物理氣相沉積工藝的分類磁控濺射鍍_第1頁(yè)
物理氣相沉積工藝的分類磁控濺射鍍_第2頁(yè)
物理氣相沉積工藝的分類磁控濺射鍍_第3頁(yè)
物理氣相沉積工藝的分類磁控濺射鍍_第4頁(yè)
物理氣相沉積工藝的分類磁控濺射鍍_第5頁(yè)
已閱讀5頁(yè)，還剩3頁(yè)未讀， 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內(nèi)容提供方，若內(nèi)容存在侵權(quán)，請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

流行飾品材料及工藝教育部職業(yè)教育寶玉石鑒定與加工專業(yè)教學(xué)資源庫(kù)GemsandJadeIdentificationandProcessingTeachingResourceLibrary物理氣相沉積工藝的分類建設(shè)者姓名：尚穎麗物理氣相沉積工藝物理氣相沉積工藝的分類-磁控濺射鍍磁控濺射鍍?cè)谝欢ǖ恼婵諚l件下，用幾十電子伏特或者更高動(dòng)能的荷能粒子轟擊材料

的表面，使被轟擊材料的原子獲得足夠的能量，脫離原材料點(diǎn)陣的束縛，進(jìn)入氣相，這種技術(shù)就是濺射技術(shù)。利用濺射出的氣相元素，進(jìn)行沉積成膜，這種沉積過程被稱為濺射鍍膜。在沉積硬質(zhì)涂層時(shí)，則工件需要接負(fù)偏壓電源，稱磁控濺射離子鍍或偏壓濺射。濺射鍍膜是目前

PVD

技術(shù)中應(yīng)用最廣泛的一種鍍膜技術(shù),具有以下優(yōu)點(diǎn):

(1)濺射鍍膜膜層質(zhì)量較好，與基體的結(jié)合力非常強(qiáng)。

(2)濺射鍍膜的應(yīng)用范圍廣泛，適用于各種材料，高熔點(diǎn)材料也易進(jìn)行濺射。

(3)濺射鍍膜薄膜的厚度分布比較均勻。

(4)濺射鍍膜工藝重復(fù)性好，易實(shí)現(xiàn)工藝控制自動(dòng)化，可大規(guī)模連續(xù)生產(chǎn)。謝謝觀看！

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽，若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫(kù)網(wǎng)僅提供信息存儲(chǔ)空間，僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理，對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯，并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容，請(qǐng)與我們聯(lián)系，我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論