn)半連續(xù)化

生產(chǎn),其熔化、結(jié)晶、冷卻分別位于

不同的地方,可以有效提高生產(chǎn)效

率,降低能源消耗。缺點(diǎn)是因?yàn)槿?/p>

融和結(jié)晶使用不同的坩堝,會導(dǎo)致

二次污染,此外因?yàn)橛雄釄宸D(zhuǎn)機(jī)構(gòu)及引錠機(jī)構(gòu),使得其結(jié)構(gòu)

相對較復(fù)雜。

(二)熱交換法及布里曼法

SolarfunSolarfun熱交換法及布里曼法都是把熔化及凝固置于同一坩堝中(避免了二次污染),其中熱交換法是將硅料在坩堝中熔化后,在坩堝底部通冷卻水或冷氣體,在底部進(jìn)行熱量交換,形成溫度梯度,促使晶體定向生長。左圖為一個使用熱交換法的結(jié)晶爐示意圖。該爐型采用頂?shù)准訜?,在熔化過程中,底部用一個可移動的熱開關(guān)絕熱,結(jié)晶時則將它移開以便將坩堝底部的熱量通過冷卻臺帶走,從而形成溫度梯度。布里曼法則是在硅料熔化后,將坩堝或加熱元件移動使結(jié)晶好的晶體離開加熱區(qū),而液硅仍然處于加熱區(qū),這樣在結(jié)晶過程中液固界面形成比較穩(wěn)定的溫度梯度,有利于晶體的生長。其特點(diǎn)是液相溫度梯度dT/dX接近常數(shù),生長速度受工作臺下移速度及冷卻水流量控制趨近于常數(shù),生長速度可以調(diào)節(jié)。實(shí)際生產(chǎn)所用結(jié)晶爐大都是采用熱交換與布里曼相結(jié)合的技術(shù)。

SolarfunSolarfun左圖為一個熱交換法與布里曼法相結(jié)合的結(jié)晶爐示意圖。圖中,工作臺通冷卻水,上置一個熱開關(guān),坩堝則位于熱開關(guān)上。硅料熔融時,熱開關(guān)關(guān)閉,結(jié)晶時打開,將坩堝底部的熱量通過工作臺內(nèi)的冷卻水帶走,形成溫度梯度。同時坩堝工作臺緩慢下降,使凝固好的硅錠離開加熱區(qū),維持固液界面有一個比較穩(wěn)定的溫度梯度,在這個過程中,要求工作臺下降非常

平穩(wěn),以保證獲得平面前沿定向凝固。熱交換法與布里曼法結(jié)合示意圖(坩堝移動)

SolarfunSolarfun左圖為另一類型的熱交換法與布里曼法結(jié)合的爐子,這種類型的結(jié)晶爐加熱時保溫框和底部的隔熱板緊密結(jié)合,保證熱量不外泄。開始結(jié)晶時,坩堝不動,將石墨加熱元件及保溫框往上慢慢移動。坩堝底部的熱量通過保溫框和隔熱板間的空隙散發(fā)出去,形成溫度梯度。HEM+Bridgeman法示意圖(熱源及保溫框移動)

(三)電磁鑄錠法SolarfunSolarfun這種方法的特點(diǎn)是不使用坩堝,硅料通過加料裝置進(jìn)入加熱區(qū),通過感應(yīng)加熱使硅料熔融,當(dāng)硅液向下移離開加熱區(qū)后,結(jié)晶生長,如此通過不斷加料,不斷將結(jié)晶好的硅錠往下移,就可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)生長,錠子高度可達(dá)1~2m。但用這種方法生產(chǎn)的硅錠晶粒尺寸小,橫截面小,因此容量也不大,如左圖所示。

電池鑄造法示意圖

三單晶硅的生產(chǎn)過程

單晶硅是以高純多晶硅為原料,采用提拉(CZ)、區(qū)熔(FZ)等生長方法實(shí)現(xiàn)的,這一過程是物理方法,下面分別介紹提拉和區(qū)熔兩種晶體生長方法。

SolarfunSolarfun(一)提拉法

提拉法的原理:材料在一個坩堝中,被加熱到它的熔點(diǎn)以上。坩堝上方有一根可以旋轉(zhuǎn)和升降的提拉桿,桿的下端有一個夾頭,其上裝有一根籽晶。降低提拉桿,使籽晶插入熔體之中,只要熔體的溫度適中,籽晶既不熔掉,也不長大,然后緩慢向上提拉和轉(zhuǎn)動籽晶桿,同時緩慢降低加熱功率,就能得到所需直徑的晶體。

