二楊氏雙縫干涉1裝置與圖象課件_第1頁
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文檔簡介

二.楊氏雙縫干涉 1.裝置 與圖象:x干涉屏幕上某處: E1= E cos(t1+) E2 = E cos(t2+) E = E1 + E2當(dāng)位相差 =(t2 +)-(t1 +)= (t2 - t1)=2(r2 - r1)/ c =2/(r2 r1)= E 為最大與最小,上公式稱為干涉的明暗條件。2.明暗條件 見圖:r1r2上式中:r = r 2 r1稱為光波在真空中的波程差,明暗條件可寫為: 設(shè)雙縫間距為d,縫與屏距離為L,干涉位置為x,則有:r = d sind Lsinx/L明紋位置:暗紋位置:三.洛埃鏡(Lloyods mirror)1.裝置 見圖S為虛光源,實質(zhì)是入射光與反射光的干涉。平面反射鏡干涉條紋與楊氏雙縫相同,但只有上半部分。O2.半波損失:將屏幕移向平面鏡,在O點為暗條紋。說明什么?反射時振動方向出現(xiàn)突變,位相變化,相當(dāng)于多走半個波長。稱為反射時的半波損失(half wave loss)。何時出現(xiàn)半波損失? 光從光疏介質(zhì)(optically thinner medium)射到光密介質(zhì)(optically denser medium)時,反射光才有半波損失

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