標(biāo)準解讀

GB/T 19921-2005是一項由中國國家標(biāo)準化管理委員會頒布的標(biāo)準，其全稱為《硅拋光片表面顆粒測試方法》。這項標(biāo)準規(guī)定了對硅拋光片表面顆粒進行檢測和評估的具體方法，旨在確保半導(dǎo)體材料的質(zhì)量控制與生產(chǎn)過程的一致性。以下是該標(biāo)準的主要內(nèi)容概述：

  1. 適用范圍：本標(biāo)準適用于單晶硅拋光片表面顆粒的檢測，主要應(yīng)用于集成電路、太陽能電池等領(lǐng)域的硅片質(zhì)量控制。它不適用于其他類型材料的顆粒測試或硅片的其他性質(zhì)測試。

  2. 術(shù)語定義：標(biāo)準首先明確了“表面顆?！?、“檢測區(qū)域”、“顆粒尺寸”等相關(guān)術(shù)語的定義，為后續(xù)測試提供了統(tǒng)一的語言基礎(chǔ)。

  3. 測試前準備：規(guī)定了測試環(huán)境的要求，如清潔度、溫濕度控制；測試儀器的選擇與校準，包括光學(xué)顯微鏡、掃描電子顯微鏡等；以及樣品的處理方法，確保測試前硅片表面無污染。

  4. 測試方法：

    • 視覺檢查：在特定光照條件下，通過目視或使用放大設(shè)備直接觀察硅片表面。
    • 自動顆粒計數(shù)：利用自動化檢測設(shè)備，如自動光學(xué)檢測系統(tǒng)(AOI)，對硅片表面進行掃描并自動識別顆粒。
    • 尺寸測量：對識別出的顆粒，采用適宜的測量工具準確測定其尺寸，通常包括最大長度、寬度等。

  5. 測試區(qū)域的確定：標(biāo)準指定了測試區(qū)域的選擇原則，可以是全片掃描或選取代表性區(qū)域進行檢測，依據(jù)實際需求和成本效益考慮。

  6. 數(shù)據(jù)處理與報告：要求記錄測試過程中發(fā)現(xiàn)的所有顆粒信息，包括位置、大小、形態(tài)等，并提供統(tǒng)計分析方法，以便于評估硅片表面顆粒污染程度。

  7. 質(zhì)量判定準則：根據(jù)顆粒的數(shù)量、大小分布等指標(biāo)，設(shè)定不同等級的質(zhì)量標(biāo)準，用于判斷硅片是否符合使用要求或客戶規(guī)格。

  8. 不確定度評估：討論了測試過程中可能引入的誤差來源及如何評估測試結(jié)果的不確定性，以提高測試結(jié)果的可靠性和可比性。


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  • 被代替
  • 已被新標(biāo)準代替，建議下載現(xiàn)行標(biāo)準GB/T 19921-2018
  • 2005-09-19 頒布
  • 2006-04-01 實施
?正版授權(quán)
GB/T 19921-2005硅拋光片表面顆粒測試方法_第1頁
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文檔簡介

ICS77.040.01H17中華人民共和國國家標(biāo)準GB/T？19921—2005硅拋光片表面顆粒測試方法Testmethodofparticlesonsiliconwafersurfaces2005-09-19發(fā)布2006-04-01實施中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布中國國家標(biāo)準化管理委員會

GB/T19921-2005前本標(biāo)準是參照SEMIM25—95《用于硅片檢驗系統(tǒng)的相對于乳膠球直徑的光點缺陷的校準片規(guī)程》、SEMIM35-0299F《使用自動檢查系統(tǒng)探測硅片表面特性的發(fā)展中的規(guī)范指南》、SEMIM50-1101《使用覆蓋的方法確定掃描表面檢查系統(tǒng)捕獲率和虛假計數(shù)率的測試方法》.ASTMF1620—96《應(yīng)用單個分散的聚苯乙烯乳膠球沉積在拋光或外延硅片表面來校準掃描表面檢查系統(tǒng)的標(biāo)準規(guī)程》ASTMF1621—96《對掃描表面檢查系統(tǒng)的定位準確性能力測定的標(biāo)準規(guī)程》及SEMATECH技術(shù)轉(zhuǎn)移文件SEMATECH99083800D-TR《一個改進的高精度掃描校準標(biāo)準的先進顆粒尺寸測量技術(shù)》等標(biāo)準編制。本標(biāo)準由中國有色金屬工業(yè)協(xié)會提出，本標(biāo)準由全國有色金屬標(biāo)準化技術(shù)委員會歸口本標(biāo)準起草單位：北京有色金屬研究總院本標(biāo)準主要起草人：孫燕、盧立延、董慧燕、劉紅艷、翟富義本標(biāo)準由全國有色金屬標(biāo)準化技術(shù)委員會負責(zé)解釋，本標(biāo)準為首次發(fā)布。