SolarfunSolarfun

SolarfunSolarfun提拉爐的結(jié)構(gòu)如圖四所示提拉爐由基座、主室、副室、旋轉(zhuǎn)提拉頭等幾部分組成?;兄饕芹釄逍D(zhuǎn)裝置和坩堝加熱裝置以及抽真空裝置。主室中裝有石英坩堝,由外層的石墨坩堝托碗托住。硅的熔點(diǎn)在1420℃左右,在此溫度下石英坩堝會變軟,將無法承受坩堝內(nèi)熔融的硅,所以在其外部放置石墨坩堝托碗,以承受熔融的硅。石墨坩堝托碗的外部裝有石墨加熱圓管提拉爐主室的側(cè)壁還裝有保溫石墨纖維氈,厚度在60—100cm,加熱系統(tǒng)和保溫系統(tǒng)為單晶硅的生長提供良好的溫場分布。主室以上是副室,其高度180cm左右,直徑十幾英寸,由主室提拉的硅單晶錠到副室,生長完成后,可將副室從主室上方移開,以便取出單晶(見圖片)。提拉爐上部的提拉頭和下部的坩堝均有旋轉(zhuǎn)設(shè)備,使晶體相對于液面旋轉(zhuǎn),以減小熱流的影響。提拉爐內(nèi)通入氬氣用于保護(hù),同時用真空泵進(jìn)行抽真空,使室內(nèi)保持低壓氛圍(30~70托)。

SolarfunSolarfun如上所述的提拉系統(tǒng)稱為開口系統(tǒng),現(xiàn)有一種熱場——熱屏(導(dǎo)流筒),如下圖所示在原有的開口系統(tǒng)中增加熱屏,如圖中所示,熱屏的優(yōu)點(diǎn)有以下幾點(diǎn):

●相對于開口系統(tǒng),熱屏系統(tǒng)節(jié)省了很大的電力,如表中所示:熱屏的安裝改善了爐內(nèi)的保溫效果和溫場,更加有利于硅單晶的生長。

●安裝熱屏后使提拉爐內(nèi)的熱流得到了很大的改善,氬氣流在熱屏引導(dǎo)下流經(jīng)液態(tài)硅表面,不僅帶走了揮發(fā)出的硅,還使?fàn)t內(nèi)的熱場趨于穩(wěn)定。

●由于溫場和熱流的改善,使單晶的質(zhì)量得到了很大的提高,其中的漩渦缺陷減小了很多

SolarfunSolarfun單晶頭部

單晶尾部12英寸單晶無熱屏54KW68KW

有熱屏44KW48KW18英寸單晶

無熱屏88KW105KW

有熱屏56KW60KW

提拉法生長單晶硅的工藝流程SolarfunSolarfun備料:將多晶硅棒破碎為直徑小于100mm的碎塊,便于融化。腐蝕、清洗、烘干:用HF:H2NO3=1:3的溶液腐蝕表面,再用高純水清洗烘干待用。摻雜,送料:N型摻雜:摻PP型摻雜:摻B可根據(jù)客戶需要進(jìn)行不同種類和不同程度的摻雜抽真空、驗(yàn)漏:將提拉爐抽真空,然后關(guān)上閥門,檢驗(yàn)是否漏氣(每五分鐘泄漏小于0.5帕)。通氣:向爐內(nèi)通入保護(hù)氬氣。加熱化料:加熱坩堝使坩堝內(nèi)的多晶料熔化,這一過程大約需要4—5小時。引晶:將籽晶下降到液面引出一條直徑4—5厘米,長120—200mm左右的細(xì)晶柱。這一過程中所選用籽晶有兩種,方形籽晶尺寸為9Χ9Χ120mm,圓形籽晶尺寸為10Χ120mm。引晶這一過程可以消除晶體中的位錯,見下圖

提拉法生長單晶硅的工藝流程SolarfunSolarfun放肩:控制晶體的生長,使其直徑達(dá)到所需尺寸。轉(zhuǎn)肩:按一定的速度轉(zhuǎn)動晶柱,使晶柱均勻生長。等徑生長:所有準(zhǔn)備工作就緒,單晶硅進(jìn)入均勻生長階段。一般等徑生長時轉(zhuǎn)速控制在8-15轉(zhuǎn)/分鐘,在磁場作用下,轉(zhuǎn)速可以減小到2轉(zhuǎn)/分鐘。收尾:尾部形成一45度的斜角,以減小應(yīng)力的沖擊。與晶錠連接引出的細(xì)晶柱

