GB/T 26332.1-2010光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜第1部分：定義

ICS17.180N30中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T26332.1-2010/ISO9211-1：1994光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜第1部分:定義Opticsandopticalinstruments--Opticalcoatings-Part1:Definitions（ISO9211-1:1994.IDT)2011-01-14發(fā)布2011-06-01實(shí)施中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化餐理委員會(huì)

GB/T26332.1-2010/IS09211-1：1994次前言：：····范圍……規(guī)范性引用文件3術(shù)語(yǔ)和定義·按功能定義薄膜75常見的薄膜缺陷定義6其他定義…………·附錄A（資料性附錄）常見薄膜缺陷類型圖解

GB/T26332.1-2010/ISO9211-1:1994GB/T26332《光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜》分為4個(gè)部分：第1部分：定義第2部分：光學(xué)特性第3部分：環(huán)境適應(yīng)性第4部分：規(guī)定的試驗(yàn)方法本部分為GB/T26332的第1部分。本部分等同采用ISO9211-1:1994《光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜第1部分：定義》英文版)本部分采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的方法為翻譯法。本部分的附錄A為資料性附錄。本部分由中國(guó)機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)提出并歸口本部分起草單位：沈陽(yáng)儀表科學(xué)研究院、沈陽(yáng)匯博光學(xué)技術(shù)有限公司、浙江大學(xué)、杭州科汀光學(xué)技術(shù)有限公司、國(guó)家儀器儀表元器件質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心、杭州照相機(jī)械研究所。本部分主要起草人：陰曉俊、費(fèi)書國(guó)、高鵬、王瑞生、趙帥鋒、章岳光、顧培夫、馬敬、金秀、楊文華、徐秋玲、杜健、虞仲曉

GB/T26332.1-2010/ISO9211-1:1994光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜第1部分：定義1范圍（B/T26332的本部分?jǐn)⑹隽顺劭乒鈱W(xué)（眼鏡)之外的所有鍍膜的光學(xué)元器件及基片的鍍膜表面,并制定了相關(guān)參數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)表述.定義了表面特性參數(shù)及其檢驗(yàn)、檢測(cè)方法.而不說明其加工方法。本部分定義了與光學(xué)薄膜相關(guān)的術(shù)語(yǔ)。這些術(shù)語(yǔ)分為4類：基本定義、按功能定義薄膜、常見的薄膜缺陷定義和其他定義2規(guī)范性引用文件下列文件中的條款通過GB/T26332的本部分的引用而成為本部分的條款。凡是注日期的引用文件·其隨后所有的修改單(不包括勒誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本部分.然而·鼓勵(lì)根據(jù)本部分達(dá)成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本適用于本部分。GB/T1185-2006光學(xué)零件表面疵病(ISO10110-7:1996.NEQ)GB3102.6—1993光及有關(guān)電磁輻射的量和單位GB/T8322—2008分子吸收光譜法術(shù)語(yǔ)(ISO6286：1982.NEQ）ISO9211-4:2006光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜第4部分：規(guī)定的試驗(yàn)方法ISO10110-8:1997光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)元件和系統(tǒng)制圖準(zhǔn)備第8部分：表面結(jié)構(gòu)IEC50（845）:1987國(guó)際電工詞匯845章：照明CIEPublication38:1977材料的輻射測(cè)量和光度特性及相應(yīng)測(cè)量方法術(shù)語(yǔ)和定義下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本部分3.1鍍膜表面surfacetreatment3.1.1元件和基片的鍍膜表面surfacetreatmentofcomponentsandsubstrates在光學(xué)元件表面“鍍膜”.能夠改變光學(xué)元件的光學(xué)、物理或化學(xué)特性。作為所鍍薄膜載體的光學(xué)元件稱為“基片”。理想的基片是幾何完美和光學(xué)均質(zhì)的，應(yīng)將基片及其表面作為一個(gè)整體進(jìn)行檢驗(yàn)測(cè)量光在鍍膜表面的透射與反射方向是由光學(xué)薄膜、人射介質(zhì)及出射介質(zhì)共同決定的。3.1.2入射介質(zhì)incidentmedium光射入薄膜前經(jīng)過的介質(zhì)