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FilmIssuesDougPelleymounter&KenNauman高級(jí)應(yīng)用工程師1薄膜問(wèn)題和其它系統(tǒng)的最優(yōu)方案用于反應(yīng)濺射的閉環(huán)控制Lambda探測(cè)儀殘余氣體分析儀（RGA）等離子體發(fā)射監(jiān)控器(PEM)外部電壓控制新的Crystal?

電壓控制帶有多倍射頻供應(yīng)的公共激勵(lì)振蕩器(CEX)和相移交流陽(yáng)極下降氣流均勻性薄膜應(yīng)力和粘著力濺射速率SiO2二氧化硅結(jié)晶控制厚度AZO氧化鋅鋁vs.ITO氧化銦錫vs.CdSte每種陶瓷的成本(合金,聯(lián)合濺射,等等.)2薄膜問(wèn)題

提問(wèn)與解答時(shí)間3

Nasdaq?GM:AEIS

ENG-FilmIssues-150-039/24/2008Specificationsaresubjecttochangewithoutnotice.AdvancedEnergy?,Crystal?,FlatPanelFocusSM,PVSunTimesSM,andSputterSpotlight?areU.S.trademarksofAdvancedEnergyIndustries,Inc.2008AdvancedEnergyIndustri

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