提拉法生長單晶硅的工藝流程SolarfunSolarfun提拉完畢后單晶的尾部提拉出的完整單晶錠

(二)區(qū)熔法生長單晶流程SolarfunSolarfun區(qū)熔法原理:

固體材料中只有一段區(qū)域處于熔態(tài),材料體系由晶體、熔體和多晶原料三部分所組成。體系中存在著兩個固--液界面,一個界面上發(fā)生結(jié)晶過程,而另一個界面上發(fā)生多晶原料方向的熔化過程,熔區(qū)向多晶原料方向移動。盡管熔區(qū)的體積不變,實(shí)際上是不斷的向熔區(qū)中添加材料。生長過程將以晶體的長大和多晶原料的耗盡而告終。如下圖所示,高頻感應(yīng)線圈上部是多晶硅原料,經(jīng)高頻線圈加熱熔化,流向下方,凝結(jié)成單晶硅。線圈下部是單晶硅生長的空間,與直拉法相似,區(qū)熔法中也要經(jīng)過引晶,收肩,放肩等一系列流程。隨高頻感應(yīng)線圈的不斷向上移動,單晶硅棒也不斷長大。區(qū)熔法示意圖如下:

SolarfunSolarfun新型區(qū)熔爐區(qū)熔示意圖

直拉法與區(qū)熔法相比較,各自的優(yōu)缺點(diǎn)如下表:沾污

直徑

缺陷

溫梯

成本

用途區(qū)熔法FZ無(高純)受限,一般5英寸

多?

高電力器件太陽能電池提拉法CZ

有不受限,直徑可做很大

集成電路(IC)太陽能電池如表中所述,由于提拉法要用到坩堝,坩堝中含有SiO2,B,O等雜質(zhì),高溫下這些雜質(zhì)會與硅發(fā)生反應(yīng),影響單晶硅純度。而區(qū)熔法沒有坩堝,原料不與器皿接觸,所以純度很高。由于高頻感應(yīng)線圈尺寸的限制,用區(qū)熔法生長硅單晶的最大尺寸為8英寸,一般穩(wěn)定情況下生長為5英寸。區(qū)熔法中原料只有部分熔化,由液態(tài)到單晶形成過程很快,其溫梯較大,生成硅單晶中缺陷較多。而直拉法在提拉爐中進(jìn)行,原料全部熔化,不再后續(xù)加入,提拉爐具有很好的保溫效果,再加上新型熱頻的應(yīng)用,使晶體生長的溫度梯度合理,所生長出的單晶缺陷較少。由于提拉單晶和區(qū)熔單晶性質(zhì)的差異,提拉法生長的單晶多用來制造IC電路,而區(qū)熔法制備的單晶多用作其他電力用途。SolarfunSolarfun

單晶和多晶硅錠的生長方法比較:總體來說,單晶和多晶硅錠的生長方法各有所長,單晶的轉(zhuǎn)換效率高,但產(chǎn)能低、能耗大;多晶的轉(zhuǎn)換效率相對較低,但能耗低、產(chǎn)能大,適合于規(guī)模化生產(chǎn)。單晶的FZ及CZ方法與多晶定向凝固生長方法的比較如表1所示。SolarfunSolarfun序號單晶多晶1原材料純度要求高可用單晶硅頭尾料,單晶硅等外品2每公斤硅錠能耗高能耗低3生產(chǎn)率低生產(chǎn)率高4提純效果穩(wěn)定,高提純效果視熱場而定,各種爐型提純效果不同,有的甚至很低5轉(zhuǎn)換效率高比單晶硅低約1.5%-2%6圓形需切割成準(zhǔn)方形方形7錠子高度和現(xiàn)行線切割機(jī)線網(wǎng)寬度配合程度好和現(xiàn)行切割機(jī)線網(wǎng)寬度不配合,未充分發(fā)揮線切割機(jī)功效

四硅片加工SolarfunSolarfun

硅片加工使用設(shè)備、儀器、裝置將單晶硅錠切割打磨等工序制作成用于器件生產(chǎn)的硅片。工藝流程如下所示:滾磨:用滾磨機(jī)將多晶硅錠外沿整形,使其成為等徑圓柱狀,以便于以后晶片的加工,并添加定位面,以便給晶片定向。定向:因單晶具有各向異性、解理性。沿不同方向,晶體的物理化學(xué)性質(zhì)不同,要在某方向上得到所需的物理化學(xué)性質(zhì),就必須對晶體進(jìn)行定向。一般的定向方法有光譜法和XRD法兩種,前者比較直觀,其原理是用激光照射晶面,得到反射圖像,根據(jù)反射圖像的形狀和位置的不同,確定晶面方向

