標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 2831-1981 光學(xué)零件的面形偏差 檢驗(yàn)方法(光圈識別)》是一項(xiàng)國家標(biāo)準(zhǔn),該標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用光圈法檢測光學(xué)零件表面形狀偏差的具體步驟和技術(shù)要求。標(biāo)準(zhǔn)中定義了術(shù)語“光圈”,指的是在特定條件下通過觀察或測量干涉條紋來評估光學(xué)元件表面質(zhì)量的一種方法。它適用于平面、球面以及非球面等不同類型的光學(xué)表面。
根據(jù)這一標(biāo)準(zhǔn),檢驗(yàn)過程主要包括以下幾個(gè)方面:
- 準(zhǔn)備工作:選擇合適的光源和參考面,并確保測試環(huán)境滿足要求。
- 安裝與調(diào)整:將待測光學(xué)零件固定于適當(dāng)位置,并調(diào)整至最佳狀態(tài)以便進(jìn)行準(zhǔn)確測量。
- 光圈識別:利用干涉現(xiàn)象形成光圈圖案,通過肉眼觀察或者借助儀器記錄下這些圖案。
- 數(shù)據(jù)記錄與處理:對獲得的數(shù)據(jù)進(jìn)行記錄,并按照規(guī)定的方法進(jìn)行分析計(jì)算,以確定被測表面的實(shí)際偏差值是否符合預(yù)設(shè)的技術(shù)指標(biāo)。
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- 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替,建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 2831-2009
- 1981-12-25 頒布
- 1982-10-01 實(shí)施


文檔簡介
UDC681.4.084:621.753.1中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)GB2831-81光學(xué)零件的面形偏差檢驗(yàn)方法光圈識別)Surfaceformdeyationofopticalelements-Inspectionmethods1981-12-25發(fā)布1982-10-01實(shí)施家標(biāo)準(zhǔn)·總局國批準(zhǔn)
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)UDC:681.4.084光學(xué)零件的面形偏差檢驗(yàn)方法:621.753.1GB2831一81(光圈識別Surfaceformdeviationofopticalelements-Inspectionmethods本標(biāo)準(zhǔn)適用于以等厚光波干涉原理檢驗(yàn)球面(包括平面)光學(xué)零部件的面形偏差。名詞術(shù)語、符號、代號1.1面形偏差被被檢光學(xué)表面相對于參考光學(xué)表面的偏差稱面形偏差面形偏差是在圓形檢驗(yàn)范圍內(nèi),通過垂直位置所觀察到的干涉條紋(通稱光圈)的數(shù)目、形狀、變化和顏色來確定的。面形偏差包括下列三項(xiàng):被被檢光學(xué)表面的曲率半徑相對于參考光學(xué)表面曲率半徑的偏差稱半徑偏差。此偏差所對應(yīng)的光圈數(shù)用M表示。。被檢光學(xué)表面與參考光學(xué)表面在二個(gè)相互垂直方向上產(chǎn)生的光圈數(shù)不等所對應(yīng)的偏差稱象散偏差,此偏差所對應(yīng)的光圈數(shù)用I表示。。被檢光學(xué)表面與參考光學(xué)表面在任一方向上產(chǎn)生的干涉條紋的局部不規(guī)則程度稱局部偏差,此偏差所對應(yīng)的光圈數(shù)用八表示。1.2光圈正負(fù)號規(guī)定:高光圈(凸)為正(相應(yīng)于中間接觸);低光圈(凹)為負(fù)(相應(yīng)于邊緣接觸)。:高低光圈的識別22.1一般情況下高低光圈的識別低光圈:當(dāng)空氣隙縮小時(shí),條紋從邊緣向中心移動(dòng)如圖1“。高光圈::當(dāng)空氣隙縮小時(shí),條紋從中心向邊緣移
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