GB/T19921-2005硅拋光片表面顆粒沽污是影響半導(dǎo)體器件制造的重要因素，也是一個重要的材料驗收參數(shù)。但是到目前為止.國際上還沒有拋光片表面顆粒的測試方法標(biāo)準,只有相關(guān)的幾個專業(yè)標(biāo)準。為滿足我國硅材料的生產(chǎn)使用的需求，同時考慮到與國際相關(guān)標(biāo)準的接軌.我們在對國際相關(guān)標(biāo)準充分理解、吸收的基礎(chǔ)上.綜合我國硅材料的生產(chǎn)使用情況及國際上硅材料的生產(chǎn)和微電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和現(xiàn)狀編制了本標(biāo)準。本標(biāo)準是一個硅拋光片表面顆粒測試的指導(dǎo)文件。從應(yīng)用角度提出了對顆粒檢測的環(huán)境、設(shè)備、?；醇皽y量等方面的要求。

GB/T19921-2005硅拋光片表面顆粒測試方法范圍本標(biāo)準規(guī)定了應(yīng)用掃描表面檢查系統(tǒng)（SSIS)對硅拋光片表面顆粒進行測試、計數(shù)和報告的程序本標(biāo)準適用于硅拋光片.也可適用于硅外延片或其他鏡面拋光片(如化合物拋光片)。本標(biāo)準也可適用于觀測硅拋光片表面的劃痕、桔皮、凹坑、波紋等缺陷,但這些缺陷的檢測、分類依賴于設(shè)備的功能，并與檢測時的初始設(shè)暨有關(guān)?。罕緲?biāo)準涉及的方法通常選用波長（488~633)nm的激光光源，最常用的是488nm的氬離子激光器；目前可測量的最小顆粒直徑約為0.06km或更小些。規(guī)范性引用文件下列文件中的條款通過本標(biāo)準的引用而成為本標(biāo)準的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有的修改單(不包括勒誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準,然而，鼓勵根據(jù)本標(biāo)準達成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標(biāo)準。ASTMF1620—96應(yīng)用單個分散的聚苯乙烯乳膠球沉積在拋光或外延硅片表面來校準掃描表面檢查系統(tǒng)的標(biāo)準規(guī)程(所有部分)ASTMF1621—96對掃描表面檢查系統(tǒng)的定位準確性能力測定的標(biāo)準規(guī)程(所有部分)SEMIM1-0302硅單品拋光片規(guī)范3術(shù)語和定義下列術(shù)語和定義適用于本標(biāo)準捕獲率Capturerate掃描表面檢查系統(tǒng)在一-確定的設(shè)置下運行時，檢查系統(tǒng)探測到的局部光散射體的乳膠球當(dāng)量信號的概率。3.2動態(tài)范圍dynamicrange隨著一種測試條件的設(shè)定，掃描表面檢查系統(tǒng)可收集信號的覆蓋范圍33等效尺寸準確度cquivalentsizingaccuracy在拋光片上沉積的、特定標(biāo)稱尺寸的、單個分散的聚苯乙烯乳膠球的測量尺寸分布的變化系數(shù)與由聚苯乙烯乳膠球狀懸浮體供應(yīng)商所提供的球的標(biāo)稱尺寸分布的變化系數(shù)之比、3.4延伸光散射體extendedlightscatterer種特征,比檢測設(shè)備的空間分辨率大。位于品片表面或近表面，因而引起了相對于品片周圍光

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