硅片加工SolarfunSolarfun圖中分別為硅單晶<111><100><110>三個晶面族的激光反射圖像,根據(jù)圖像偏離照射中心的位置的不同,可用測角儀測量出晶向。XRD法雖不直觀,但是其準(zhǔn)確行較高,用布拉格方程:2dSinθ=nλ可精確測定晶面方向。定向后,將會為晶片添加主定位面和次定位面,不同類型晶片劃片方位不同,如下圖所示:第一片為P型硅片<111>面,只有主定位面,沒有次定位面;第二片為P型<100>面,主定位面和次定位面成45度角;第三片N型<111>面,主定位面和次定位面成45度角;第四片為N型<100>面,主定位面和次定位面成180度角。

硅片加工SolarfunSolarfun切割:硅單晶晶片的切割采用內(nèi)圓切割刀片進(jìn)行機(jī)械切割。切割前按晶面定向方向?qū)尉уV粘結(jié)在石墨條上,在將其固定在夾具上進(jìn)行切割。切割后進(jìn)行清洗,進(jìn)入下一道工序,進(jìn)行倒角。經(jīng)過倒角,可以減小晶片上的應(yīng)力分布,使鏡片不易損壞。倒角工序?qū)崿F(xiàn)了自動化處理,倒角后,順便對晶片的各種參數(shù)進(jìn)行檢測,并根據(jù)監(jiān)測參數(shù)對晶片進(jìn)行分類。通常檢測的參數(shù)有:TTV(兩面厚度之差)、BOW(彎曲度)、Warp(翹曲度)等。

切割晶片

倒角

硅片加工SolarfunSolarfun研磨:研磨工序是對晶片表面進(jìn)行粗糙處理,使其表面盡可能平整。研磨機(jī)示意圖如下:

如圖中所示,研磨機(jī)由旋轉(zhuǎn)的下磨盤和與之聯(lián)動旋轉(zhuǎn)的載體組成。載體中的凹槽內(nèi)放置晶片,由上磨盤的管道向晶片表面注入研磨液。經(jīng)過研磨后的晶片的平整度得到了很大的改善,將更有利于拋光工序的處理。研磨后鏡片還需經(jīng)過熱處理,在氮?dú)夥罩屑訜岬?50℃左右,持續(xù)三十分鐘,經(jīng)過熱處理后可以消除提拉法生產(chǎn)的晶片中的施主氧效應(yīng),避免其中氧離子對電阻的影響,得到真實(shí)電阻率。

硅片加工SolarfunSolarfun拋光:通過拋光可以使晶片表面光滑平整,達(dá)到器件所需的工業(yè)要求。拋光分為化學(xué)減薄和機(jī)械拋光兩部分。化學(xué)減薄是用酸進(jìn)行腐蝕,也可以用堿進(jìn)行腐蝕。通過化學(xué)減薄后,可以控制晶片厚度,減小研磨工序中引入的損傷。還有,大部分晶片只是進(jìn)行單面拋光,通過化學(xué)減薄后,使晶片背面擁有較好的物理形狀?;瘜W(xué)減薄后經(jīng)進(jìn)行機(jī)械拋光,機(jī)械拋光的裝置與研磨機(jī)大體相同,見下圖:

硅片加工SolarfunSolarfun與研磨機(jī)不同的是在下磨盤上沾有拋光布。機(jī)械拋光分為有蠟和無蠟兩種,有蠟拋光是將晶片用石蠟粘貼在棧板上再進(jìn)行拋光,無蠟拋光則不需要粘貼。拋光完畢后的晶片經(jīng)過清洗和檢測流水線的監(jiān)測和分類后,就可以包裝出廠了。檢測工序包括對晶片有無沾污,色斑,氧化,蝕坑,劃刻,平整度等參數(shù)進(jìn)行檢測,對檢測不合格的晶片需進(jìn)行返工等加工處理合格后方能出廠。

拋光機(jī)

粘片

將粘好的晶片裝在拋光機(jī)上

包裝五小結(jié)

綜上所述,硅多晶,單晶的生產(chǎn)工藝比較復(fù)雜,每一道工序都必須精密完成,否則都會導(dǎo)致產(chǎn)品的不合格,在每道工序中實(shí)時地實(shí)施應(yīng)有的監(jiān)測工序是非常必要的。SolarfunSolarfunCompanyLogoDiagramGuildDesign

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