物理氣相沉積工藝的分類真空蒸發(fā)鍍_第1頁
物理氣相沉積工藝的分類真空蒸發(fā)鍍_第2頁
物理氣相沉積工藝的分類真空蒸發(fā)鍍_第3頁
物理氣相沉積工藝的分類真空蒸發(fā)鍍_第4頁
物理氣相沉積工藝的分類真空蒸發(fā)鍍_第5頁
已閱讀5頁，還剩6頁未讀， 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內(nèi)容提供方，若內(nèi)容存在侵權(quán)，請進行舉報或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

流行飾品材料及工藝教育部職業(yè)教育寶玉石鑒定與加工專業(yè)教學(xué)資源庫GemsandJadeIdentificationandProcessingTeachingResourceLibrary物理氣相沉積工藝的分類建設(shè)者姓名：尚穎麗物理氣相沉積工藝物理氣相沉積工藝的分類-真空蒸發(fā)鍍物理氣相沉積工藝分為真空蒸發(fā)鍍、離子鍍、磁控濺射鍍等幾種，后兩種屬

于等離子體氣相沉積范圍。膜層的沉積是在低氣壓等離子體氣體放電條件下進

行的，膜層粒子在電場中獲得了較高的能量，使膜層的組織、結(jié)構(gòu)和附著力都比真空蒸發(fā)鍍有很大的改進。伴隨高科技的發(fā)展，各種離子鍍、磁控濺射鍍新技術(shù)逐漸成熟，在各個領(lǐng)域不斷得到推廣應(yīng)用。

真空蒸發(fā)鍍真空蒸發(fā)鍍膜（簡稱蒸鍍），是指在真空條件下，通過高溫加熱使膜材氣化蒸發(fā)，并沉積在基體表面形成固態(tài)薄膜。蒸鍍技術(shù)是真空鍍膜技術(shù)中發(fā)展比較早的一門技術(shù)，與濺射和離子鍍相比，蒸鍍方法比較簡單，但是在適當(dāng)?shù)墓に嚄l件下，它能夠制備非常純凈的、具有特定結(jié)構(gòu)和性能的薄膜涂層。所以蒸鍍技術(shù)在光學(xué)、半導(dǎo)體器件、塑料金屬化等領(lǐng)域至今仍發(fā)揮著重要作用。真空蒸發(fā)鍍具有如下技術(shù)特點：

(1)真空蒸發(fā)鍍過程包括鍍材物質(zhì)蒸發(fā)、蒸汽原子傳輸和蒸汽原子在基片表

面形核、成長的成膜過程組成，即包括蒸發(fā)、輸運與沉積過程。

(2)真空蒸發(fā)鍍膜的沉積真空度高，一般為10-3~

10-5

Pa。膜層粒子幾乎

不與氣體分子、其他金屬蒸汽原子發(fā)生碰撞，徑直達到工件。(3)膜層粒子到達工件的能量是蒸發(fā)時所攜帶的熱能。真空蒸發(fā)鍍膜由于

工件不加偏壓，金屬原子只是靠蒸發(fā)時的氣化熱，大約為0.1~0.

2eV。因此膜層粒子的能量低，膜層和基體結(jié)合力小，很難形成化合物涂層。

(4)真空蒸發(fā)鍍膜層是在高真空下形成的，蒸汽中的膜層粒子基本上是原子態(tài)，在工件表面形成細小的核心，生長成細密的組織。(5)真空蒸發(fā)鍍膜膜層在高真空度下獲得，一般只在工件面向

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽，若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫網(wǎng)僅提供信息存儲空間，僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理，對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯，并不能對任何下載內(nèi)容負責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容，請與我們聯(lián)系，我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論