標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 36969-2018 納米技術(shù) 原子力顯微術(shù)測(cè)定納米薄膜厚度的方法》是一項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),旨在規(guī)范使用原子力顯微鏡(AFM)測(cè)量納米級(jí)薄膜厚度的過(guò)程。該標(biāo)準(zhǔn)適用于各類納米薄膜材料,包括但不限于金屬、半導(dǎo)體、聚合物及復(fù)合材料等。

標(biāo)準(zhǔn)首先定義了相關(guān)術(shù)語(yǔ)和定義,如納米薄膜、原子力顯微鏡及其工作模式等,為后續(xù)內(nèi)容的理解奠定基礎(chǔ)。接著,詳細(xì)描述了實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)備階段所需注意的事項(xiàng),比如樣品制備要求、環(huán)境條件控制等,確保測(cè)試結(jié)果的有效性和可重復(fù)性。

在測(cè)量方法部分,《GB/T 36969-2018》介紹了利用接觸模式或輕敲模式下的原子力顯微鏡進(jìn)行表面形貌掃描的具體步驟,并強(qiáng)調(diào)了選擇合適探針的重要性以及如何正確設(shè)置儀器參數(shù)以獲得準(zhǔn)確數(shù)據(jù)。此外,還討論了不同類型的納米薄膜可能遇到的問(wèn)題及其解決策略。

對(duì)于數(shù)據(jù)分析與處理環(huán)節(jié),本標(biāo)準(zhǔn)提出了基于高度信息直接讀取法、截面分析法等多種計(jì)算納米薄膜厚度的方式,并給出了具體的操作指導(dǎo)。同時(shí),也對(duì)如何評(píng)估測(cè)量誤差、提高精度提出了建議。


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....

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  • 2018-12-28 頒布
  • 2018-12-28 實(shí)施
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文檔簡(jiǎn)介

ICS1704020

J04..

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T36969—2018

納米技術(shù)原子力顯微術(shù)測(cè)定

納米薄膜厚度的方法

Nanotechnology—Methodforthemeasurementofthenanofilm-thicknessby

atomicforcemicroscopy

2018-12-28發(fā)布2018-12-28實(shí)施

國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T36969—2018

目次

前言

…………………………Ⅰ

范圍

1………………………1

規(guī)范性引用文件

2…………………………1

術(shù)語(yǔ)和定義

3………………1

原理

4………………………1

測(cè)試條件

5…………………2

環(huán)境條件

5.1……………2

操作條件

5.2……………2

設(shè)備

6………………………2

原子力顯微鏡

6.1………………………2

探針的選擇

6.2…………………………2

儀器的校準(zhǔn)

6.3…………………………2

樣品

7………………………2

樣品的制備

7.1…………………………2

樣品的清洗

7.2…………………………2

測(cè)試步驟

8…………………2

采集圖像數(shù)據(jù)前的準(zhǔn)備

8.1……………2

圖像數(shù)據(jù)的采集

8.2……………………2

數(shù)據(jù)處理與計(jì)算

9…………………………3

重復(fù)性和再現(xiàn)性

10…………………………4

測(cè)試報(bào)告

11…………………4

附錄資料性附錄薄膜臺(tái)階的制備

A()…………………5

參考文獻(xiàn)

………………………6

GB/T36969—2018

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)科學(xué)院提出

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)納米技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口

(SAC/TC279)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位上海交通大學(xué)納米技術(shù)及應(yīng)用國(guó)家工程研究中心

:、。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人李慧琴金承鈺梁齊何丹農(nóng)韋菲菲

:、、、、。

GB/T36969—2018

納米技術(shù)原子力顯微術(shù)測(cè)定

納米薄膜厚度的方法

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用原子力顯微術(shù)測(cè)量納米薄膜厚度的原理測(cè)試條件設(shè)備樣品測(cè)試步

(AFM)、、、、

驟和數(shù)據(jù)處理

。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于表面均勻平整的納米范圍厚度的無(wú)機(jī)材料薄膜較厚的和一些有機(jī)薄膜的膜厚測(cè)

、。

定也可參照?qǐng)?zhí)行

2規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

原子力顯微鏡測(cè)量濺射薄膜表面粗糙度的方法

GB/T31227

測(cè)量不確定度評(píng)定與表示

JJF1059.1—2012

3術(shù)語(yǔ)和定義

下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件

。

31

.

原子力顯微術(shù)atomicforcemicroscopy

通過(guò)檢測(cè)探針和樣品表面的相互作用力吸引力或排斥力來(lái)控制探針和樣品間的距離從而獲得表

()

面形貌的掃描探針顯微鏡技術(shù)

。

定義

[GB/T27760—2011,3.1]

32

.

掃描長(zhǎng)度scanlength

從開始到結(jié)束一次掃描的距離

33

.

全幅掃描raster

探針?lè)较蛏现鸩揭苿?dòng)時(shí)在x方向上反復(fù)掃描也指這樣的運(yùn)動(dòng)所掃描的區(qū)域

y,。

定義

[GB/T31226—2014,3.1.14]

4原理

首先利用原子力顯微鏡測(cè)試得到包含納米薄膜臺(tái)階在內(nèi)的微觀形貌原子力顯微鏡是使

(AFM)

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