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流行飾品材料及工藝教育部職業(yè)教育寶玉石鑒定與加工專業(yè)教學(xué)資源庫GemsandJadeIdentificationandProcessingTeachingResourceLibrary物理氣相沉積工藝的分類建設(shè)者姓名：尚穎麗物理氣相沉積工藝物理氣相沉積工藝的分類-磁控濺射鍍磁控濺射鍍在一定的真空條件下，用幾十電子伏特或者更高動能的荷能粒子轟擊材料

的表面，使被轟擊材料的原子獲得足夠的能量，脫離原材料點(diǎn)陣的束縛，進(jìn)入氣相，這種技術(shù)就是濺射技術(shù)。利用濺射出的氣相元素，進(jìn)行沉積成膜，這種沉積過程被稱為濺射鍍膜。在沉積硬質(zhì)涂層時，則工件需要接負(fù)偏壓電源，稱磁控濺射離子鍍或偏壓濺射。濺射鍍膜是目前

PVD

技術(shù)中應(yīng)用最廣泛的一種鍍膜技術(shù),具有以下優(yōu)點(diǎn):

(1)濺射鍍膜膜層質(zhì)量較好，與基體的結(jié)合力非常強(qiáng)。

(2)濺射鍍膜的應(yīng)用范圍廣泛，適用于各種材料，高熔點(diǎn)材料也易進(jìn)行濺射。

(3)濺射鍍膜薄膜的厚度分布比較均勻。

(4)濺射鍍膜工藝重復(fù)性好，易實現(xiàn)工藝控制自動化，可大規(guī)模連續(xù)生產(chǎn)。謝謝觀看！

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